JPH0249740A - ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造法 - Google Patents
ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造法Info
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- JPH0249740A JPH0249740A JP1046877A JP4687789A JPH0249740A JP H0249740 A JPH0249740 A JP H0249740A JP 1046877 A JP1046877 A JP 1046877A JP 4687789 A JP4687789 A JP 4687789A JP H0249740 A JPH0249740 A JP H0249740A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 title claims 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 16
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 abstract description 34
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 abstract description 27
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 abstract description 26
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 abstract description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 12
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 10
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 abstract description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 7
- -1 hydrogen halides Chemical class 0.000 abstract description 7
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 24
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NYCKJGRASIXRFK-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl NYCKJGRASIXRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CAHQGWAXKLQREW-UHFFFAOYSA-N Benzal chloride Chemical compound ClC(Cl)C1=CC=CC=C1 CAHQGWAXKLQREW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 3
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 150000004816 dichlorobenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000012013 faujasite Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- XEMRAKSQROQPBR-UHFFFAOYSA-N (trichloromethyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 XEMRAKSQROQPBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBDZXPJXOMHESU-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrachlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl GBDZXPJXOMHESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDMRCAWYRXJKLK-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromo-3-chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Br)=C1Br BDMRCAWYRXJKLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUIVNNXFXHFZFD-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromo-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(Br)=C1Br LUIVNNXFXHFZFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCUXPEKOGAEWSS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromo-3-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(Br)=C1Br VCUXPEKOGAEWSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVKCZUVMQPUWSX-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Br)=C1Cl HVKCZUVMQPUWSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Br QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LECYCYNAEJDSIL-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1Br LECYCYNAEJDSIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNEMUWDQJSRDMQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1Cl RNEMUWDQJSRDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005695 dehalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000017858 demethylation Effects 0.000 description 1
- 238000010520 demethylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ハロゲン化ベンゼン誘導体を吸着分離により
製造する方法に関するものである。
製造する方法に関するものである。
〈従来の技術〉
ハロゲン化ベンゼン誘導体の代表的物質としては、たと
えば、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジクロルト
ルエン、ジクロルクメンなどが挙げられる。これらは、
農薬、医薬の合成中間体として重要である。
えば、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジクロルト
ルエン、ジクロルクメンなどが挙げられる。これらは、
農薬、医薬の合成中間体として重要である。
ハロゲン化ベンゼン誘導体は、一般にベンゼン、アルキ
ルベンゼンまたはハロゲン化アルキルベンゼンのハロゲ
ン化により異性体混合物として得られ、この異性体混合
物より目的の異性体を分離することにより製造される。
ルベンゼンまたはハロゲン化アルキルベンゼンのハロゲ
ン化により異性体混合物として得られ、この異性体混合
物より目的の異性体を分離することにより製造される。
異性体の分離は蒸留分離、晶析分離、吸着分離などによ
るが、沸点差、凝固点差は一般に小さいため従来の一般
的な蒸留分離法、晶析分離法の適用が困難な場合が多い
。
るが、沸点差、凝固点差は一般に小さいため従来の一般
的な蒸留分離法、晶析分離法の適用が困難な場合が多い
。
一方、近年、キシレンで代表されるジアルキルベンゼン
を触媒により異性化せしめる方法(USP440941
3など)およびジアルキルベンゼン異性体混合物をゼオ
ライト吸着剤により吸着分離する方法(特公昭42−1
5681号公報、特公昭58−38202号公報など)
が開発された。これらの方法によれば、目的の異性体を
かなり高純度で分離できる。また、分離後の残りの成分
を異性化工程へまわし、異性化せしめ、再び吸着分離工
程で目的の異性体を分離することにより、究極的に目的
の異性体のみを製造することができる。
を触媒により異性化せしめる方法(USP440941
3など)およびジアルキルベンゼン異性体混合物をゼオ
ライト吸着剤により吸着分離する方法(特公昭42−1
5681号公報、特公昭58−38202号公報など)
が開発された。これらの方法によれば、目的の異性体を
かなり高純度で分離できる。また、分離後の残りの成分
を異性化工程へまわし、異性化せしめ、再び吸着分離工
程で目的の異性体を分離することにより、究極的に目的
の異性体のみを製造することができる。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造に前記
の異性化と吸着分離による製造方法を応用した場合、ゼ
オライト吸着剤の劣化が徐々に起こり生産性の低下が問
題になる。
の異性化と吸着分離による製造方法を応用した場合、ゼ
オライト吸着剤の劣化が徐々に起こり生産性の低下が問
題になる。
く課題を解決するための手段および作用〉本発明者らは
、ゼオライト吸着剤の劣化原因について鋭意検討を進め
た結果、原料に含まれる反応時に副生ずる微量のハロゲ
ン化水素、さらには微量の水分が劣化の原因であること
を見出した。さらに、本発明者らは、フォージャサイト
型ゼオライトのように、水を強く吸着するゼオライトは
ど、吸着剤の劣化の程度が大きいことを見出した。しか
も、吸着原料中に水とハロゲン化水素が高濃度で共存す
る場合にはゼオライト吸着剤を破壊し、吸着能力を著し
く低下させることを見出した。
、ゼオライト吸着剤の劣化原因について鋭意検討を進め
た結果、原料に含まれる反応時に副生ずる微量のハロゲ
ン化水素、さらには微量の水分が劣化の原因であること
を見出した。さらに、本発明者らは、フォージャサイト
型ゼオライトのように、水を強く吸着するゼオライトは
ど、吸着剤の劣化の程度が大きいことを見出した。しか
も、吸着原料中に水とハロゲン化水素が高濃度で共存す
る場合にはゼオライト吸着剤を破壊し、吸着能力を著し
く低下させることを見出した。
そして、本発明者らは、これらを実質上無視できる程度
まで除去することにより吸着剤の劣化を大幅に抑えるこ
とができることを見出した。
まで除去することにより吸着剤の劣化を大幅に抑えるこ
とができることを見出した。
本発明の1つの目的は、ハロゲン化水素を含有するハロ
ゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物をゼオライト吸着
剤と接触せしめて、目的の異性体を選択的に分離する際
、ゼオライト吸着剤の劣化を防止し、生産性の低下なく
、長期間工業的に分離可能な方法を提供することにある
。
ゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物をゼオライト吸着
剤と接触せしめて、目的の異性体を選択的に分離する際
、ゼオライト吸着剤の劣化を防止し、生産性の低下なく
、長期間工業的に分離可能な方法を提供することにある
。
本発明のもう1つの目的は、ハロゲン化水素を含有する
ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物をゼオライト
吸着剤と接触せしめて目的の異性体を高純度で分離する
方法を提供することにある。
ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物をゼオライト
吸着剤と接触せしめて目的の異性体を高純度で分離する
方法を提供することにある。
これらの目的は、ハロゲン化水素を含有するハロゲン化
ベンゼン誘導体の異性体混合物を蒸留処理または放散処
理に供して、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物
からハロゲン化水素を除去した後、ゼオライト吸着剤と
接触せしめて、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体の目
的物を選択的に分離することを特徴とするハロゲン化ベ
ンゼン誘導体の製造法により達成される。
ベンゼン誘導体の異性体混合物を蒸留処理または放散処
理に供して、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物
からハロゲン化水素を除去した後、ゼオライト吸着剤と
接触せしめて、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性体の目
的物を選択的に分離することを特徴とするハロゲン化ベ
ンゼン誘導体の製造法により達成される。
本発明で原料として使用するハロゲン化ベンゼン誘導体
としては、たとえば次の一般式(1)(式中X はハロ
ゲン原子を示し、X2、X3は各々ハロゲン原子または
水素原子を示し、Rは低級アルキル基またはハロゲン原
子を示す。)で表わされる化合物が挙げられる。ここで
Rは低級アルキル基であり、炭素原子数1〜・4のアル
キル基を示す。Rは具体例としてはメチル基、エチル基
、n−プロピル基、I S O−プロピル基、n−ブチ
ル基、5ee−ブチル基、tert−ブチル基などが挙
げられる。
としては、たとえば次の一般式(1)(式中X はハロ
ゲン原子を示し、X2、X3は各々ハロゲン原子または
水素原子を示し、Rは低級アルキル基またはハロゲン原
子を示す。)で表わされる化合物が挙げられる。ここで
Rは低級アルキル基であり、炭素原子数1〜・4のアル
キル基を示す。Rは具体例としてはメチル基、エチル基
、n−プロピル基、I S O−プロピル基、n−ブチ
ル基、5ee−ブチル基、tert−ブチル基などが挙
げられる。
またXl、X2、X3またはRがハロゲン原子を示す場
合、ハロゲン原子の種類は同一であっても異なっていて
もよい。ハロゲン原子は、具体的には塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などであり、好ましくは塩素原子、臭素
原子である。ハロゲン化ベンゼン誘導体の具体例として
は、たとえば、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジ
クロルトルエン、トリクロルベンゼン、トリクロルトル
エン、テトラクロルベンゼン、ジブロムベンゼン、ブロ
ムトルエン、ジブロムトルエン、ジクロルブロムベンゼ
ン、トリブロムベンゼン、ジブロムクロルベンゼン、ク
ロルクメン、ジクロルクメン、トリクロルクメン、ジブ
ロムクメン、ブロムクメンなどが挙げられる。このうち
、特に、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジクロル
トルエン、ジクロルクメンが好ましく使用できる。これ
らのハロゲン化ベンゼン誘導体は、異性体混合物として
供給される。
合、ハロゲン原子の種類は同一であっても異なっていて
もよい。ハロゲン原子は、具体的には塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などであり、好ましくは塩素原子、臭素
原子である。ハロゲン化ベンゼン誘導体の具体例として
は、たとえば、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジ
クロルトルエン、トリクロルベンゼン、トリクロルトル
エン、テトラクロルベンゼン、ジブロムベンゼン、ブロ
ムトルエン、ジブロムトルエン、ジクロルブロムベンゼ
ン、トリブロムベンゼン、ジブロムクロルベンゼン、ク
ロルクメン、ジクロルクメン、トリクロルクメン、ジブ
ロムクメン、ブロムクメンなどが挙げられる。このうち
、特に、ジクロルベンゼン、クロルトルエン、ジクロル
トルエン、ジクロルクメンが好ましく使用できる。これ
らのハロゲン化ベンゼン誘導体は、異性体混合物として
供給される。
本発明で原料として使用されるハロゲン化ベンゼン誘導
体の異性体混合物は、ベンゼン、アルキルベンゼンまた
はハロゲン化アルキルベンゼンのハロゲン化反応または
、異性化反応によって製造され、反応時に副生ずる微量
のハロゲン化水素を含有している。また、かかるハロゲ
ン化ベンゼン誘導体の異性体混合物は、もともと、通常
、微量の水分を含有している。
体の異性体混合物は、ベンゼン、アルキルベンゼンまた
はハロゲン化アルキルベンゼンのハロゲン化反応または
、異性化反応によって製造され、反応時に副生ずる微量
のハロゲン化水素を含有している。また、かかるハロゲ
ン化ベンゼン誘導体の異性体混合物は、もともと、通常
、微量の水分を含有している。
ハロゲン化反応または異性化反応は、常法により行なう
ことができる。
ことができる。
たとえば、異性化反応は、ハロゲン化ベンゼン誘導体の
異性体混合物原料を触媒と接触せしめることによって行
なうことができる。ここで、触媒としては、塩化アルミ
ニウムやゼオライトを使用することができ、ゼオライト
触媒の具体例としては、フォージャサイト型ゼオライト
、ペンタシル型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト
などを挙げることができる。異性化反応においてゼオラ
イト触媒を用いた場合には、たとえば特開昭58−14
4330号公報に従って、異性化反応を実施することが
できる。すなわち、反応温度200〜550℃、好まし
くは250〜500℃で重量空間速度(WHS V)0
.05〜30Hr 、好ましくは0.1〜20Hr
−1の条件とし、気相反応、液相反応、固定床、移動床
、流動床のいずれの方法も用いることができる。
異性体混合物原料を触媒と接触せしめることによって行
なうことができる。ここで、触媒としては、塩化アルミ
ニウムやゼオライトを使用することができ、ゼオライト
触媒の具体例としては、フォージャサイト型ゼオライト
、ペンタシル型ゼオライト、モルデナイト型ゼオライト
などを挙げることができる。異性化反応においてゼオラ
イト触媒を用いた場合には、たとえば特開昭58−14
4330号公報に従って、異性化反応を実施することが
できる。すなわち、反応温度200〜550℃、好まし
くは250〜500℃で重量空間速度(WHS V)0
.05〜30Hr 、好ましくは0.1〜20Hr
−1の条件とし、気相反応、液相反応、固定床、移動床
、流動床のいずれの方法も用いることができる。
本発明においては、ハロゲン化水素を含有するハロゲン
化ベンゼン誘導体の異性体混合物を蒸留処理または放散
処理に供することにより、ハロゲン化水素を除去するこ
とが重要である。
化ベンゼン誘導体の異性体混合物を蒸留処理または放散
処理に供することにより、ハロゲン化水素を除去するこ
とが重要である。
ハロゲン化水素の一般的除去方法であるアルカリ水溶液
による吸収方法では、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性
体混合物と水との接触が避けられないのでハロゲン化ベ
ンゼン誘導体の異性体混合物に水分が微量溶解してしま
い、次工程で使用するゼオライト吸着剤の劣化をもたら
すので好ましくない。
による吸収方法では、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性
体混合物と水との接触が避けられないのでハロゲン化ベ
ンゼン誘導体の異性体混合物に水分が微量溶解してしま
い、次工程で使用するゼオライト吸着剤の劣化をもたら
すので好ましくない。
蒸留処理または放散処理を行なうことにより水分との接
触を避けたまま、ハロゲン化水素を除去することが可能
である。
触を避けたまま、ハロゲン化水素を除去することが可能
である。
蒸留処理または放散処理に供するハロゲン化ベンゼン誘
導体の異性体混合物は、特に限定されず、たとえば反応
混合物そのままであってもよいし、または異性化反応混
合物からの抽出物、留出物などであってもよい。
導体の異性体混合物は、特に限定されず、たとえば反応
混合物そのままであってもよいし、または異性化反応混
合物からの抽出物、留出物などであってもよい。
本発明において、放散処理とはハロゲン化水素を含む原
料に窒素などの不活性ガスを吹込むことにより、揮発成
分を反応液から除去することをいう。また、蒸留処理は
常法によって実施する蒸留をいう。
料に窒素などの不活性ガスを吹込むことにより、揮発成
分を反応液から除去することをいう。また、蒸留処理は
常法によって実施する蒸留をいう。
蒸留処理または放散処理は、段塔でも充填塔でもいずれ
も実施できる。操作圧は常圧、減圧または加圧のいずれ
でもよい。蒸留処理または放散処理は、反応液中のハロ
ゲン化水素濃度が通常、10ppm以下、望ましくはl
ppm以下となるまで実施する。
も実施できる。操作圧は常圧、減圧または加圧のいずれ
でもよい。蒸留処理または放散処理は、反応液中のハロ
ゲン化水素濃度が通常、10ppm以下、望ましくはl
ppm以下となるまで実施する。
本発明においては蒸留処理または放散処理により、原料
中に存在する水分も同時に除去することができ、ゼオラ
イト吸着剤の劣化を防ぐことができる。蒸留処理または
放散処理は反応液中の水の濃度が通常、10ppm以下
、望ましくはlppm以下となるまで実施する。
中に存在する水分も同時に除去することができ、ゼオラ
イト吸着剤の劣化を防ぐことができる。蒸留処理または
放散処理は反応液中の水の濃度が通常、10ppm以下
、望ましくはlppm以下となるまで実施する。
また、ハロゲン化ベンゼン誘導体の異性化反応時に不均
化反応、脱メチル化反応、脱ハロゲン化反応などの副反
応が起こる場合、副生成物として脱メチルおよび/また
は脱ハロゲンされた低沸成分が生成する。たとえば、ク
ロルトルエンの異性化生成物には、トルエンおよびクロ
ルベンゼンが微量副生ずる。このような低沸成分は、ゼ
オライト吸着剤を劣化させることはない場合が多いが、
製品の高純度が要求される場合、低沸成分の除去が必要
である。蒸留処理または放散処理を実施することにより
低沸成分の除去も同時に行なうことができる。低沸成分
の比揮発度が小さい場合には、多段の蒸留装置または放
散装置を用いればよい。
化反応、脱メチル化反応、脱ハロゲン化反応などの副反
応が起こる場合、副生成物として脱メチルおよび/また
は脱ハロゲンされた低沸成分が生成する。たとえば、ク
ロルトルエンの異性化生成物には、トルエンおよびクロ
ルベンゼンが微量副生ずる。このような低沸成分は、ゼ
オライト吸着剤を劣化させることはない場合が多いが、
製品の高純度が要求される場合、低沸成分の除去が必要
である。蒸留処理または放散処理を実施することにより
低沸成分の除去も同時に行なうことができる。低沸成分
の比揮発度が小さい場合には、多段の蒸留装置または放
散装置を用いればよい。
かくして蒸留処理または放散処理を行なったのちハロゲ
ン化ベンゼン誘導体の異性体混合物は吸着分離工程に供
給される。吸着分離工程において、目的とするハロゲン
化ベンゼン誘導体の異性体を選択的に分離する。
ン化ベンゼン誘導体の異性体混合物は吸着分離工程に供
給される。吸着分離工程において、目的とするハロゲン
化ベンゼン誘導体の異性体を選択的に分離する。
吸着剤としてはゼオライトを用いることができる。
ゼオライト吸着剤としては特に限定されないが、ハロゲ
ン化水素および水分によって著しい劣化を受けるものが
、本発明の作用として特に好結果を示す。具体的には、
たとえば、X型、Y型などのフォージャサイト型ゼオラ
イト、ZSM−5型などのペンタシル型ゼオライト、モ
ルデナイト型ゼオライト、L型ゼオライト、ベータ型ゼ
オライトなどを用いた場合に本発明の効果が著しい。
ン化水素および水分によって著しい劣化を受けるものが
、本発明の作用として特に好結果を示す。具体的には、
たとえば、X型、Y型などのフォージャサイト型ゼオラ
イト、ZSM−5型などのペンタシル型ゼオライト、モ
ルデナイト型ゼオライト、L型ゼオライト、ベータ型ゼ
オライトなどを用いた場合に本発明の効果が著しい。
脱着剤としては、トルエン、キシレンなど芳香族化合物
が使用できる。吸着および脱着の方法および条件は通常
の方法および条件が採用できる。たとえば特公昭63−
24981号公報の方法によって吸着および脱着を行な
うことができる。
が使用できる。吸着および脱着の方法および条件は通常
の方法および条件が採用できる。たとえば特公昭63−
24981号公報の方法によって吸着および脱着を行な
うことができる。
目的物を吸着取得したのちの異性体混合物は再び異性化
反応に供され、目的とする異性体濃度を平衡比率まで高
めることができる。このようなりサイクルにより、目的
物を工業的に有利に生産できる。
反応に供され、目的とする異性体濃度を平衡比率まで高
めることができる。このようなりサイクルにより、目的
物を工業的に有利に生産できる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1
ケイ酸ソーダ135g、、Al2(SO4)3・18H
208,6g1n−プロピルアミン15 g1H2SO
411,2gおよび水400gからなる水性混合物を1
55℃に72時間保持して結晶化を行ないSiO/Al
2O3比45.5モル1モルのゼオライトZSM−5粉
末を合成した。このZSM−5粉末を10 w t%塩
化アンモニウム水溶液を用いて(固液比2゜01/kg
、約90℃で)5回イオン交換を行ない、十分水洗し1
20℃で15時間乾燥後、600℃で2時間空気中で焼
成して酸型のZSM−5触媒を得た。
208,6g1n−プロピルアミン15 g1H2SO
411,2gおよび水400gからなる水性混合物を1
55℃に72時間保持して結晶化を行ないSiO/Al
2O3比45.5モル1モルのゼオライトZSM−5粉
末を合成した。このZSM−5粉末を10 w t%塩
化アンモニウム水溶液を用いて(固液比2゜01/kg
、約90℃で)5回イオン交換を行ない、十分水洗し1
20℃で15時間乾燥後、600℃で2時間空気中で焼
成して酸型のZSM−5触媒を得た。
得られた酸型のZSM−5触媒を用い、固定床流通反応
器を使用して液相で0−ジクロルベンゼンの異性化反応
を行ない、塩化水素を含むジクロルベンゼン異性体混合
物を得た。反応に供した0−ジクロルベンゼンは予めモ
レキュラーシーブで脱水処理したものを用いた。異性化
反応条件を以下に示す。
器を使用して液相で0−ジクロルベンゼンの異性化反応
を行ない、塩化水素を含むジクロルベンゼン異性体混合
物を得た。反応に供した0−ジクロルベンゼンは予めモ
レキュラーシーブで脱水処理したものを用いた。異性化
反応条件を以下に示す。
WH8V=4゜5Hr ’
反応温度=300°C
反応圧力= 30 kg/cnr −G反応後の異性体
混合物の組成は、0−ジクロルベンゼン:m−ジクロル
ベンゼン:p−ジクロルベンゼン=58 : 27 :
15であり、塩化水素濃度は120ppm、水は10p
pmであった。
混合物の組成は、0−ジクロルベンゼン:m−ジクロル
ベンゼン:p−ジクロルベンゼン=58 : 27 :
15であり、塩化水素濃度は120ppm、水は10p
pmであった。
また副生物であるクロルベンゼンの濃度は0゜09wt
%であった。
%であった。
得られた反応混合物を圧力200mmHgで約30分間
蒸留して、反応混合物中から塩化水素および水を除去し
た。蒸留後の反応混合物中の塩化水素はlppm、、水
は6ppm、低沸成分は0゜01wt%であった。
蒸留して、反応混合物中から塩化水素および水を除去し
た。蒸留後の反応混合物中の塩化水素はlppm、、水
は6ppm、低沸成分は0゜01wt%であった。
この異性体混合物からm−ジクロルベンゼンを、第1図
に示す擬似移動床装置で吸着分離した。
に示す擬似移動床装置で吸着分離した。
第1図を簡単に説明する。
内容積約13m1の吸着室1〜12に0875L 10
2 弓、25Na20’Al2O3”2゜5 S i
02で示されるLiで置換したX型ゼオライト吸着剤を
充填した。ライン13から脱着剤であるトルエンを30
0m1/Hrで供給し、ライン15から上記異性体混合
物を、17m1/Hrで供給した。ライン14からエク
ストラクト流れを74m1/Hrで抜出し、ライン16
からラフィネート流れを29m1/Hrで抜出し、残り
の流体をライン17から抜出した。また、吸着室1と1
2間の流体の流れはバルブ18で閉じられている。この
とき、約150秒間隔で吸着室1を12に、11を10
に、8を7に、5を4に同時に移動させた(他の吸着室
も吸着室1室分上方に同時に移動する)。吸着温度は1
30℃で実施した。
2 弓、25Na20’Al2O3”2゜5 S i
02で示されるLiで置換したX型ゼオライト吸着剤を
充填した。ライン13から脱着剤であるトルエンを30
0m1/Hrで供給し、ライン15から上記異性体混合
物を、17m1/Hrで供給した。ライン14からエク
ストラクト流れを74m1/Hrで抜出し、ライン16
からラフィネート流れを29m1/Hrで抜出し、残り
の流体をライン17から抜出した。また、吸着室1と1
2間の流体の流れはバルブ18で閉じられている。この
とき、約150秒間隔で吸着室1を12に、11を10
に、8を7に、5を4に同時に移動させた(他の吸着室
も吸着室1室分上方に同時に移動する)。吸着温度は1
30℃で実施した。
運転開始から2時間後、ラフィネート流れに含まれるジ
クロルベンゼン混合物中のm−ジクロルベンゼン純度は
99.5%であり、m−ジクロルベンゼンの回収率は7
0%であった。さらにラフィネート流れ、エクストラク
ト流れを各々保存し、100時間後に組成を分析すると
、ラフィネート流れ中のジクロルベンゼン混合物中のm
−ジクロルベンゼン純度は99.5%であり、回収率は
68%であった。
クロルベンゼン混合物中のm−ジクロルベンゼン純度は
99.5%であり、m−ジクロルベンゼンの回収率は7
0%であった。さらにラフィネート流れ、エクストラク
ト流れを各々保存し、100時間後に組成を分析すると
、ラフィネート流れ中のジクロルベンゼン混合物中のm
−ジクロルベンゼン純度は99.5%であり、回収率は
68%であった。
実施例2
実施例1において反応混合物を蒸留する代わりに常温常
圧下N2ガスを約11/minで約1時間、反応混合物
中でバブリングさせることにより塩化水素および水を放
散させ除去する以外は実施例1と同様にして異性化反応
および吸着分離を行なった。放散後の反応混合物中の塩
化水素は8ppm、水は’7ppm、低沸成分は0.0
8wt%であった。
圧下N2ガスを約11/minで約1時間、反応混合物
中でバブリングさせることにより塩化水素および水を放
散させ除去する以外は実施例1と同様にして異性化反応
および吸着分離を行なった。放散後の反応混合物中の塩
化水素は8ppm、水は’7ppm、低沸成分は0.0
8wt%であった。
吸着分離開始から2時間後のラフィネート流れ中のm−
ジクロルベンゼン純度は99.6%であり、m−ジクロ
ルベンゼンの回収率は68%であった。さらに48時間
後のラフィネート流れ中にm−ジクロルベンゼンの純度
は99゜6%であり、回収率は67%であった。
ジクロルベンゼン純度は99.6%であり、m−ジクロ
ルベンゼンの回収率は68%であった。さらに48時間
後のラフィネート流れ中にm−ジクロルベンゼンの純度
は99゜6%であり、回収率は67%であった。
比較例1
実施例1において反応混合物を蒸留せずそのまま吸着分
離工程へ供給する以外は、実施例1と同様にして異性化
反応および吸着分離を行った。
離工程へ供給する以外は、実施例1と同様にして異性化
反応および吸着分離を行った。
反応混合物中の塩化水素は1201111m、水は10
ppm 、低沸成分は0.09wt%であった。
ppm 、低沸成分は0.09wt%であった。
吸着分離開始から2時間後のラフィネート流れ中のm−
ジクロルベンゼンの純度は99.5%であり、回収率は
68%であった。さらに48時間後のラフィネート流れ
中のm−ジクロルベンゼンの純度は91.3%であり、
回収率は60%であった。
ジクロルベンゼンの純度は99.5%であり、回収率は
68%であった。さらに48時間後のラフィネート流れ
中のm−ジクロルベンゼンの純度は91.3%であり、
回収率は60%であった。
実施例3
実施例1において0−ジクロルベンゼンの代りに2.5
−ジクロルトルエンを用い、Liで置換されたX型ゼオ
ライトの代りにAgで置換されたX型ゼオライトを用い
る以外は実施例1と同様にして異性化反応、蒸留処理お
よび吸着分離を行ない、2,6−ジクロルトルエンを分
離した。結果を表1に示す。
−ジクロルトルエンを用い、Liで置換されたX型ゼオ
ライトの代りにAgで置換されたX型ゼオライトを用い
る以外は実施例1と同様にして異性化反応、蒸留処理お
よび吸着分離を行ない、2,6−ジクロルトルエンを分
離した。結果を表1に示す。
また蒸留処理をしない場合の結果を比較例2として、併
せて表1に示す。
せて表1に示す。
実施例4
実施例1において0−ジクロルベンゼンの代りに2,4
−ジクロルクメンを用い、Liで置換されたX型ゼオラ
イトの代りにKで置換されたY型ゼオライトを用いる以
外は、実施例1と同様にして異性化反応、蒸留処理およ
び吸着分離を行ない、3,5−ジクロルクメンを分離し
た。結果を表1に示す。
−ジクロルクメンを用い、Liで置換されたX型ゼオラ
イトの代りにKで置換されたY型ゼオライトを用いる以
外は、実施例1と同様にして異性化反応、蒸留処理およ
び吸着分離を行ない、3,5−ジクロルクメンを分離し
た。結果を表1に示す。
また、蒸留処理をしない場合の結果を比較例3として、
併せて表1.に示す。
併せて表1.に示す。
〈発明の効果〉
本発明によれば、ゼオライト吸着剤の劣化を防止し生産
性の低下もなく長期間工業的に目的の異性体が分離可能
となるとともに目的の異性体を高純度で分離可能となる
。
性の低下もなく長期間工業的に目的の異性体が分離可能
となるとともに目的の異性体を高純度で分離可能となる
。
第1図は、実施例1における擬似移動床を用いたジクロ
ルベンゼン異性体の連続吸着分離を示すフローシートで
ある。
ルベンゼン異性体の連続吸着分離を示すフローシートで
ある。
Claims (1)
- ハロゲン化水素を含有するハロゲン化ベンゼン誘導体の
異性体混合物を蒸留処理または放散処理に供して、ハロ
ゲン化ベンゼン誘導体の異性体混合物からハロゲン化水
素を除去した後、ゼオライト吸着剤と接触せしめて、ハ
ロゲン化ベンゼン誘導体の異性体の目的物を選択的に分
離することを特徴とするハロゲン化ベンゼン誘導体の製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1046877A JPH0249740A (ja) | 1988-02-26 | 1989-02-27 | ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-44934 | 1988-02-26 | ||
JP4493488 | 1988-02-26 | ||
JP1046877A JPH0249740A (ja) | 1988-02-26 | 1989-02-27 | ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0249740A true JPH0249740A (ja) | 1990-02-20 |
JPH0446933B2 JPH0446933B2 (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=26384899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1046877A Granted JPH0249740A (ja) | 1988-02-26 | 1989-02-27 | ハロゲン化ベンゼン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0249740A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5447326A (en) * | 1992-11-20 | 1995-09-05 | Ford Motor Company | Vehicle door with pre-deployed air bag |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1046877A patent/JPH0249740A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5447326A (en) * | 1992-11-20 | 1995-09-05 | Ford Motor Company | Vehicle door with pre-deployed air bag |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0446933B2 (ja) | 1992-07-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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