JPH0731539Y2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔概要〕 半導体ウエハー又はマスク等に微細パターンを露光する
電子ビーム露光装置等に用いる基板処理装置に関し、 被処理物体の生産性の向上及び歩留り向上を目的とし、 異なるサイズ、形状の被処理物体を連続して処理する装
置において、被処理物体を装着し、処理室まで搬送する
ための、異なる複数種類の処理物体搬送用カセットを複
数個有するカセットストッカーを持ち、各種処理物体の
一枚毎にそれぞれ適応するカセットを前記カセットスト
ッカーから選択し、被処理物体を装着して処理室に搬送
するように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本考案は半導体ウエハー又はマスク等に微細パターンを
露光する電子ビーム露光装置等に用いる基板処理装置に
関する。

〔従来の技術〕

電子ビーム露光装置は、第４図に示すように電子ビーム
コラム部１によって形成された微細なパターンを、真空
チャンバ２内に設けられたXYステージ３上の被処理物体
４に１ショット毎に照射し、半導体回路等のパターンを
形成するものである。

ここで被処理物体４である半導体ウエハー又はフォトマ
スクは、XYステージ３上での位置決めを容易にするため
や、被処理物体４の搬送中の保護等のため、図中の処理
物体搬送用カセット５に装着されている。処理物体搬送
用カセット５と被処理物体４は、位置決め固定されてい
るので、処理物体搬送用カセット５をXYステージ３上に
位置決めすると被処理物体４が自動的に露光経路に対し
て位置決めされることになる。

第５図は従来の処理物体搬送用カセットの交換機を持つ
電子ビーム露光装置示す図である。この例では、処理物
体搬送用カセットＡに装着された被処理物体４を露光室
７で露光中に被処理物体着脱部８で処理物体搬送用カセ
ットＢにイン側キャリア９から次の被処理物体４を装着
する。この被処理物体４を装着した処理物体搬送用カセ
ットＢは、ロードロック及び処理物体搬送用カセット交
換部10に運ばれ真空引きして待機する。露光の終わった
処理物体搬送用カセットＡは、ロードロック及び処理物
体搬送用カセット交換部10にて処理物体搬送用カセット
Ｂと交換され、この処理物体搬送用カセットＢがXYステ
ージ３上にのる。処理物体搬送用カセットＡはロードロ
ック及び処理物体搬送用カセット交換部10にて大気に開
放され、被処理物体着脱部８に運ばれ、露光済の被処理
物体４がアウト側キャリア11に収納される。以下上記工
程が２枚の処理物体搬送用カセットA,Bを用いて繰返さ
れる。

このような電子ビーム露光装置では、被処理物体４のサ
イズ、形状が異なるものを露光する場合、それを装着す
る処理物体搬送用カセットの種類が変わることであり、
このため２枚の処理物体搬送用カセットA,Bを該当する
処理物体搬送用カセットに交換する必要がある。

第６図は従来の処理物体搬送用カセットを示す図であ
る。これは外側基板14と被処理物体４（ここではフォト
マスク）を固定するばね15と、平面レベルを出すための
押え板16とよりなる。

第７図は被処理物体に対応する処理物体搬送用カセット
の例である。同図（ａ）は小さいマスクに対応するも
の、（ｂ）は大きいマスクに対応するもの、（ｃ）は丸
形マスクに対応するものであるが、外形は全て同じであ
るので、これらを搬送する搬送路に問題はない。

〔考案が解決しようとする課題〕 上記従来の電子ビーム露光装置では異なるサイズ、形状
のフォトマスクを露光する時に２枚の処理物体搬送カセ
ットを回収し、該当処理物体搬送カセットを２枚セット
するための時間的ロスがあり、また人手を介するので処
理物体搬送用カセット及びフォトマスクへの塵、水分等
が付着し、被処理物体に不良を生じ歩留りを低下させる
等の問題があった。

本考案は上記従来の問題点に鑑み、被処理物体の生産性
の向上及び歩留り向上を目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本考案の原理説明図である。同図において、20
はカセットストッカーであり、該カセットストッカー20
は、大きさが異なる処理物体を各別々に装着できる複数
枚の処理物体搬送用カセット５を収納している。８は被
処理物体着脱部であり、被処理物体（マスク）４のセン
ターを処理物体搬送用カセット５のセンターに合わせる
もので異なるサイズ、形状の被処理物体４をキャリア９
にセットしておくことにより対応できるものである。キ
ャリアは各種被処理物体４のセンターが一致するように
なっている。

〔作用〕

異なる種類の処理物体搬送用カセット５の交換は、被処
理物体着脱部８にある処理物体搬送用カセット５をカセ
ットストッカー20へ収納し、エレベータ構造になってい
る同ストッカー20より新しい処理物体搬送用カセット５
を取り出し、被処理物体着脱部８にセットするようにな
っている。

〔実施例〕

第２図は本考案の実施例を示す図である。

本実施例の基板処理装置は図面に示すように被処理物体
着脱部８と処理物体搬送カセット搬送アーム12と、カセ
ットストッカー20とよりなり、該カセットストッカー20
は複数の棚20aを有し、エレベータ構造でモータ20bによ
り上下できるようになっており、複数の棚20aには、大
きさ又は形状の異なる被処理物体を装着できる処理物体
搬送用カセット5_-1，5_-2，5_-3等が２枚づつ収容されて
いる。また被処理物体着脱部８には処理物体搬送用カセ
ット５を固定するためのカセット押上げシリンダー8aと
ばね押下げシリンダ8bとが設けられている。また処理物
体搬送用カセット搬送アーム12はモータ12aで駆動され
カセットストッカー20から被処理物体着脱部８へ、また
はその逆方向に処理物体搬送用カセット５を搬送できる
ようになっている。

このように構成された本実施例は第３図に示す制御系に
より制御される。

即ち、露光スケジュールを格納していてビーム制御及び
XYステージ制御を行なう露光制御CPU21に被処理物体交
換制御部22が接続され、該被処理物体交換制御部22には
第２図の基板及び処理装置23とキャリア検知センサ24が
接続されている。そしてキャリア検知センサ24はキャリ
ア９にどのタイプの被処理物体（マスク）がセットされ
ているかをキャリアの特徴により検出し、被処理物体交
換制御部22に情報を入れる。これにより被処理物体交換
制御部22は基板処理装置23を制御して処理物体搬送用カ
セット５を被処理物体（マスク）に適応した処理物体搬
送用カセット５に交換し、被処理物体着脱部８に搬送
し、そこで被処理物体（マスク）を装着するのである。
以下第５図で説明した同様な手順により被処理物体４に
対する露光及びその後の処理が行われるのである。

このように処理することができる本実施例は、人手を要
しないため作業効率は向上し、また人体からの塵等の付
着もないため被処理物体の製造歩留りも向上する。

〔考案の効果〕

以上説明した様に、本考案によれば、異なる種類の被処
理物体に対応する処理物体搬送用カセットが自動で交換
でき、露光のタクトを妨げることなく製造ラインが流れ
るため、製産効率に寄与するところが大きい。また人手
を介入することがなくなつたので、塵、水分等汚れによ
る不良品の発生率が減り、歩留りの向上が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の原理説明図、 第２図は本考案の実施例を示す図、 第３図は本考案の実施例の制御系を示す図、 第４図は従来の電子ビーム露光装置を示す図、 第５図は従来の処理物体搬送用カセットの交換機を持つ
電子ビーム露光装置を示す図、 第６図は従来の処理物体搬送用カセットを示す図、 第７図は大きさ、形状の異なる被処理物体に対応する処
理物体搬送用カセットの３例を示す図である。 図において、 ３はXYステージ、４は被処理物体、５は処理物体搬送用
カセット、７は露光室、８は被処理物体着脱部、９はイ
ン側キャリア、10はロードロック及び処理物体搬送用カ
セット交換部、11はアウト側キャリア、12は処理物体搬
送用カセット搬送アーム、20はカセットストッカー、21
は露光制御部CPU、22は被処理物体交換制御部、23は基
板処理装置、24はキャリア検知センサ を示す。

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】異なるサイズ、形状の被処理物体を連続し
   て処理する装置において、 前記被処理物体（４）を装着して処理室まで搬送するた
   めの異なる複数種類の処理物体搬送用カセット（５）を
   複数個収容するための複数段の棚を有し、且つ該複数個
   のカセット（５）から各種被処理物体（４）の一枚毎に
   それぞれ適応するカセット（５）を選択するための駆動
   装置を有するカセットストッカー（20）と、該カセット
   ストッカー（20）から搬送手段により搬送された前記選
   択したカセット（５）に被処理物体（４）を着脱する被
   処理物体着脱部（８）と、該被処理物体着脱部（８）に
   おいて前記被処理物体（４）を装着した前記カセット
   （５）を処理室に搬送する搬送手段とを具備して成るこ
   とを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】前記駆動装置は、モータ（20b）により上
   下に駆動されるエレベータ構造であることを特徴とする
   請求項１の基板処理装置。