JPH02294912A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、それぞれ電気回路をなす軟磁性薄膜を形成し
た１対の基板をガラスにより接合してなる磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、磁気記認の分野では高密度化により、いわゆるメ
タルテープのような高保磁力媒体が主流となりつつある
が、それに伴って、磁気ヘッドに使用されるコア材料に
は高い飽和磁束密度を有するものが要求されている。

以下、第５図〜第９図に基づいて、そのような高飽和磁
束密度を有する磁気ヘットの製造手順を説明する。

まず、第５図（ａ）に示すように、感光性結晶化ガラス
からなる基板８　１．　１の表面に、最終的な磁気ヘッ
ドの厚さ及び分断する際の切り代を考慮したピンチ寸法
Ａで、ほぼＶ字状の溝１５・１５・・・を複数個連続し
て形成する。各溝１５の少なくとも一方の側壁１．　５
　ａと、基板１３１１におりる溝１５・１５・・・の加
工前の表面に対する法線Ｈとのなず角θは、最終的な磁
気ヘッドにおけるアシマス角とほぼ等しくすることが望
ましい。なお、溝１５・１５・・・は、例えば、ダイシ
ングにより形成される。

次に、第５図（ｂ）に示すように、各溝１５の一方の側
壁１５ａに、真空蒸着法、スパンタリング法等の薄膜形
成技術によって磁気ヘッドのギャップ幅にほほ相当する
所定の膜厚となるようにＦｅＡｊ２ｓ　ｉ系合金からな
る軟磁性薄膜１２を形成する。

続いて、第５図（．　Ｃ．　）に示すように、溝１５・
１５・・・上に、例えば、直径１ｍｍ程度の円柱状のガ
ラスＳＬ４・ＳＬ４・・・を適当な間隔で配置するか、
又は、第８図に示すような、例えば、厚めが０．６ｍｍ
程度の板状のガラスＢ１４を配置して加熱することによ
り、ガラスＳ１４・Ｓｌ／Ｉ・・・又４ＪＢ　１．　４
を熔解し、第５図（ｄ）の如く、ガラス充填材１４とし
て各溝１５内に充填する。

その後、第５図（ｃ）の々０＜、ｉｉ＋’）　Ｉ　５　
　１５から溢出した余剰のガラス充填月１４を研削し、
表面を平坦にする。そして、第５図（ｆ）に示すように
、基板Ｂｌｌを溝１５・１５・・・の延びる方向に対し
直角な方向に、所定のピッチＥで切断する。

続いて、切断後の基板Ｂｌｌに、第５図（ｇ）の如く、
公知のビデオテープレコーダ用のフェライ１・ヘッド・
゛と同様６こ巻線溝を設けるとともに、ギャップ面１７
の形成加工を施す。

引続き、２個の基板Ｂｌｌ・８　１．　１の溝１５・１
５同士を互いに対向させ、軟磁性薄膜１２・１２同士の
位置を対応させた状態で加圧固定し、ガラス充填材１４
・１４同士が接着力を持つ程度の温度まで加熱して基板
Ｂ１１　Ｂ１１を接合し、コアブロックＢ１８を形成す
る。

次に、コアブロンクＢ１８を対向ずる溝１５・１５のほ
ぼ中央位置にて切断することにより、第９図に示すよう
な、基板１１・１１の上端狭幅部１］ａ・ｌｌａ間にギ
ャップ１３を有ずる磁気ヘッＦ１８を複数個を得る。こ
のようにして得られた各磁気ヘソドＪ８は、図示しない
ベース板に接着して固定され、コイルが巻回されるとと
もに、テープ研磨が施される。

〔発明が解決しようとする課題］ ところで、一般に、金属とガラスとは伺着性が良好では
ないので、上記の磁気ヘッド１８においても、軟磁性薄
欣Ｉ２とガラスＳ１４・Ｓｌ，ＩＩ・・・又はＢ　１．
　／Ｉとは付着性が悪いものである。従って、ガラスＳ
ｌ４・Ｓ１４・・・又ばＢ　１．　４の熔解時に、第６
図に示すよ・うに、ガラス充填＋Ａ’ｌ４が収縮して基
板Ｂｌｌの中央部に集中し、基板３　１．　１０）全域
にガラス充填材１４を充填できないことが多いので、歩
留りが低下する不具合がある。

又、ガラス充填祠１４の収縮を考慮に入れて、例えば、
直径２．０〜３．０ｍｍ程度の太めの円柱状ガラスを基
板Ｂｌｌ上に多数本配置して溶解させた場合は、第７図
のように、ガラス充填材１４か基板Ｂｌ’ｌから溢れる
か、又は、不必要に厚めか増すので、次に研削工程が困
対１になるとともに、ガラスの使用量が増大ずるという
問題が発生ずる。

〔課題を解決するだめの手段］ 本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、下記の方法を用いて磁気ヘッドを製造するこ
とにより、適切なガラスの充填を行えることを見出した
。

すなわち、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、表面
に複数のほぼＶ字状の溝を連続して設け、各溝の一方の
壁面に軟磁性薄膜を形成し、かつ、上記各溝にガラスを
充填してなる基板を準備し、引続き、上記の如く形成さ
れた１対の基板を溝同士を対向させて接触さゼ、充填し
たガラスを溶解させることにより基板同士の接合を行う
ようにした磁気ヘッドの製造方法において、基板の各溝
へのガラスの充填に際し、基板の溝上にそれぞれ融点の
異なる少なくとも２種類の棒状ガラスを隣接させて配置
し、加熱により順次熔解させるようにしたことを特徴と
するものである。

〔作　用〕

上記の方法によれば、ほぼＶ字状の溝にガラスを充填す
る際に、基板上に融点の異なる少なくとも２種類の棒状
ガラスを隣接配置して加熱するようにしたので、融点の
最も低い棒状カラスか溶解する際には、隣接する他の棒
状ガラスは未だ溶解しないで固形状態を維持しているの
で、最初に溶解する棒状ガラスは他の棒状ガラスに密着
することにより、さほと収縮しない状態で基板の全域に
おりる溝内にほぼ均一に充填される。その後、温度の上
昇に伴って、より融点の高い他の棒状カラスが順次溶解
するが、これらの棒状ガラスには既に溶解したガラスが
何着しているので、後に溶解する棒状ガラスもさほど収
縮せずに基板の各溝因にほぼ均一に充填される。これに
より、比較的少量のガラスにより基板の全域の溝への充
填を行うことができるようになる。

（実施例〕 本発明の一実施例を第１図乃至第４図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。

第４図に示すように、本実施例に係る磁気ヘソｌ一”８
はガラス充填材４により互いに接合された１対の基板１
・１を備えている。基板１・１の各１対の傾斜した壁面
の内の互いにほほ同−・力一向を向いた各一方の壁面に
は、それぞれ軟磁性薄膜２・２が形成されている。両基
板１・１の上端狭幅部１ｃ・１ｃにおｉＪる軟磁性薄膜
２・２間には、所定のギャップ長を有するギャンプ３が
形成されている。両基板１・１には、外部巻線溝１ａと
内部巻線溝１ｂとが設けられ、外部巻線溝１ａと内部巻
線溝１ｂとの間には、図示しないコイルが巻回されてい
る。

以下、磁気ヘット８の製造手順を説明する。

まず、第１図（ａ）に示すよ・うに、感光性結晶化ガラ
スからなる、比較的大面積を有する基板Ｂ１の表面に、
完成状態の磁気ヘッド８の厚さ及び分断する際の切り代
を考慮したピッチ寸法Ａ１で、ほぼＶ字状の溝５・５・
・・を複数個連続して形成する。各溝５の少なくとも一
方の側壁５ａと、基板Ｂ１におげる溝５・５・・・の加
工前の表面に対する法線Ｈ，　とのなす角θ１は、完成
状態の磁気ヘソド８におけるアジマス角とほぼ等し《す
ることが望ましい。湯５・５・・・は、例えば、ダイシ
ングにより形成される。

次に、第１図（ｂ）に示すように、各溝５における一方
の側壁５ａに、真空蒸着法、スパンタリング法等の薄膜
形成技術によって、磁気ヘットのギャップ幅にほぼ相当
する所定の膜厚となるように、例えば、ＦｅＡｆｆＳｉ
系合金からなる軟磁性薄膜２を形成する。

続いて、第１図（Ｃ）及び第２図に示すように、各溝５
内に、融点が比較的低くかつ、互いに融点の異なる２種
類の棒状ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂを隣接させて配置する。

これら２種類の棒状ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂは、ともに直
径が、例えば、０．２〜０．３ｍｍで、かつ、長さが、
例えば、１２ｍｍ以下とされる。棒状ガラスＳ　４　ａ
・４ｂとして、本実施例では鉛系のものが使用され、そ
の物性は第１表の通りであって、棒状ガラスＳ４ａの融
点は棒状ガラスＳ４ｂの融点より僅かに低くなっている
。なお、図面では、棒状ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂを円柱状
としたが、例えば、角形断面としても良い。又、第１表
中のα５０−３００は５０〜３００゜Ｃにおりる熱膨張
率である。

各溝５内に棒状ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂを配置した後、例
えば、窒素雰囲気中で３０分間５１０゜Ｃに加熱ずる。

これにより、まず、融点の低い棒状ガラスＳ　４　ａ　
′ＪＪ＜溶解し、各溝５内に充填される。この時、他方
の棒状ガラスＳ４ｂば未だ溶解せずに固形状態を糾持し
ているので、棒状ガラスＳ４ａはさほど収縮せず、基板
Ｂ１の全域の溝５・５・・・内にガラス充填材４として
ほほ均等に充填される。

続いて、温度の」二昇に伴って、より融点の高い棒状ガ
ラスＳ４ｂが溶解ずるが、棒状ガラスＳ４ｂには既に溶
解した棒状ガラスＳ　／Ｉ　ａが｛＝Ｊ　２ｉ　Ｌてい
るので、棒状ガラスＳ／ｌｂもさほと収縮せすに、基板
Ｂ１の全域の溝５・５・・・内にほぼ均一に充填される
。又、ガラス充填月４の過剰分は溝５・５・・・の外部
に溢れ、第１１１ｆｆｉ（ｄ）及び第３図の如く、棒状
ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂの溶解が絢了する。

その後、第１図（ｅ）の如く、溝５・５・・・から溢出
したガラス充填材４を研削し、表面を平坦にする。そし
て、第１図（ｆ）に示すように、基板Ｂ１を溝５・５・
・・の延びる方向に対し直角な方向に、所定のピッチＥ
，て切断ずる。

続いて、切断後の基板Ｂ１に公知のビデオテプレコーダ
用のフェライ１・ヘッドと同様に、第１図（ｇ）の如く
、外部巻線溝Ｂ　１　ａ及び内部巻線溝Ｂｉｂを設ける
とともに、ギャンプ面■・７・・・の形成加工を施す。

引続き、第１図（ｈ）に示すように、２個の基板Ｂ１・
Ｂ１の｝ＩＩ１５・５同士を互いに対向させ、軟磁性薄
膜２・２同士の位置を対応させた状態で加圧固定する。

そして、ガラス充填材４・４同士か接着力を持つ程度の
温度まで加熱して基板Ｂ１・Ｂ１を接合し、コアフロッ
クＢ８を形成する。

次に、二１アブロソクＢ８を、両側の基仮Ｂ１・Ｂ１に
おける対向ずる溝５・５のほぼ中央位置にて切断するこ
とにより、第４図に示すような磁気ヘンド８を複数個を
得る。このようにして得られた各磁気ヘソド８は、図示
しないベース板に接着して固定され、外部巻線溝１ａと
内部巻線溝１ｂとの間に図示しないコイルが巻回される
とともに、テープ研磨が施される。

なお、上記の実施例では、溝５・５への充填用に融点の
異なる２種類の鉛系の棒状ガラスＳ４ａ・Ｓ　４．　ｂ
を使用したが、棒状ガラスＳ４ａ−Ｓ４ｂは鉛系以外の
ものであっても良く、又、互いに融点の異なる３種類以
上の棒状ガラスを使用することもてきるものである。

〔発明の効果〕

本発明に係る磁気ヘットの製造方法は、以−１二のよう
に、表面に複数のほぼＶ字状の溝を連続して設け、各溝
の一方の壁面に軟磁性ηリ膜を形成し、かつ、」二記各
溝にガラスを充填してなる基板を十備し、引続き、上記
の如く形成された１対の基板を溝同士を対向させて接触
させ、充填したカラスを溶解させることにより基板同士
の接合を行うようにした磁気ヘッドの製造方法において
、基板の各溝へのガラスの充填に際し、基板の溝１二に
それぞれ融点の異なる少なくとも２種類の棒状ガラスを
隣接させて配置し、加熱により順次溶解させるようにし
た構成である。

これにより、ほぼＶ字状の溝にカラスを充填する際に、
基板上に融点の異なる少なくとも２種灯｛の棒状ガラス
を隣接させて配置して加熱するようにしたので、融点の
最も低い棒状カラスか溶解する際には、隣接する他の棒
状ガラスは未た溶解しないで固形状態を維持しているか
ら、最初に溶解する棒状ガラスは他の棒状ガラスに密着
することにより、さほど収縮しない状態で栽板の全域に
おける溝内にほぼ均一に充填される。

その後、温度の上昇に伴って、より融点の高い他の棒状
ガラスが順次溶解するが、これらの棒状ガラスには既に
溶解したガラスが付着しているので、後に溶解する棒状
ガラスもさほど収縮せずに基板の各溝内にほぼ均一に充
填ざれる。その結果、比較的少量のガラスにより基板の
全域の溝へほぼ均一に充填を行うことができるので、歩
留りの向上と、ガラスの使用量の抑制とを図ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は木発明の実施例を示すものである。 第１図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ磁気ヘッドの製造手順
を示す概略縦断面図である。 第１図（ｆ）〜（ｈ）はそれぞれ第１図（ａ）〜（ｅ）
に引き続く磁気ヘッドの製造手順を示す概略斜視図であ
る。 第２図は基板」二に２種類の棒状ガラスを配置した状態
を示す概略斜視図である。 第３図はガラスか溶解した状態を示す概略斜視図である
。 第４図は完成した磁気ヘン１・の斜視図である。 第５図乃至第９図は従来例を示すものである。 第５図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ磁気ヘッドの製造手順
を示す概略縦断面図である。 第５図（ｆ）及び（ｇ）はそれぞれ第５図（．′３）〜
（ｅ）に引き続く磁気ヘットの製造手順を示す概略斜視
図である。 第６図及び第７図はそれぞれガラスの充填不良が生じた
状態を示す概略斜視図である。 第８図は磁気ヘッドの異なる製造手順におりる１工程を
示す概略縦断面図である。 第９図は完成した磁気ヘットの斜視図である。 Ｂ１は基板、２ば軟磁性薄膜、Ｓ４ａ−３４ｂは棒状ガ
ラス、５は溝、５ａは側壁、８は磁気ヘッドである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、表面に複数のほぼＶ字状の溝を連続して設け、各溝
   の一方の壁面に軟磁性薄膜を形成し、かつ、上記各溝に
   ガラスを充填してなる基板を準備し、引続き、上記の如
   く形成された１対の基板を溝同士を対向させて接触させ
   、充填したガラスを溶解させることにより基板同士の接
   合を行うようにした磁気ヘッドの製造方法において、 基板の各溝へのガラスの充填に際し、基板の溝上にそれ
   ぞれ融点の異なる少なくとも２種類の棒状ガラスを隣接
   させて配置し、加熱により順次溶解させるようにしたこ
   とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。