JPH0251163B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明は湿式法にて得られる反射防止プラスチ
ツク光学部品に関するものである。 光学部品とは、窓用透明板、照明器具カバー、
眼鏡、光学機器の部品などの様にそれを介して反
対側からの光を透過させる為に使用されるものを
指し、近年この様な分野にプラスチツク、たとえ
ばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート（CR−
39）が使用される頻度は、益々高まつている。 ところがこの様なプラスチツクは一般に耐擦傷
性、耐溶剤性が乏しいという欠点があり、この欠
点を補う為に様々な工夫がなされている。 すなわち、この様なプラスチツクの表面を改質
する方法としてガラスを貼りつけてラミネートに
したり、硬化性樹脂塗料を塗布し、乾燥させ被覆
する方法等が種々提案されている。 他方光学部品の光透過性を高め、または光の表
面反射を防止する為の試みは数多く行なわれてお
り既に実用化の段階に入つている。これらは真空
蒸着、プラズマ処理、イオンプレーテイング、ス
パツタリング、CVDなどすべて真空系の乾式方
法でプラスチツク表面に単層または多層の被覆を
施したものであり、表面硬度の改良も一部兼ね備
えている。単層の場合は一般にSiO2膜やMgF2膜
であり、多層の場合は、SiO2、MgF2、Sb2O3、
CeO2、La2O3、PbF3、Pr6O11、SiO、TiO2、
ThO2、ZnS、ZrO2、Si3N4、Ti3N4、Al2O3など
の金属の酸化物、窒化物、硫化物、あるいは沸化
物などを適宜組み合わせて用いられる。またこれ
ら真空系の乾式方法で形成される反射防止膜とプ
ラスチツク基材との間に有機物あるいは無機物の
層を乾式方法または湿式方法で設けることも知ら
れている。 これらの反射防止膜は、真空蒸着に代表される
様にすべて真空系の乾式方法で形成されるもので
ある。従つて系を真空にする必要があり、設備費
がかかり更に大きなプラスチツク基材への反射防
止膜の形成が困難である。 湿式法で反射防止性能を得る方法として、特開
昭53−52390に透明基板上に熱可塑性樹脂の水系
エマルジヨンからなる気泡を有する薄膜を形成す
る方法が開示されている。また特開昭55−110201
にレンズの表面最上部に２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートを主体とした液をλ／４の厚みに塗
布、硬化し防曇性能と反射防止機能を付与するこ
とが開示されている。しかしこれらはいずれも耐
擦傷性、耐水性、耐溶剤性が不充分である。特開
昭50−93659には、特殊染料の染色溶液で合成樹
脂製レンズを着色することによつて防眩効果を得
る方法が開示されているが、耐擦傷性は合成樹脂
製レンズのそれと同様で不充分でありレンズとし
ての実用性に乏しい。 本発明者らはこの様な欠点を解消し、湿式法に
よる反射防止膜の形成を研究した結果、湿式法で
反射防止機能と耐擦傷性を併有する膜を形成でき
ることを見い出し、本発明に到つた。 すなわち本発明は、 (1) プラスチツク製光学部品表面の少なくとも１
面に、下記(イ)および(ロ) (イ) 一般式(2)で示される化合物および／または
一般式(3)で示される化合物 (ロ) コロイダルシリカ をともに含む組成物を被覆硬化してなる相対
的に高い屈折率を有するポリシロキサン系耐
摩耗性被覆を形成し、その上に下記(ハ)または
(ニ) (ハ) 一般式(1)で示される珪素化合物および／ま
たはその加水分解物 (ニ) 上記(ハ)およびコロイダルシリカ を含む組成物を被覆硬化して、相対的に低い
屈折率と、800−1500オングストロームの物
理的膜厚と、1000−2000オングストロームの
範囲内でかつλ／４にほぼ等しい光学的膜厚
（ここにおいてλは可視光の関係波長を表わ
す）を有する反射防止膜を形成してなる反射
防止光学部品である。ここにおいて一般式(1)
−(3)は次の通りである。 一般式(1) R1 aSi（OR2）4-a (1) （式中R1はフツ素原子を有する有機基、R2は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ａは１−３） 一般式(2) R3 bSi（OR4）4-b (2) （式中R3は炭素数１−６の炭化水素基、R4は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ｂは０−３） 一般式(3) R5 cSi（OR6）4-c (3) （式中R5はエポキシ基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、または塩素原
子を有する有機基、R6は炭素数１−４の炭化水
素基、アルコキシアルキル基または炭素数１−４
のアシル基、ｃは１−３） 本発明の湿式法にて反射防止被膜を形成するコ
ーテイング組成物は、コロイダルシリカ、下記一
般式(1)で示される珪素化合物及び一般式(1)で示さ
れる珪素化合物の加水分解から選ばれる１種もし
くは２種以上からなる。 R1aSi（OR2）4-a (1) （式中R1はフツ素原子を有する有機基、R2は炭
素数１〜４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１〜４のアシル基、ａは０〜４）前
記コロイダルシリカとは粒径１〜100ｍμのシリ
カの超微粒子を水またはアルコール系分散媒に分
散せしめたゾルまたはこのゾルから分散媒を除去
した乾燥粉末であり、周知の方法で製造され市販
されているものである。 前記一般式(1)で示される珪素化合物の具体例と
しては、（３，３，３−トリフルオロプロピル）
トリメトキシシラン、４−ヒドロオクタフルオロ
ブチルトリメトキシシラン、１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルトリメトキシシランを挙げる
ことができる。 またこれら一般式(1)で示される珪素化合物の加
水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基、アシルオキシ基の一部
または全部が水酸基に置換されたものおよび置換
された水酸基同志が一部自然に縮合したものを含
んでいる。これらの加水分解物は、公知の様にた
とえば水とアルコールの如き混合溶媒中、酸の存
在下で加水分解することによつて得られる。 湿式法にて反射防止被覆を形成するコーテイン
グ組成物は、前記コロイダルシリカ、一般式(1)で
示される珪素化合物およびそれらの加水分解物か
ら選ばれる一種もしくは２種以上を含む。 また本発明の反射防止被膜を形成するコーテイ
ング組成物にメチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、及びγ
−アミノプロピルトリメトキシシラン等の珪素化
合物をコーテイング組成物中に固形分で80重量％
以下の範囲で混合して併用することも可能であ
る。 本発明に用いられるコーテイング組成物に含ま
せてよい溶剤としては、水、アルコール類、ケト
ン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、
ハロゲン化合物、カルボン酸類、芳香族化合物等
を挙げることができ、これらのうちの１種または
２種以上の混合溶剤として用いることができる。
特にメタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ギ
酸、酢酸等の低級アルキルカルボン酸類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族化合物および酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類等を単独もしくは
混合溶剤として用いることが好ましい。 更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにフロ
ーコントロール剤、また硬化反応を充分進行させ
る為に硬化触媒等を添加することができる。 本発明におけるコーテイング組成物をプラスチ
ツク製光学部品の１面または全面に湿式法にて塗
布、乾燥し効果的な反射防止被膜を得る為には反
射防止被膜の膜厚をコントロールする必要があ
る。すなわち反射防止被膜の膜厚が約10μ以上の
厚膜となると該反射防止被膜の上面及び下面での
反射光は干渉を起さないので反射防止の効果が得
られ難くなる。反射防止被膜の屈折率をn1、反射
防止被膜が接しているプラスチツク側の層の屈折
率をn2とすれば、反射を最小にするためには、
n1 2＝n0・n2、（n0は空気の屈折率）なる関係を満
たさねばならない。 他方の反射防止被膜の膜厚が1μ以下であると
反射防止被膜の上面及び下面での反射光は干渉を
起し、反射を最小にするためには、反射防止被膜
の光学的膜厚がｎ／4λ（ｎは正の寄数、λは関係
波長）でかつn1 2＝n0・n2なる関係を満たさねば
ならない。本発明の反射防止被膜を形成するコー
テイング組成物を前記の厚膜として用いると塗膜
の耐熱性、耐候性及び付着性が不良となり1μ以
下の薄膜として用いなければならない。また、こ
の厚みが0.05ミクロン（500オングストローム）
未満の場合には、膜の耐擦傷性が不良となり、か
つ前記反射防止条件を満足しなくなる。 従つて膜厚は0.05ミクロン以上である必要があ
る。より好ましい物理的膜厚は800〜1500オング
ストロームである。また好ましい光学的膜厚
（nd）は更にたとえば波長5600Åで反射を最小に
しようとすれば、光学的膜厚は、1400Åとなる。
従つて塗膜の屈折率を測定することにより塗膜の
物理的膜厚の最適値を求めることができる。本発
明のコーテイングは浸漬法、噴霧法、スピンコー
テイング法、ローラコーテイング法または、フロ
ーコート法等のコーテイング方法によつて均一に
コーテイング後、硬化することにより効果的な反
射防止被膜が得られる。 更に、前記コロイダルシリカのみ、またはコロ
イダルシリカを主成分とする組成物からなる硬化
被覆膜は、反射防止性能と防曇性能を併せ有す
る。 なお、前記反射防止被膜の反射防止効果を向上
させる為にこの被膜の下に適当な屈折率及び膜厚
を有する被膜を、湿式法にて形成し、多層反射防
止被膜とすることも可能である。 次に前記反射防止被膜を形成する前にプラスチ
ツク光学部品表面の少なくとも１面に施してもよ
い耐摩耗性被膜について記す。この耐摩耗性被膜
はポリシロキサン系、アクリルポリマー系、メラ
ミン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、及び
これらの誘導体から選ばれる１種もしくは２種以
上である。 耐摩耗性ポリシロキサン系被膜とは、一般式
(2)、(3)で示される化合物、それらの加水分解物及
びコロイダルシリカから選ばれる１種もしくは２
種以上を含むコーテイング組成物をプラスチツク
基材に塗布、硬化して得られる。 R3bSi（OR4）4-b (2) （式中R3は炭素数１〜６の炭化水素基、R4は炭
素数１〜４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１〜４のアシル基、ｂは０〜３） R5cSi（OR6）4-c (3) （式中R5はエポキシ基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、塩素原子また
はフツ素原子を有する有機基、R6は炭素数１〜
４の炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭
素数１〜４のアシル基、ｃは１〜３）たとえば、
メチルトリメトキシシランとγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランとの共加水分解物、Ｎ
−Ｂ−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシランとγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランの共加水分解物、テトラエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン及びコロイダルシリカの共加水分解物及び
これら珪素化合物および／またはそれらの加水分
解物にアクリルポリマー、エポキシ樹脂等の有機
化合物を併用した組成物が挙げられる。 アクリルポリマー系としてはグリシジルメタク
リレートとメタクリル酸メチル共重合体、メチル
メタクリレート、アクリル酸及びスチレン共重合
体等があり、これらに各種の硬化剤を用いる組成
物またはエチレングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート等を
紫外線で硬化させる系が挙げられる。 メラミン系としては、ヘキサメトキシメチルメ
ラミンとエチレングリコールの組み合わせ、ヘキ
サメトキシメチルメラミンと硝化綿との組み合わ
せ等が挙げられる。 ポリウレタン系としては、アジピン酸、ヘキサ
メチレングリコール及びビス（４−イソシアナト
シクロヘキシル）メタン縮合物が挙げられる。 ポリエステル系としては、トリメチロールプロ
パンとイソフタル酸の組み合わせ、ペンタエリト
リツトとアジピン酸の組み合わせ等が挙げられ
る。これらのうち好ましい耐摩耗性被膜は、ポリ
シロキサン系被膜である。 より好ましい耐摩耗性被膜を形成する組成物
は、下記(A)、(B)及び(C)を含有するコーテイング組
成物である。すなわち (A) 一般式(5)
ツク光学部品に関するものである。 光学部品とは、窓用透明板、照明器具カバー、
眼鏡、光学機器の部品などの様にそれを介して反
対側からの光を透過させる為に使用されるものを
指し、近年この様な分野にプラスチツク、たとえ
ばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート（CR−
39）が使用される頻度は、益々高まつている。 ところがこの様なプラスチツクは一般に耐擦傷
性、耐溶剤性が乏しいという欠点があり、この欠
点を補う為に様々な工夫がなされている。 すなわち、この様なプラスチツクの表面を改質
する方法としてガラスを貼りつけてラミネートに
したり、硬化性樹脂塗料を塗布し、乾燥させ被覆
する方法等が種々提案されている。 他方光学部品の光透過性を高め、または光の表
面反射を防止する為の試みは数多く行なわれてお
り既に実用化の段階に入つている。これらは真空
蒸着、プラズマ処理、イオンプレーテイング、ス
パツタリング、CVDなどすべて真空系の乾式方
法でプラスチツク表面に単層または多層の被覆を
施したものであり、表面硬度の改良も一部兼ね備
えている。単層の場合は一般にSiO2膜やMgF2膜
であり、多層の場合は、SiO2、MgF2、Sb2O3、
CeO2、La2O3、PbF3、Pr6O11、SiO、TiO2、
ThO2、ZnS、ZrO2、Si3N4、Ti3N4、Al2O3など
の金属の酸化物、窒化物、硫化物、あるいは沸化
物などを適宜組み合わせて用いられる。またこれ
ら真空系の乾式方法で形成される反射防止膜とプ
ラスチツク基材との間に有機物あるいは無機物の
層を乾式方法または湿式方法で設けることも知ら
れている。 これらの反射防止膜は、真空蒸着に代表される
様にすべて真空系の乾式方法で形成されるもので
ある。従つて系を真空にする必要があり、設備費
がかかり更に大きなプラスチツク基材への反射防
止膜の形成が困難である。 湿式法で反射防止性能を得る方法として、特開
昭53−52390に透明基板上に熱可塑性樹脂の水系
エマルジヨンからなる気泡を有する薄膜を形成す
る方法が開示されている。また特開昭55−110201
にレンズの表面最上部に２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートを主体とした液をλ／４の厚みに塗
布、硬化し防曇性能と反射防止機能を付与するこ
とが開示されている。しかしこれらはいずれも耐
擦傷性、耐水性、耐溶剤性が不充分である。特開
昭50−93659には、特殊染料の染色溶液で合成樹
脂製レンズを着色することによつて防眩効果を得
る方法が開示されているが、耐擦傷性は合成樹脂
製レンズのそれと同様で不充分でありレンズとし
ての実用性に乏しい。 本発明者らはこの様な欠点を解消し、湿式法に
よる反射防止膜の形成を研究した結果、湿式法で
反射防止機能と耐擦傷性を併有する膜を形成でき
ることを見い出し、本発明に到つた。 すなわち本発明は、 (1) プラスチツク製光学部品表面の少なくとも１
面に、下記(イ)および(ロ) (イ) 一般式(2)で示される化合物および／または
一般式(3)で示される化合物 (ロ) コロイダルシリカ をともに含む組成物を被覆硬化してなる相対
的に高い屈折率を有するポリシロキサン系耐
摩耗性被覆を形成し、その上に下記(ハ)または
(ニ) (ハ) 一般式(1)で示される珪素化合物および／ま
たはその加水分解物 (ニ) 上記(ハ)およびコロイダルシリカ を含む組成物を被覆硬化して、相対的に低い
屈折率と、800−1500オングストロームの物
理的膜厚と、1000−2000オングストロームの
範囲内でかつλ／４にほぼ等しい光学的膜厚
（ここにおいてλは可視光の関係波長を表わ
す）を有する反射防止膜を形成してなる反射
防止光学部品である。ここにおいて一般式(1)
−(3)は次の通りである。 一般式(1) R1 aSi（OR2）4-a (1) （式中R1はフツ素原子を有する有機基、R2は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ａは１−３） 一般式(2) R3 bSi（OR4）4-b (2) （式中R3は炭素数１−６の炭化水素基、R4は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ｂは０−３） 一般式(3) R5 cSi（OR6）4-c (3) （式中R5はエポキシ基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、または塩素原
子を有する有機基、R6は炭素数１−４の炭化水
素基、アルコキシアルキル基または炭素数１−４
のアシル基、ｃは１−３） 本発明の湿式法にて反射防止被膜を形成するコ
ーテイング組成物は、コロイダルシリカ、下記一
般式(1)で示される珪素化合物及び一般式(1)で示さ
れる珪素化合物の加水分解から選ばれる１種もし
くは２種以上からなる。 R1aSi（OR2）4-a (1) （式中R1はフツ素原子を有する有機基、R2は炭
素数１〜４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１〜４のアシル基、ａは０〜４）前
記コロイダルシリカとは粒径１〜100ｍμのシリ
カの超微粒子を水またはアルコール系分散媒に分
散せしめたゾルまたはこのゾルから分散媒を除去
した乾燥粉末であり、周知の方法で製造され市販
されているものである。 前記一般式(1)で示される珪素化合物の具体例と
しては、（３，３，３−トリフルオロプロピル）
トリメトキシシラン、４−ヒドロオクタフルオロ
ブチルトリメトキシシラン、１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルトリメトキシシランを挙げる
ことができる。 またこれら一般式(1)で示される珪素化合物の加
水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、
アルコキシアルコキシ基、アシルオキシ基の一部
または全部が水酸基に置換されたものおよび置換
された水酸基同志が一部自然に縮合したものを含
んでいる。これらの加水分解物は、公知の様にた
とえば水とアルコールの如き混合溶媒中、酸の存
在下で加水分解することによつて得られる。 湿式法にて反射防止被覆を形成するコーテイン
グ組成物は、前記コロイダルシリカ、一般式(1)で
示される珪素化合物およびそれらの加水分解物か
ら選ばれる一種もしくは２種以上を含む。 また本発明の反射防止被膜を形成するコーテイ
ング組成物にメチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、及びγ
−アミノプロピルトリメトキシシラン等の珪素化
合物をコーテイング組成物中に固形分で80重量％
以下の範囲で混合して併用することも可能であ
る。 本発明に用いられるコーテイング組成物に含ま
せてよい溶剤としては、水、アルコール類、ケト
ン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、
ハロゲン化合物、カルボン酸類、芳香族化合物等
を挙げることができ、これらのうちの１種または
２種以上の混合溶剤として用いることができる。
特にメタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ギ
酸、酢酸等の低級アルキルカルボン酸類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族化合物および酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類等を単独もしくは
混合溶剤として用いることが好ましい。 更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにフロ
ーコントロール剤、また硬化反応を充分進行させ
る為に硬化触媒等を添加することができる。 本発明におけるコーテイング組成物をプラスチ
ツク製光学部品の１面または全面に湿式法にて塗
布、乾燥し効果的な反射防止被膜を得る為には反
射防止被膜の膜厚をコントロールする必要があ
る。すなわち反射防止被膜の膜厚が約10μ以上の
厚膜となると該反射防止被膜の上面及び下面での
反射光は干渉を起さないので反射防止の効果が得
られ難くなる。反射防止被膜の屈折率をn1、反射
防止被膜が接しているプラスチツク側の層の屈折
率をn2とすれば、反射を最小にするためには、
n1 2＝n0・n2、（n0は空気の屈折率）なる関係を満
たさねばならない。 他方の反射防止被膜の膜厚が1μ以下であると
反射防止被膜の上面及び下面での反射光は干渉を
起し、反射を最小にするためには、反射防止被膜
の光学的膜厚がｎ／4λ（ｎは正の寄数、λは関係
波長）でかつn1 2＝n0・n2なる関係を満たさねば
ならない。本発明の反射防止被膜を形成するコー
テイング組成物を前記の厚膜として用いると塗膜
の耐熱性、耐候性及び付着性が不良となり1μ以
下の薄膜として用いなければならない。また、こ
の厚みが0.05ミクロン（500オングストローム）
未満の場合には、膜の耐擦傷性が不良となり、か
つ前記反射防止条件を満足しなくなる。 従つて膜厚は0.05ミクロン以上である必要があ
る。より好ましい物理的膜厚は800〜1500オング
ストロームである。また好ましい光学的膜厚
（nd）は更にたとえば波長5600Åで反射を最小に
しようとすれば、光学的膜厚は、1400Åとなる。
従つて塗膜の屈折率を測定することにより塗膜の
物理的膜厚の最適値を求めることができる。本発
明のコーテイングは浸漬法、噴霧法、スピンコー
テイング法、ローラコーテイング法または、フロ
ーコート法等のコーテイング方法によつて均一に
コーテイング後、硬化することにより効果的な反
射防止被膜が得られる。 更に、前記コロイダルシリカのみ、またはコロ
イダルシリカを主成分とする組成物からなる硬化
被覆膜は、反射防止性能と防曇性能を併せ有す
る。 なお、前記反射防止被膜の反射防止効果を向上
させる為にこの被膜の下に適当な屈折率及び膜厚
を有する被膜を、湿式法にて形成し、多層反射防
止被膜とすることも可能である。 次に前記反射防止被膜を形成する前にプラスチ
ツク光学部品表面の少なくとも１面に施してもよ
い耐摩耗性被膜について記す。この耐摩耗性被膜
はポリシロキサン系、アクリルポリマー系、メラ
ミン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、及び
これらの誘導体から選ばれる１種もしくは２種以
上である。 耐摩耗性ポリシロキサン系被膜とは、一般式
(2)、(3)で示される化合物、それらの加水分解物及
びコロイダルシリカから選ばれる１種もしくは２
種以上を含むコーテイング組成物をプラスチツク
基材に塗布、硬化して得られる。 R3bSi（OR4）4-b (2) （式中R3は炭素数１〜６の炭化水素基、R4は炭
素数１〜４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１〜４のアシル基、ｂは０〜３） R5cSi（OR6）4-c (3) （式中R5はエポキシ基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、塩素原子また
はフツ素原子を有する有機基、R6は炭素数１〜
４の炭化水素基、アルコキシアルキル基または炭
素数１〜４のアシル基、ｃは１〜３）たとえば、
メチルトリメトキシシランとγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランとの共加水分解物、Ｎ
−Ｂ−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシランとγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランの共加水分解物、テトラエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン及びコロイダルシリカの共加水分解物及び
これら珪素化合物および／またはそれらの加水分
解物にアクリルポリマー、エポキシ樹脂等の有機
化合物を併用した組成物が挙げられる。 アクリルポリマー系としてはグリシジルメタク
リレートとメタクリル酸メチル共重合体、メチル
メタクリレート、アクリル酸及びスチレン共重合
体等があり、これらに各種の硬化剤を用いる組成
物またはエチレングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート等を
紫外線で硬化させる系が挙げられる。 メラミン系としては、ヘキサメトキシメチルメ
ラミンとエチレングリコールの組み合わせ、ヘキ
サメトキシメチルメラミンと硝化綿との組み合わ
せ等が挙げられる。 ポリウレタン系としては、アジピン酸、ヘキサ
メチレングリコール及びビス（４−イソシアナト
シクロヘキシル）メタン縮合物が挙げられる。 ポリエステル系としては、トリメチロールプロ
パンとイソフタル酸の組み合わせ、ペンタエリト
リツトとアジピン酸の組み合わせ等が挙げられ
る。これらのうち好ましい耐摩耗性被膜は、ポリ
シロキサン系被膜である。 より好ましい耐摩耗性被膜を形成する組成物
は、下記(A)、(B)及び(C)を含有するコーテイング組
成物である。すなわち (A) 一般式(5)
【式】
（式中R9はエポキシ基を有する有機基、R10は
水素、炭素数１〜６の炭化水素基、ビニル基、
R11は炭素数１〜５の炭化水素基、アルコキシ
アルキル基または炭素数１〜４のアシル基、ｅ
は１〜３、ｆは０〜２であつてｅ＋ｆ≦３であ
る。）で示されるエポキシ基を有する珪素化合
物から選ばれる１種もしくは２種以上の加水分
解物。 (B) 一般式(6)R12g−Si−（OR13）4-g (6) （式中R12は炭素数１〜６の炭化水素基、ビニ
ル基、メタクリロキシ基、アミノ基、メルカプ
ト基、塩素またはフツ素を有する有機基、R13
は炭素数１〜５の炭化水素基、アルコキシアル
キル基または炭素数１〜４のアシル基、ｇは０
〜３）で示される有機珪素化合物の加水分解物
およびコロイダルシリカから選ばれる１種もし
くは２種以上と (C) 硬化触媒 を含有するコーテイング組成物である。 一般式(5)で示される成分(A)のエポキシ基を有
する珪素化合物としてはグリシドキシメチルト
リメトキシシラン、β−グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、ビス（グリシドキ
シメチル）ジメトキシシラン、トリス（グリシ
ドキシプロピル）メトキシシラングリシジルメ
チルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、等がある。 一般式(6)で示される有機珪素化合物としては、
下記の様なものが挙げられる。 すなわちトリメチルメトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、フエニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオ
ロプロピルトリメトキシシラン等がある。 これらは単独でまた２種以上併用しても良い。
成分(B)のうちコロイダルシリカとは、粒径１〜
100ｍμのシリカの超微粒子を水またはアルコー
ル系分散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾルか
ら分散媒を除去した乾燥粉末であり、周知の方法
で製造され、市販されているものである。この組
成物において成分(A)として用いられる前記一般式
(5)で示されるエポキシ基を有する珪素化合物から
選ばれる１種もしくは２種以上の加水分解物およ
び成分(B)の１種として用いられる前記一般式(6)で
示される有機珪素化合物から選ばれる１種もしく
は２種以上の加水分解物とは、該珪素化合物中の
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基またはア
シロオキシ基の一部または全部が水酸基に置換さ
れたものおよび置換された水酸基同志が一部自然
に縮合したものを含んでいる。 これらの加水分解物は、公知の様にたとえば水
とアルコールのごとき混合溶媒中、酸の存在下で
加水分解することによつて得られる。 この組成物において成分(A)と成分(B)の混合量
は、成分(A)の合計100重量部（但し固形分で計算
し、
水素、炭素数１〜６の炭化水素基、ビニル基、
R11は炭素数１〜５の炭化水素基、アルコキシ
アルキル基または炭素数１〜４のアシル基、ｅ
は１〜３、ｆは０〜２であつてｅ＋ｆ≦３であ
る。）で示されるエポキシ基を有する珪素化合
物から選ばれる１種もしくは２種以上の加水分
解物。 (B) 一般式(6)R12g−Si−（OR13）4-g (6) （式中R12は炭素数１〜６の炭化水素基、ビニ
ル基、メタクリロキシ基、アミノ基、メルカプ
ト基、塩素またはフツ素を有する有機基、R13
は炭素数１〜５の炭化水素基、アルコキシアル
キル基または炭素数１〜４のアシル基、ｇは０
〜３）で示される有機珪素化合物の加水分解物
およびコロイダルシリカから選ばれる１種もし
くは２種以上と (C) 硬化触媒 を含有するコーテイング組成物である。 一般式(5)で示される成分(A)のエポキシ基を有
する珪素化合物としてはグリシドキシメチルト
リメトキシシラン、β−グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、ビス（グリシドキ
シメチル）ジメトキシシラン、トリス（グリシ
ドキシプロピル）メトキシシラングリシジルメ
チルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、等がある。 一般式(6)で示される有機珪素化合物としては、
下記の様なものが挙げられる。 すなわちトリメチルメトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、フエニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオ
ロプロピルトリメトキシシラン等がある。 これらは単独でまた２種以上併用しても良い。
成分(B)のうちコロイダルシリカとは、粒径１〜
100ｍμのシリカの超微粒子を水またはアルコー
ル系分散媒に分散せしめたゾルまたはこのゾルか
ら分散媒を除去した乾燥粉末であり、周知の方法
で製造され、市販されているものである。この組
成物において成分(A)として用いられる前記一般式
(5)で示されるエポキシ基を有する珪素化合物から
選ばれる１種もしくは２種以上の加水分解物およ
び成分(B)の１種として用いられる前記一般式(6)で
示される有機珪素化合物から選ばれる１種もしく
は２種以上の加水分解物とは、該珪素化合物中の
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基またはア
シロオキシ基の一部または全部が水酸基に置換さ
れたものおよび置換された水酸基同志が一部自然
に縮合したものを含んでいる。 これらの加水分解物は、公知の様にたとえば水
とアルコールのごとき混合溶媒中、酸の存在下で
加水分解することによつて得られる。 この組成物において成分(A)と成分(B)の混合量
は、成分(A)の合計100重量部（但し固形分で計算
し、
【式】として計算する。）に対
し成分(B)の合計0.05〜300重量部（但し固形分で
計算し、一般式(6)で示される有機珪素化合物は
計算し、一般式(6)で示される有機珪素化合物は
【式】として計算する。
コロイダルシリカはSiO2として計算された固
形分で計算する。）の範囲で用いることが好まし
い。成分(C)の硬化触媒としては、酸、塩基、有機
酸金属塩、ホウフツ化金属塩、ホウ酸有機エステ
ル、チタネートエステル類、金属アセチルアセト
ネート類、アミン類等がある。より好ましい触媒
は、過塩素酸アンモニウムである。 この硬化触媒の添加量は、組成物の固形分に対
して0.05〜10重量％、より好ましくは0.1〜５重
量％である。 耐摩耗性コーテイング組成物に含ませてよい溶
剤としてはアルコール類、ケトン類、エステル
類、エーテル類、セロソルブ類、ハロゲン化物、
カルボン酸類、芳香族化合物等をあげることがで
き、これらのうち１種または２種以上の混合溶剤
として用いることができる。特にメタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール等の低級アルコール。メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセ
ロソルブ類。ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の低級
アルキルカルボン酸類。トルエン、キシレン等の
芳香族化合物。および酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類等を単独もしくは混合溶剤として用
いることが好ましい。 更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにアル
キレンオキシドとジメチルシロキサンとのブロツ
ク共重合体のフローコントロール剤たとえば日本
ユニカー社製NUCシリコンＹ−7006（商品名）等
を添加することができる。これらフローコントロ
ール剤の添加量は、少量で充分でありコーテイン
グ組成物全体に対し0.01〜５重量部％、より好ま
しくは0.03〜３重量％である。 また、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を少量添加
することもできる。この組成物のコーテイングは
通常おこなわれている浸漬法、噴霧法、ローラコ
ーテイング法またはフローコート法等のコーテイ
ング方法によつてコーテイング後、基材の変形温
度（例えば130℃）以下の温度で、20分〜５時間
焼付け、硬化させることにより耐摩耗性、耐熱水
性、付着性及び耐候性が良好な塗膜が得られる。 この塗膜の好ましい厚味は、１〜30ミクロンよ
り好ましくは３〜15ミクロンである。１ミクロン
以下であると耐摩耗性が充分でなく、また、30ミ
クロン以上になるとクラツクが発生しやすくな
る。 既記した様な耐摩耗性被膜を形成しうるコーテ
イング組成物をプラスチツク製光学部品表面の少
なくとも１面に塗布、硬化させ、然る後に前記反
射防止被膜を少なくとも１面に形成すれば、反射
防止機能と耐摩耗性を合わせ持つプラスチツク製
光学部品が得られる。 また、染色可能な耐摩耗性被膜をプラスチツク
製光学部品表面の少なくとも１面に形成後、染色
（ぼかし染色も含む）し、然る後に前記反射防止
被膜を少なくとも１面に形成すれば、反射防止機
能と耐摩耗性を合せ持つ着色透明なプラスチツク
製光学部品が得られる。 以下本発明における若干の実施例を挙げるが、
本発明は以下の実施例によつて何等限定されるも
のではない。なお実施例中の部、％はそれぞれ重
量部、重量％を表わす。 実施例 １ γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
350部、水分散コロイダルシリカ（スノーテツク
ス−Ｃ、日産化業(株)製、固形分20％）、14部、蒸
留水９部及び1.2規定塩酸水溶液３部を混合し80
℃で４時間還流後、57部の溶媒を溜出温度80〜90
℃で溜出した。この様にして得られたコロイダル
シリカを含むγ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物溶液66部にエチルセロソ
ルブ100部及び硬化触媒、フローコントロール剤
を各々少々添加し塗料とした。 この塗料をあらかじめ洗浄したCR−39平板に
浸漬法で塗布し、120℃の熱風乾燥炉で30分間熱
処理した。硬化膜厚は4μであつた。 他方３，３，３−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン15部にイソプロピルアルコール174
部及び蒸留水11部を添加した。この液を前記硬化
被膜処理したCR−39平板に、硬化膜厚が900Åと
なる様スピン法で塗布し、130℃の熱風乾燥炉で
60分間熱処理した。6000Åにおける透過率は、処
理前が92.5％であつたが、処理後は96％まで増加
した。また表面の耐擦傷性も良好であつた。 実施例 ２ γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
150部、メチルトリメトキシシラン72部混合物を
撹拌しながら0.1規定、塩酸水溶液47部を徐々に
添加した後コロイダルシリカ（スノーテツクス−
Ｃ、日産化学(株)製、固形分20％）180部を添加し
80℃で２時間還流した。この様にして得られた加
水分解液320部にエチルセロソルブ165部及び硬化
触媒、フローコントロール剤を各々小々添加し塗
料とした。 この塗料をあらかじめ洗浄したCR−39平板に
浸漬法で塗布し、110℃の熱風乾燥炉で30分間熱
処理した。硬化膜厚は5μであつた。 他方イソプロピルアルコール分散コロイダルシ
リカ（触媒化成工業(株)製、固形分30％）35部、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン４部の混合物にイソプロピルアルコール
390部及び蒸留水10部を添加した。この液を15時
間放置後、前記硬化被膜処理したCR−39平板に
硬化膜厚が1300Å（光学的厚膜1930Å）となる
様、浸漬法で塗布し、125℃の熱風乾燥炉で90分
間熱処理した。5600Åにおける透過率は処理前に
比べ４％アツプした。また表面の耐擦傷性も良好
であつた。 実施例 ３ あらかじめ洗浄したCR−39プラノレンズ（度
の付かないレンズ）に実施例３で用いたγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランとコロイダ
ルシリカを含む塗料を塗布し110℃の熱風乾燥炉
で60分間焼き付けた。この様にして得られた硬化
被覆処理されたCR−39プラノレンズを分散染料
であるSumikaron Blue−Ｅ−FBL（住友化学工
業(株)製）を、３％含む90〜95℃の染色浴でいわゆ
るぼかし染色を行なつた。 他方３，３，３−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン14.7部、エチルシリケート−40（日
本コルコート(株)製）6.3部、蒸留水15部及びイソ
プロピルアルコール380部を混合し、一晩放置し
た後、前記ぼかし染色剤のCR−39プラノレンズ
に硬化膜厚が1100Åとなる様、浸漬法で塗布し
120℃の熱風乾燥炉で60分焼きつけた。このよう
にして得られたCR−39プラノレンズは反射防止
効果を有し、かつぼかし染色レンズとして良好で
あつた。また表面の耐擦傷性も良好であつた。 比較例 １ グリシジルジメタクリレートと２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートとの共重合体を含む塗料
を、あらかじめ洗浄したCR−39プラノレンズに
塗布し、128℃の熱風乾燥炉で60分間焼きつけた。
この様にして得られた硬化被覆処理されたCR−
39プラノレンズは、反射防止機能を有していない
が、表面耐擦傷性は良好であつた。ただし次にこ
の硬化被覆処理されたCR−39プラノレンズに２
−ヒドロキシエチルメタクリレートを含む塗料を
硬化膜厚が1400Åとなる様、スピナー法で塗布し
125℃の熱風乾燥炉で60分間焼きつけた。処理に
伴う透過率の向上は認められず、また耐擦傷性が
極めて不充分であつた。 比較例 ２ イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ
（触媒化成工業(株)製、固形分30％）100部にイソプ
ロピルアルコール50部添加した液をあらかじめ洗
浄したCR−39平板に硬化膜厚が2μとなる様、浸
漬法で塗布し、120℃の熱風乾燥炉で、60分間焼
きつけた。この硬化塗膜は全面に微細クラツク発
生が認められた。
形分で計算する。）の範囲で用いることが好まし
い。成分(C)の硬化触媒としては、酸、塩基、有機
酸金属塩、ホウフツ化金属塩、ホウ酸有機エステ
ル、チタネートエステル類、金属アセチルアセト
ネート類、アミン類等がある。より好ましい触媒
は、過塩素酸アンモニウムである。 この硬化触媒の添加量は、組成物の固形分に対
して0.05〜10重量％、より好ましくは0.1〜５重
量％である。 耐摩耗性コーテイング組成物に含ませてよい溶
剤としてはアルコール類、ケトン類、エステル
類、エーテル類、セロソルブ類、ハロゲン化物、
カルボン酸類、芳香族化合物等をあげることがで
き、これらのうち１種または２種以上の混合溶剤
として用いることができる。特にメタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール等の低級アルコール。メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセ
ロソルブ類。ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の低級
アルキルカルボン酸類。トルエン、キシレン等の
芳香族化合物。および酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類等を単独もしくは混合溶剤として用
いることが好ましい。 更に必要に応じて平滑な塗膜をうるためにアル
キレンオキシドとジメチルシロキサンとのブロツ
ク共重合体のフローコントロール剤たとえば日本
ユニカー社製NUCシリコンＹ−7006（商品名）等
を添加することができる。これらフローコントロ
ール剤の添加量は、少量で充分でありコーテイン
グ組成物全体に対し0.01〜５重量部％、より好ま
しくは0.03〜３重量％である。 また、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を少量添加
することもできる。この組成物のコーテイングは
通常おこなわれている浸漬法、噴霧法、ローラコ
ーテイング法またはフローコート法等のコーテイ
ング方法によつてコーテイング後、基材の変形温
度（例えば130℃）以下の温度で、20分〜５時間
焼付け、硬化させることにより耐摩耗性、耐熱水
性、付着性及び耐候性が良好な塗膜が得られる。 この塗膜の好ましい厚味は、１〜30ミクロンよ
り好ましくは３〜15ミクロンである。１ミクロン
以下であると耐摩耗性が充分でなく、また、30ミ
クロン以上になるとクラツクが発生しやすくな
る。 既記した様な耐摩耗性被膜を形成しうるコーテ
イング組成物をプラスチツク製光学部品表面の少
なくとも１面に塗布、硬化させ、然る後に前記反
射防止被膜を少なくとも１面に形成すれば、反射
防止機能と耐摩耗性を合わせ持つプラスチツク製
光学部品が得られる。 また、染色可能な耐摩耗性被膜をプラスチツク
製光学部品表面の少なくとも１面に形成後、染色
（ぼかし染色も含む）し、然る後に前記反射防止
被膜を少なくとも１面に形成すれば、反射防止機
能と耐摩耗性を合せ持つ着色透明なプラスチツク
製光学部品が得られる。 以下本発明における若干の実施例を挙げるが、
本発明は以下の実施例によつて何等限定されるも
のではない。なお実施例中の部、％はそれぞれ重
量部、重量％を表わす。 実施例 １ γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
350部、水分散コロイダルシリカ（スノーテツク
ス−Ｃ、日産化業(株)製、固形分20％）、14部、蒸
留水９部及び1.2規定塩酸水溶液３部を混合し80
℃で４時間還流後、57部の溶媒を溜出温度80〜90
℃で溜出した。この様にして得られたコロイダル
シリカを含むγ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランの加水分解物溶液66部にエチルセロソ
ルブ100部及び硬化触媒、フローコントロール剤
を各々少々添加し塗料とした。 この塗料をあらかじめ洗浄したCR−39平板に
浸漬法で塗布し、120℃の熱風乾燥炉で30分間熱
処理した。硬化膜厚は4μであつた。 他方３，３，３−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン15部にイソプロピルアルコール174
部及び蒸留水11部を添加した。この液を前記硬化
被膜処理したCR−39平板に、硬化膜厚が900Åと
なる様スピン法で塗布し、130℃の熱風乾燥炉で
60分間熱処理した。6000Åにおける透過率は、処
理前が92.5％であつたが、処理後は96％まで増加
した。また表面の耐擦傷性も良好であつた。 実施例 ２ γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
150部、メチルトリメトキシシラン72部混合物を
撹拌しながら0.1規定、塩酸水溶液47部を徐々に
添加した後コロイダルシリカ（スノーテツクス−
Ｃ、日産化学(株)製、固形分20％）180部を添加し
80℃で２時間還流した。この様にして得られた加
水分解液320部にエチルセロソルブ165部及び硬化
触媒、フローコントロール剤を各々小々添加し塗
料とした。 この塗料をあらかじめ洗浄したCR−39平板に
浸漬法で塗布し、110℃の熱風乾燥炉で30分間熱
処理した。硬化膜厚は5μであつた。 他方イソプロピルアルコール分散コロイダルシ
リカ（触媒化成工業(株)製、固形分30％）35部、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン４部の混合物にイソプロピルアルコール
390部及び蒸留水10部を添加した。この液を15時
間放置後、前記硬化被膜処理したCR−39平板に
硬化膜厚が1300Å（光学的厚膜1930Å）となる
様、浸漬法で塗布し、125℃の熱風乾燥炉で90分
間熱処理した。5600Åにおける透過率は処理前に
比べ４％アツプした。また表面の耐擦傷性も良好
であつた。 実施例 ３ あらかじめ洗浄したCR−39プラノレンズ（度
の付かないレンズ）に実施例３で用いたγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランとコロイダ
ルシリカを含む塗料を塗布し110℃の熱風乾燥炉
で60分間焼き付けた。この様にして得られた硬化
被覆処理されたCR−39プラノレンズを分散染料
であるSumikaron Blue−Ｅ−FBL（住友化学工
業(株)製）を、３％含む90〜95℃の染色浴でいわゆ
るぼかし染色を行なつた。 他方３，３，３−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン14.7部、エチルシリケート−40（日
本コルコート(株)製）6.3部、蒸留水15部及びイソ
プロピルアルコール380部を混合し、一晩放置し
た後、前記ぼかし染色剤のCR−39プラノレンズ
に硬化膜厚が1100Åとなる様、浸漬法で塗布し
120℃の熱風乾燥炉で60分焼きつけた。このよう
にして得られたCR−39プラノレンズは反射防止
効果を有し、かつぼかし染色レンズとして良好で
あつた。また表面の耐擦傷性も良好であつた。 比較例 １ グリシジルジメタクリレートと２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートとの共重合体を含む塗料
を、あらかじめ洗浄したCR−39プラノレンズに
塗布し、128℃の熱風乾燥炉で60分間焼きつけた。
この様にして得られた硬化被覆処理されたCR−
39プラノレンズは、反射防止機能を有していない
が、表面耐擦傷性は良好であつた。ただし次にこ
の硬化被覆処理されたCR−39プラノレンズに２
−ヒドロキシエチルメタクリレートを含む塗料を
硬化膜厚が1400Åとなる様、スピナー法で塗布し
125℃の熱風乾燥炉で60分間焼きつけた。処理に
伴う透過率の向上は認められず、また耐擦傷性が
極めて不充分であつた。 比較例 ２ イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ
（触媒化成工業(株)製、固形分30％）100部にイソプ
ロピルアルコール50部添加した液をあらかじめ洗
浄したCR−39平板に硬化膜厚が2μとなる様、浸
漬法で塗布し、120℃の熱風乾燥炉で、60分間焼
きつけた。この硬化塗膜は全面に微細クラツク発
生が認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プラスチツク製光学部品表面の少なくとも１
面に、下記(イ)および(ロ) (イ) 一般式(2)で示される化合物および／または一
般式(3)で示される化合物を合計で100重量部
（但し固形分で計算し R3 bSi（OR4）(4-b)/2または R5 cSi（OR6）(4-c)/2として計算する） (ロ) コロイダルシリカを0.05〜300重量部（但し
固形分で計算する） 含む組成物を被覆硬化してなる相対的に高い屈
折率と１〜30ミクロンの膜厚とを有するポリシ
ロキサン系耐摩耗性被覆を形成し、その上に下
記(ハ)または(ニ) (ハ) 一般式(1)で示される珪素化合物または／およ
びその加水分解物 (ニ) 上記(ハ)およびコロイダルシリカを含む組成物
を被覆硬化して、相対的に低い屈折率と、800
−1500オングストロームの物理的膜厚と、1000
−2000オングストロームの範囲内でかつλ／４
にほぼ等しい光学的膜厚（ここにおいてλは可
視光の関係波長を表わす）を有する反射防止膜
を形成してなる反射防止光学部品。） R1 aSi（OR2）4-a (1) （式中R1はフツ素原子を有する有機基、R2は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ａは１−３） R3 bSi（OR4）4-b (2) （式中R3は炭素数１−６の炭化水素基、R4は炭
素数１−４の炭化水素基、アルコキシアルキル基
または炭素数１−４のアシル基、ｂは０−３） R5 cSi（OR6）4-c (3) （式中R5はエポキシ基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、または塩素原
子を有する有機基、R6は炭素数１−４の炭化水
素基、アルコキシアルキル基または炭素数１−４
のアシル基、ｃは１−３）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57009895A JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57009895A JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58126502A JPS58126502A (ja) | 1983-07-28 |
| JPH0251163B2 true JPH0251163B2 (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=11732854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57009895A Granted JPS58126502A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 反射防止プラスチツク光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58126502A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH055624U (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-26 | 関東自動車工業株式会社 | 自動車のワイパ |
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1982
- 1982-01-25 JP JP57009895A patent/JPS58126502A/ja active Granted
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58126502A (ja) | 1983-07-28 |
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