JPH0234633A - ２９０℃より低い融点を有する結晶化セミ芳香族ポリアミド - Google Patents

２９０℃より低い融点を有する結晶化セミ芳香族ポリアミド

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JPH0234633A
JPH0234633A JP1149771A JP14977189A JPH0234633A JP H0234633 A JPH0234633 A JP H0234633A JP 1149771 A JP1149771 A JP 1149771A JP 14977189 A JP14977189 A JP 14977189A JP H0234633 A JPH0234633 A JP H0234633A
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JP1149771A
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Pascal Barthelemy
パスカル・バルテルミ
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Rhodia Chimie SAS
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Rhone Poulenc Chimie SA
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    • C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
    • C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
    • C08G69/265—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from at least two different diamines or at least two different dicarboxylic acids
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、テレフタル酸、２−メチルペンタメチレン
ジアミン及び立体障害芳香族ジアミンから誘導される結
晶化ポリアミドに関する。
［従来の技術］ 脂肪族ジアミン及び脂肪族又は芳香族ジカルボン酸から
誘導されるポリアミドは以前からすでに公知である。こ
れらのポリアミドはそれらの組成に応じて高い融点（Ｔ
ｍ）を有する結晶化物質（この場合、結晶化物質を一般
的には半結晶質ポリマーと言う）又は比較的低いガラス
転移温度（Ｔｇ）を有する完全非晶質物質である。
半結晶質ポリアミドは高温において良好な熱機械的強度
を有する造形製品を製造することが意図される場合に有
利に用いられる。最もよく知られている半結晶質ポリア
ミドはポリアミド−６６（ヘキサメチレンジアミンとア
ジピン酸とのポリマー）である。このポリアミドは約２
６５℃のＴｍを有するので容易に溶融加工することがで
きるが、しかし約５０℃の低いＴｇを有するために使用
温度が１００℃より低いものに利用分野が制限される。
それより高いＴｇを有し、その結果として温度の関数と
しての機械的特性値を良好に維持する他の半結晶質ポリ
アミドが見出されている。この種の代表的なポリアミド
は例えばテレフタル酸、イソフタル酸（二酸混合物中に
２０〜４０モル％）及びヘキサメチレンジアミンから得
られるもの（米国特許筒３．９４１．７５５号及び同第
４．６０７．０７３号を参照されたい）である。これは
約１２０〜１４０℃の範囲のＴｇを有し、従ってかなり
熱安定性であるが、しかし得られる融点が高い（これは
約３２０〜３４０℃の範囲にある）ためにこれらコポリ
アミドの加工には非常に高い温度が必要である。ポリア
ミド−６６の加工に用いられる慣用の方法に従ってポリ
マーを加工することができるようにするために、好まし
くは約２９０℃より低く留まるＴｍ値を有しながら約１
００℃より高いＴｇ値を得る可能性が存在し、これはテ
レフタル酸及び２−メチル−１，５−ペンタメチレンジ
アミンから得られるポリアミドに見出すことができる（
特公昭４４−０１９．５５１号を参照されたい）。これ
は１４２℃のＴｇを有し、Ｔｍは２８５℃である。
［発明が解決しようとする課題］ Ｔｇはポリマーの熱安定性を決定する重要なファクター
であるので、１４２℃より高いＴｇ及び２９０℃より低
く留まるＴｍを有するポリアミドを得ることが依然とし
て望まれている。本発明による下記の技術的解決策がこ
の目的を満足するのに正に対応する。
［課題を解決するための手段］ より正確には、本発明は、テレフタル酸又はその誘導体
と２−メチルペンタメチレンジアミンとを含む反応成分
から製造される半結晶質コポリアミドに関し、これらコ
ポリアミドは下記の点を特徴とする： ・構造中に下記の式（Ｉ）、（ＩＩ）、随意としての（
ＩＩ’）及び（ＩＩＴ）の繰り返し単位を含有すること
二 ＣＨ。
−ＨＮ−ＣＨ，−ＣＩ−ＣＨ，−ＣＨ，−Ｃ：Ｈ，−Ｎ
Ｈ−（ＩＩ　）２Ｈｓ −Ｉ（Ｎ−ＣＨ，−ＣＨ−ＣＨ，−ＣＨ２−ＮＨ−（Ｉ
Ｉ　’）（式中、記号Ｒ３，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は同一
であっても異なっていてもよく、それぞれメチル、エチ
ル、プロピル又はイソプロピル基を表わし、但し ・Ｒ，、Ｒ２，Ｒ３及びＲ４が同一であるか、・Ｒ１と
Ｒ２とが同一であり且つＲ１とＲ４とが同一であるか１ 、Ｒ，とＲ８とが同一であり且っＲ２とＲ４とが同一で
あるか 又は ・Ｒ８とＲ４とが同一であり且っＲ２とＲ１とが同一で
あるか のいずれかであり、 わす）： ・単位（Ｉ）の単位（ＩＩ）、（ＩＩ°）及び（ＩＩＩ
）の合計に対するモル比が１であること：・単位（ＩＩ
）及び（ＩＩ°）の混合物中の単位（ＩＩ゛）の量が０
〜５モル％の範囲にあり且つこの混合物中の単位（ＩＩ
　）の量が１００〜９５モル％の範囲にあること： ・単位（［Ｉ）、（ＩＩｏ）及び（ＩＩＩ　）の混合物
中の単位（ＩＩＩ　）の】が次の追加的条件：・４つの
記号Ｒ＋　、Ｒ２，Ｒ３及びＲ４がそれぞれ１個より多
い炭素原子を有する基を表わす場合にはこの単位（ＩＩ
Ｉ　）の量が８モル％より少なく、 ・４つの記号Ｒ，，Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうちの
２つだけがそれぞれ１個より多い炭素原子を有する基を
表わす（この場合、他の２個の記号はそれぞれメチル基
を表わす）場合にはこの単位（ＩＩＩ）の量が１３モル
％より少な（、 ・４つの記号Ｒ＋、Ｒａ、Ｒｓ及びＲ１がそれぞれメチ
ル基を表わす場合にはこの単位（ＩＩＩ）の量が１８モ
ル％より少ない：に従うこと。
単位（ＩＩＩ）の量が上記のいずれかの限度と同等又は
それより多い場合には、得られるコポリアミドは完全に
非晶質である。
式（１）の単位はテレフタル酸から又は例えばそのジへ
ロゲン化物若しくはジエステルのような誘導体から由来
する。
式（１１）の単位は２−メチル−１，５−ペンタメチレ
ンジアミンによってもたらされる。随意としての式（Ｉ
ド）の単位については、これらは２−エチル−１，４−
テトラメチレンジアミンから誘導される。用いられる２
−メチルペンタメチレンジアミンの合成は、公知の方法
に従って２−メチルグルタル酸のジニトリルを水素化す
ることによって実施することができる。同様に、２−エ
チルテトラメチレンジアミンの合成は２−エチル琥珀酸
のジニトリルを水素化することによって実施することが
できる。
式（ＩＩＩ）の単位に関しては、これらは−数式：（式
中、記号Ｒ，，Ｒ，、Ｒ５，Ｒ４及びＡは式（Ｉｌｌ　
）の単位に関して前記した意味を持つ）のジアミンから
由来する。
好ましい具体例に従えば、本発明のコポリアミドは、 ４単位（Ｉｌｌ　）が前記においてＡが−ＣＨ，−であ
る構造を有し、 且つ ・単位（ＩＩ　）、（ＩＩ’）及び（ＩＩＩ）の混合物
中の単位（ＩＩＩ　）の量が次の追加的条件：・４つの
記号Ｒ，，Ｒ２、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がそれぞれ１個よ
り多い炭素原子を有する基を表わす場合にはこの単位（
ＩＩＩ　）の量が２〜７モル％の範囲にあり、 ・４つの記号Ｒ，，Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうちの
２つだけがそれぞれ１個より多い炭素原子を有する基を
表わす場合にはこの単位（ＩＩＩ）の量が２〜１２モル
％の範囲にあり、・４つの記号Ｒ，，Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３
及びＲ４がそれぞれメチル基を表わす場合にはこの単位
（ＩＩＩ　）の量が２〜１７モル％の範囲にあるに従う 前記の構造を有する。
式（Ｉｌｌ　）においてＡが−ＣＩ＋□−である単位を
導（式（ＩＶ）の立体障害ジアミンの特定的な例とじて
は、特に以下のものを挙げることができる：・４．４°
−ジアミノ−３，３’，５，５．５’−テトラメチルジ
フェニルメタン ・４．４°−ジアミノ−３，３’、５，５°−テトラエ
チルジフェニルメタン ・４．４°−ジアミノ−３，５−ジメチル−３’，５，
５°−ジエチルジフェニルメタン ・４，４°−ジアミノ−３，３°−ジエチル−５，５゛
−ジメチルジフェニルメタン ・４．４′−ジアミノ−３，３’，５，５，５°−テト
ライソプロピルジフェニルメタン 及び ・４，４°−ジアミノ−３，３°−ジイソプロピル−５
，５゜−ジメチルジフェニルメタン。
これら立体障害ジアミンは、英国特許第８５２゜６５１
号及び米国特許第３．４８１．９００号に記載された方
法に従って製造することができる。
前記の好ましい群に属するコポリアミドの中でさらに特
に好適なものは、式（ＩＩＩ　）の単位が次の立体障害
ジアミンから由来する構造を有するボリマーである： ・４，４°−ジアミノ−３，３°−ジエチル−５，５°
−ジメチルジフェニルメタン ・４，４°−ジアミノ−３，３’、５，５°−テトラエ
チルジフェニルメタン 及び ・４，４°−ジアミノ−３，３’，５，５．５’−テト
ライソプロピルジフェニルメタン。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、随意としての（ＩＩ°）及び（［
）の繰り返し単位を含有するこれらのコポリアミドはポ
リマー分野の専門家によく知られた重縮合法によって容
易に製造される。
例えば便利な操作方法は、溶融重縮合法から成る。ジア
ミン及びジカルボン酸をステンレス鋼製のオートクレー
ブ中に導入し、必要ならば水を添加する。場合によって
は前もってジアミンとジカルボン酸との塩を製造するの
が有利である。撹拌しながら反応成分を約２００〜２５
０℃の範囲の温度に加熱する。水蒸気を除去し、温度を
約２６０〜３００℃に上げる。この温度において窒素流
中で反応混合物を所定の時間撹拌する。最後にオートク
レーブを真空にし、ポリアミドが所望の分子遣に達する
時間まで縮合を続ける。また、ジカルボン酸の例えばメ
チルエステルのような低級アルキルエステルをジアミン
の混合物と反応させることもできる。この反応は、下記
の２工程を同一の反応器内で連続的に実施して成る：第
１の工程は、大気圧下で約９０〜１３０℃の温度におけ
る生成するアルコールの除去しながらの予備重合である
；第２の工程においては、重縮合を完結させるためにア
ルコールを蒸留しながら温度を約２５０〜３００℃に上
げる。
他の便利な方法は溶液状重縮合法であり、これに従えば
、例えば二酸塩化物（塩化テレフタロイル）のようなジ
カルボン酸のハロゲン化物を痕跡量の水を含有しない溶
媒中でジアミン混合物と反応させる。通常用いられる溶
媒は、合成されるポリマー用の良溶媒又は膨潤剤である
。これらは−般に極性且つ非プロトン性である。また、
より大きい重縮合効率のためには、アシル化反応の際に
放出される水素酸と反応し得る有機塩基を反応媒体中に
溶解させることも必要である。この塩基は大抵の場合例
えばトリエチルアミン、ジイソプロピルブチルアミン又
はピリジンのような第３アミンである。重縮合の間、反
応混合物の温度は通常一定に、そして比較的低く、例え
ば０℃〜１０℃の範囲に保つ。反応成分の添加が終了し
たらすぐに周囲温度に戻す。次いで非溶剤中に沈殿させ
ることによってポリマーを単離することができる。
本発明に従うコポリアミドのさらに他の便利な製造方法
は、界面重縮合を実施して成る。これはアミンを含有す
る水相とジカルボン酸のハロゲン化物を含有する水不混
和性有機溶媒（例えばジクロルメタン、テトラクロルエ
チレン）との間の界面において行なわれる。通常、水相
中に無機塩基を溶解させてアシル化反応の際に放出され
る水素酸を捕捉できるようにする。反応温度は一般に０
°Ｃ〜１０℃の範囲に保つ。これは低分子量のオリゴマ
ーの生成を制限するためである。
上記のいずれの方法においても、反応成分は下記の割合
で用いる： Ｏテレフタル酸又はその誘導体／ジアミンのモル比は１
である； ・２−エチル−１，４−テトラメチレンジアミン及び２
−メチル−１，５−ペンタメチレンジアミンの混合物中
の２−エチル−１，４−テトラメチレンジアミンの量は
０〜５モル％の範囲にある；・ジアミン混合物中の式（
ＩＶ　）の立体障害芳香族ジアミンの量は次の条件に従
う： ・４つの記号Ｒ＋、Ｒｉ、Ｒｘ及びＲ４がそれぞれ１個
より多い炭素原子を有する基を表わす場合にはこのジア
ミンの量が８モル％より少なく、好ましくは２〜７モル
％の範囲にあり、 ・４つの記号Ｒ＋　、Ｒｘ　、Ｒｓ及びＲ４のうちの２
つだけがそれぞれ１個より多い炭素原子を有する基を表
わす（この場合、他の２つの記号はそれぞれメチル基を
表わす）場合にはこのジアミンの遣が１３モル％より少
なく、好ましくは２〜１２モル％の範囲にあり、・４つ
の記号Ｒ３，Ｒ２、Ｒｓ及びＲ４がそれぞれメチル基を
表わす場合にはこのジアミンの量が１８モル％より少な
（、好ましくは２〜１７モル％の範囲にある。
特公昭４４−０１９．５５１号に従う半結晶質ポリアミ
ドと比較すると、本発明に従うコポリアミドは特に式（
ＩＩＩ）の単位の構造及び量に応じて１４３〜１６０℃
の範囲のより高いガラス転移温度によって並びに２８５
℃より低い融点Ｔｍによって区別される。その結果とし
て、得られるコポリアミドは改善されたＴｇのためによ
り良好な安定性及び高温における機械的特性のより良好
な維持を示す。さらにこれらは２８５℃より低い温度に
低下したＴｍのためにポリアミド−６６の場合に用いら
れる慣用の方法に従って容易に加工することができる。
本発明に従うコポリアミドは成形用粉末として用いるこ
とができ、そして慣用の射出成形、押出成形又は紡糸装
置を用いて加工して部品、中空体、フィルム、箔又はフ
ィラメントのような造形品にすることができる。
重縮合の前、間又は終わり頃に本発明のコポリアミドに
、ポリアミドの製造の際に通常用いられる添加剤を添加
することができる。これら添加剤は例えば酸化防止剤、
防火剤、光安定剤、熱安定剤、耐衝撃性改良剤、可塑剤
、離型剤、蛍光増白剤、着色剤等である。また、有機又
は無機繊維、顔料、無機粉末等のような補強用充填剤を
用いることもできる。
これら添加剤はコポリアミドと混合することもでき、ま
た、適宜な装置、例えば押出機中での新たな溶融操作に
よってその中に組み入れることもできる。
本発明に従うコポリアミドはまた、他のホモ−若しくは
コポリアミド又はそれらの混合物と或いは他のプラスチ
ック材料とブレンド或いは混合することもでき、これは
例えば構成粒状物又はプラスチック材料をブレンドしそ
して同時押出を実施することによって実施することがで
きる。
追加のホモポリアミドとしては、例えばナイロン−１２
（ω−アミノドデカン酸のポリマー）、ナイロン−１１
（ω−アミノウンデカン酸のポリマー）、ナイロン−６
９（ヘキサメチレンジアミンとアゼライン酸とのポリマ
ー）、ナイロン＝６１Ｏ（ヘキサメチレンジアミンとセ
バシン酸とのポリマー）、ナイロン−６（ε−カプロラ
クタムのポリマー）又はナイロン−６６（ヘキサメチレ
ンジアミンとアジピン酸とポリマー）を考慮することが
でき、コポリアミドとしては、例えば上記のホモポリア
ミドを生成するモノマー群を含有するもの又は他のコポ
リアミドを考慮することができる。
［実施例］ 以下の実施例は本発明を実際にどのように用いることが
できるかを何ら限定することなく示すものである。
例」２ 塩化テレフタロイル、２−メチル−１，５−ペンタメチ
レンジアミン及び４．４°−ジアミノ−３，３’，５，
５．５’−テトラエチルジフェニルメタンから得られる
本発明のコポリアミド（ジアミン混合物中の単位（１）
の量は５モル％である） １、コポリアミドのＡ　： 中央馬蹄型撹拌機及び滴下漏斗を備えたパイレックス（
登録商品名）ガラス製の２５０ｃｒｒｒの三つ口反応器
内に乾燥窒素雰囲気下で周囲温度（２０℃）において下
記のものを導入した：・２−メチルペンタメチレンジア
ミン：５．５１　ｇ　（０，０４７５モル） ・トリエチルアミン：　　　　　　　　　ｌｏ、ｌ１ｇ
・４．４°−ジアミノ−３，３”、５．５’−テトラエ
チルジフェニルメタン：　０．７７５ｇ　（０，００２
５モル）・Ｎ−メチル−２−ピロリドン（登録商品名ｒ
ＰｒｏｌａｂｏＪの下で商品として入手できる４人のモ
レキュラーシーブを用いて予め５時間乾燥させたもの）
：　　　　　　　　　　　４３．６０ｇ上記のようにし
て前もって乾燥させたＮ−メチル−２−ピロリドン４３
．６０ｇ中の塩化テレフタロイル（シクロヘキサノンか
ら再結晶したもの）１０．１５ｇ　（０，０５００モル
）の溶液を乾燥窒素雰囲気下で滴下漏斗内に導入した。
次いでこの反応器を氷水で冷却して反応混合物の温度を
約８℃にした。次いでこの反応器内に、乾燥窒素雰囲気
下で迅速に撹拌しながら、滴下漏斗の内容物を４５分か
けて反応混合物の温度を約８℃に保ちながら滴下した。
塩化テレフタロイルの添加が終わった時に、約１２重量
％のポリマーを含有する溶液が得られた。この反応混合
物を周囲温度に戻し、次いでこの温度において１０時間
攪拌した。
反応混合物を水１．ｓｇ中に注入することによって、得
られたコポリアミドを沈殿させた。このポリマーを炉別
し、次いでｌβずつの水で、最終水性洗液がもはや塩素
イオンを含有しなくなるまで（硝酸銀を用いて検知）連
続的に３回洗浄した。
このポリマーを真空下で排水し、次いでオーブン中で１
．３３Ｘ１０”Ｐａに相当する真空下で８０°Ｃにおい
て、１０．６ｇの一定重量が得られるまで乾燥させた。
この合成の収率は９３％だった（この収率は所期のポリ
マーの理論重量に対する重量に基づいて表わされる）。
２、コポリアミドの　　： 得られたコポリアミドは半結晶質だった。
ポリスチレンを用いて較正したゲル透過クロマトグラフ
ィーによって測定した重量平均分子量（Ｍ　ｗ　）は３
０．　ＯＯＯだった。
窒素雰囲気下で実施した昇温速度１０℃／分における示
差熱分析（ＤＴＡ）によって測定したガラス転移温度Ｔ
ｇは１４４℃だった。同じ方法で測定した融点Ｔｍは２
６８℃であることがわかった。
プロトンＮＭＲ分析（溶媒ＣＦ、ＧＯＯＤ　、内部標準
テトラメチルシラン）は下記のブロックを有するランダ
ムポリマー構造に一致した： ４．１６ｐｐｍ　７．１９ｐＩ）ＩＩ　　２．ｌｉ９ｐ
ｐｍ　　１．２９ｐｌ瑠単位（ＩＩＩ）が４，４°−ジ
アミノ−３，３°−ジエチル−５，５−ジメチルジフェ
ニルメタン（ジアミン訛合物中のこの単位の量は１０モ
ル％である）から誘導されるコポリアミド： 例１に記載したのと同じ操作を下記の新たな装入物及び
予めモレキュラーシーブを用いて乾燥させた別の溶媒（
Ｎ−メチル−２−ピロリドンの代わりに１．３−ジメチ
ル−２−イミダゾリトン）を用いて再現したニ ガラス製反応器中： 反応成分／溶媒 ・メチルペンタメチレンジアミン： １０．５９　ｇ　（０，０９１３モル）・トリエチルア
ミン：　　　　　　　　　２０．９４　ｇ・メチル及び
エチル基で立体障害を受けた芳香族ジアミン：　　　　
２．８８ｇ（０，０１０２モル）・ジメチルミダゾリド
ン：　　　　　　　２９ｇ浦下漏斗中： 反応成分／溶媒 ・塩化テレフタロイル： ２０．６０　ｇ　（０，１０１５モル）・ジメチルイミ
ダゾリトン：　　　　１１２．５０ｇ滴下漏斗の内容物
を２時間３０分かけて反応器内に流入させた。水２２中
にポリマーを沈殿させた後に、２Ｃずつの水で２回洗浄
した。
比較試験として、特公昭４４−０１９．５５１号に従う
半結晶質ポリアミドの挙動を検査した。このポリアミド
はテレフタル酸及び２−メチル−１，５−ペンタメチレ
ンジアミンから下記のようにして製造した： ＩＩ２のガラス製丸底フラスコ内に窒素下で下記のもの
を装入した： ・テレフタル酸： １２４．５７ｇ　（０，７５０４モル）、水：　　　　
　　　　　　　３５．７５　ｇ・エタノール：　　　　
　　　　　２９９．７５ｇ。
この混合物を６５℃に加熱し、次いでこれをこの温度に
おいて３０分間撹拌した。次いでこの丸底フラスコの内
容物に下記のものを含有する溶液を撹拌しながら１０分
かけて流入させた：・２−メチル−１，５−ペンタメチ
レンジアミン＝８７．０５ｇ ・水：　　　　　　　　　　１３６．６０ｇ。
３０分間撹拌した後に、反応混合物は透明だった。これ
はテレフタル酸とメチルペンタメチレンジアミンとの塩
を含有する。これを２０℃の周囲温度において結晶化さ
せた。次いでこの塩を？戸別し、１５０ｇずつのメタノ
ールで連続的に３回洗浄し、最後にオーブン中で６６．
５ＸＩＯ”Ｐａに相当する真空下で４５℃において、一
定重量が得られるまで乾燥させた。
次いで１８Ｘ１０’Ｐａの自己発生の圧力にすることの
できるカリウス（Ｃａｒｉｕｓ）管中で操作することに
よって得られた塩の予備重合を実施した。この目的のた
めに、塩１５ｇ、水８５ｇ及び次亜燐酸０．　ＯＯ７５
ｇをカリウス管中に導入した。この管を密閉し、次いで
２１０℃に加熱したオーブン中に２時間入れた。
この時間の終わりに管を開き、反応混合物を排気するこ
とのできる１２５ｃｒｒｒのガラス製反応器内に注入し
た。この反応器をオーブン中に入れ、重縮合を完結させ
るために下記のサイクルに従って温度を上昇させる： ・１８４分かけて２９０℃に上げる； ・窒素下で２９０℃に６０分間保つ； ・６６．５Ｘ１０”Ｐａに相当する真空下で２９０℃に
１０４分間保つ。
この例及び試験の主な結果を下記の表にまとめる：

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）特に１４２℃より高いガラス転移温度Ｔｇ及び２
    ９０℃より低い融点Ｔｍを示し、テレフタル酸又はその
    誘導体と２−メチル−１，５−ペンタメチレンジアミン
    とを含む反応成分から製造される結晶化セミ芳香族コポ
    リアミドであって、 ・構造中に下記の式（ I ）、（II）、随意としての（
    II’）及び（III）の繰り返し単位を含有すること： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II’） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は同一
    であっても異なっていてもよく、それぞれメチル、エチ
    ル、プロピル又はイソプロピル基を表わし、但し ・Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４が同一であるか、
    ・Ｒ＿１とＲ＿２とが同一であり且つＲ＿３とＲ＿４と
    が同一であるか、 ・Ｒ＿１とＲ＿３とが同一であり且つＲ＿２とＲ＿４と
    が同一であるか 又は ・Ｒ＿１とＲ＿４とが同一であり且つＲ＿２とＲ＿３と
    が同一であるか のいずれかであり、 記号Ａは基−ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、−Ｏ−又は▲数式、化学式、表等があります▼
    を表わす）； ・単位（ I ）の単位（II）、（II’）及び（III）の合
    計に対するモル比が１であること； ・単位（II）及び（II’）の混合物中の単位（II’）の
    量が０〜５モル％の範囲にあり且つこの混合物中の単位
    （II）の量が１００〜９５モル％の範囲にあること； ・単位（II）、（II’）及び（III）の混合物中の単位
    （III）の量が次の追加的条件： ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４がそれ
    ぞれ１個より多い炭素原子を有する基を表わす場合には
    この単位（III）の量が８モル％より少なく、 ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４のうち
    の２つだけがそれぞれ１個より多い炭素原子を有する基
    を表わす（この場合、他の２個の記号はそれぞれメチル
    基を表わす）場合にはこの単位（III）の量が１３モル
    ％より少な く、 ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４がそれ
    ぞれメチル基を表わす場合にはこの単位 （III）の量が１８モル％より少ない： に従うこと： を特徴とする前記コポリアミド。
  2. （２）・単位（III）が前記においてＡが−ＣＨ＿２−
    である構造を有し 且つ ・単位（II）、（II’）及び（III）の混合物中の単位
    （III）の量が次の追加的条件： ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４がそれ
    ぞれ１個より多い炭素原子を有する基を表わす場合には
    この単位（III）の量が２〜７モル％の範囲にあり、 ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４のうち
    の２つだけがそれぞれ１個より多い炭素原子を有する基
    を表わす場合にはこの単位（III）の量が２〜１２モル
    ％の範囲にあり、 ・４つの記号Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４がそれ
    ぞれメチル基を表わす場合にはこの単位 （III）の量が２〜１７モル％の範囲にある に従う 構造を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
    載のコポリアミド。
  3. （３）式（III）の単位が次の立体障害ジアミン：・４
    ，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチル−５，５’−ジ
    メチルジフェニルメタン ・４，４’−ジアミノ−３．３’，５，５−テトラエチ
    ルジフェニルメタン 及び ・４，４’−ジアミノ−３，３’，５，５−テトライソ
    プロピルジフェニルメタン から由来する構造を有することを特徴とする特許請求の
    範囲第２項記載のコポリアミド。
  4. （４）特許請求の範囲第１〜３項のいずれかに記載のコ
    ポリアミドと、ナイロン−１２、ナイロン−１１、ナイ
    ロン−６９、ナイロン−６１０、ナイロン−６６若しく
    はナイロン−６又はこれらのタイプのナイロンのホモポ
    リアミドを生成するモノマー群から得られるコポリアミ
    ドとの混合物又はブレンド。
  5. （５）特許請求の範囲第１〜３項のいずれかに記載のコ
    ポリアミドから又は特許請求の範囲第４項記載の混合物
    若しくはブレンドから製造された、成形物品、中空体、
    フィラメント及びフィルムのような造形製品。
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