JPH02289545A - １―ヒドロカルビロキシ立体障害アミンメルカプト酸エステル、チオアセタール、スルフィド及びジスルフィド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、メルカプト酸のエステル、チオアセタール、
スルフィド及びジスルフィドである１−ヒドロカルビロ
キシ基立体障害アミン化合物及び該化合物の存在によっ
て化学線の有害作用に対して安定化されｔポリマー組成
物に関する。

（従来の技術・発明が解決しようとする課＠）米国特許
第４９３９．１７０号は、オキシル基又はヒドロキシル
基によって窒素原子に置換された化合物と同様に４−　
（２，２，６，６−テトラメチル１、２．３．　ｉｓ−
テトラヒドロピリジン）スルフィド、スルホキシド及び
スルホンである立体障害アミン誘導体について記載して
いる。

立体障害アミン部を含む置換チオカルボキシレートエス
テルは、米国特許第４，１０２，８５８号に開示されて
いるが、これらのエステルのいずれに於ても立体障害ア
ミン窒素原子がヒドロカルビロキシ基全有するものはな
い。

本イピ合物は、これら従来の技術の物質とけ明らかに構
造上具りでいる。

（課題を解決するための手段） 本発明は、次式！乃至■で表わされる１−ヒドロカルビ
ロキシ立体障害アミン誘導体に関するＯ 〔上記式中Ｘは、１父は２を表わし、几、及び几。

は独立してメチル基又はエチル基を表わすか又は、几、
及びＲ，は−緒になってペンタメチレン基を表わし、几
、は炭素原子数１〜３のアルキレン基を表わし、Ｅは、
炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数５〜１２
のシクロアルキル基、炭素原子数３〜１Ｂのアルケニル
基、炭素原子数５〜１２のシクロアルケニル基、炭素原
子ａ７〜１５のアラルキル基、炭素原子数７〜１２の飽
和又は不飽和二環式又は三環式炭化水素又は、炭素原子
数６〜１０のアリール基、父はアルキル基で置換された
炭素原子数６〜１０のアリール基を表わし、ＴＩは、炭
素原子ｅ１．１〜１８の１．１−アルキリデン基、炭素
原子数５〜１２の１．１−シクロアルキリゾｙ基、ベン
ジリデン基、４５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジリデン基又はナフトール基を表わし、Ｔ、は’ｃ
ｈ−几、−ＣＨぐ （）Ｌ４が直接結合、炭素原子数１〜１０のアルキレン
基又は、炭素原子数６〜１０のアリレン基を表わし）を
表わし、 Ｌは次式Ｘ （８藝は水素原子、メチル基又はフェニル基を表わし、
ｌ七〇は水素原子又はメチル基を表わし、ルアは水素原
子、炭素原子数１〜４のアルキル基、−Ｃ山Ｃｏ−Ｘ４
．　、−ＣＨ，Ｃ）ｌ、Ｃ０−Ｘ４．　Ｔ（＊は一０Ｈ
（Ｃ）（、）Ｃｏ−Ｘ４．　、を表わし、Ｘは一〇−又
は−ＮＲ，−を表わし、 ル８は、水素原子、炭素原子数１〜１８のアルキル基、
炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子ａ５〜１
２のシクロアルキル基、次式で表わされる基を表わす。

）で表わされる基を表わすか、ｆたはＬは−ＯＨ，ＣＨ
，ＣＮ又は−ＣＨ，ＣＨ，ＰＯ（０凡）９ （几９は炭素原子数１〜４のアルキル基を表わす。）を
表わすか、まｆｃＶｉ、１．、は次式（Ｒｔｏは水素原
子又はメチル基金、ル、１は炭素原子数１〜８のアルキ
ル基又は、フェニル眉ヲ表わす）で表わされる基を表わ
し、そして り、は、水素原子を表わすか父は、Ｌと同じ意味を表わ
す。〕 好ましくは几ｉ及び鳥はおのおのメチル基金表わす。

鳥は好ましくは、メチレン基又はエチレン基を表わす。

Ｅは好ましくは、炭素原子数１〜１２のアルキル基、シ
クロヘキシル基又はアルファ−メチルベンジル基ｔ−表
わし、最も好まし＾のは、メチル基、オクチル基、ノニ
ル基、シクロヘキシル基又は、アルファ−メチルベンジ
ル基である。

ＴＩは好ましくは、炭素原子数４〜１２の１．１−７１
Ｌ／キ’）テン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン父
はへ５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジリデ
ンである。

Ｔ、は好ましくは、几４が１１！接結合、メチレン基又
はＰ−フェニレン基で表わされる基である。

好ましくは、Ｌは、式ＩＸ＋　（几、及び几−は、おの
おの水素原子全表わし、几）は水素原子父はメチル基を
表わ１〜、Ｘは一〇−を表わし及び几、は炭素原子数１
〜Ｂのアルキル基を表わし、最も好ましくはＲ８が炭素
原子数１〜４のアルキル基を表わす）で表わされる基で
ある。

本発明の化合物は、メルカプト酸の１−ヒドロキシカル
ビロキシ−２，λへ６−テトラにチＪし・ピペリジン−
４−イルエステルから製造される。これらのエステルを
、ミカエル付加（Ｍｉｃｈａｅｌ　ａｄｄｉｔｉｏｎ）
で二重結合に付加する為に、α、β−不飽和不飽和ニル
ボニル化合物させるか、又は、相当するチオアセタール
を生成する為にアルデヒドと反応させる。

１−ヒドロカルビロキシ−２，２，６，６−チトラメチ
ルピベリジンー４−イルエステルは、慣用の方法によっ
て相当するアルコールから生成される。

中間体立体障害アミンアルコールは、商業品目としては
メルカプト酸である。

ヒドロキ’／　）Ｌｔ　７ミンは、Ｅ、　Ｇ、　Ｒｏｚ
ａｎｔｓｅｖ他著者によるｒｓｙｎｔｈｅｓ　ｉｓ　、
　１９７１年Ｐ、１９０Ｊカら教授されるように過虐化
水Ｊ！ｇヲ使用してアミンからＮ−オキシル中、′ｔｌ
ｌ１体への酸化によって、又は、有機過酸化物と金属醗
化物触媒、引き続く接触水素添加（米国特許第４．６６
５，１８５号）によって有効に合成される。

Ｎ−ヒトミカルビロキシ立体障害アミンは、幾つかの旺
路で合成される。

Ｎ−メトキシ誘導体は、Ｎ−オキシル化合物１クロロベ
ンゼンのような不活性溶媒中、シー第三−ブチルパーオ
キサイドの熱分解から生成するメチル基と反応させるこ
とによって製造される・ Ｎ−ヒドロキシ誘導体は、水素化ナトリウムとアルキル
ハライドの反応によってアルキル化され得る。Ｎ−ハイ
ドロカルビロキシ化合物を合成する好ましい方法は、Ｂ
Ｐ−人−３０９，４０２号に教授されてｈるように立体
障害アミン又は、そのＮ−オキシ誘導体の炭化水素溶液
と第三−ブチルハイドロパーオキサイド及び金属酸化物
触媒との熱反応を含む。

α、β−不飽川カル用ニル中間体は、広く商業的品目と
なっている。

典捜的なα、β−不飽和カルボニル中間体は、アクリレ
ート、メタクリレート、シンナメート、チグレート、ク
ロトネート、イタコネート、シー＋ トフネート、セネシオエート（ジメチルアクリレート）
、マレート、フマレート、マレイミド等に代表されるエ
ステル、アミド、酸、イミド及びケトンである。

本発明は、２．２．ｌｈ、６−テトラアルキルピペリジ
ン構造を強調しているが、本発明はまた、次のようなテ
トラアルキル置換ピペラジン、又はピペラジノン部分 （Ｍ及びＹは、独立してメチレン基又はカルボニル基を
表わし、好ましくは、Ｍがメチレン基及びＹはカルボニ
ル基を表わす。〕が上記テトラアルキルピペリジン部分
に対して置換されている化合物に関することに留意され
るべきであるＯ そのような化合物に適用される同一の置換基は、環窒素
原子に対する置換に適する置換基であると理解される。

本発明の化合物で特に有効な基ｇ！は、ポリエチレン及
びポリプロピレンのようなポリオレフィン：特に耐衝撃
性ポリスチレンを含むポリスチレン：ＡＢ８樹脂：例え
ば、ブタジェンゴム、ＥＰＭ、　ＥＰＤＭ、　８ＢＲ及
びニトリルゴムのようなエラストマーである。

一般に安定化され得るポリマーは、以下のものを含む。

１、　モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー　例
えばポリエチレン（場合により架橋されうる）、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメ
チルペンテン−１、ポリイソプレン又は、ポリブタジェ
ン、同様に例えばシクロペンテン又は、ノルボレンのよ
うなシクロオレフィゾのポリマーＺ　　１）で述べたポ
リマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチ
レンとの混合物。

五　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ン、フロピレン／ブテン−ｔ、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジェン、
インブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエチ
レンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロベンタジエンマタはエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー ４、　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

翫　スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはアク
リル誘導体とのコポリマー　例えばスチレン／ブタジェ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチルメ
タクリレート、スチレン／ブタジェン／エチルアクリレ
ート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト：スチレンコポリマーと別のポリマー例えばポリアク
リレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン
／ジェンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；および
スチレンのプロリクボリマー例えばスチレン／ブタジェ
ン／スチレン、スチレン／インプレン／スチレン、スチ
レン／エチレン／ブチレン／スチレンまタハスチレン／
エチレン／プロピレン／スチレン。

＆　スチレンのグラフトコポリマー　例えばポリブタジ
ェンにスチレン、ポリブタジェンにスチレン及びアクリ
ロニトリル、ポリブタジェンにスチレン及びアルギルア
クリレート又はメタクリレート、エチレン／プロピレン
／ジェンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル
、ポリアクリレート又はポリメタクリレートにスチレン
及びアクリロニトリル、同様にこれらと５）に列挙した
コポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、Ｍ１３Ｓ−、
Ａ８Ａ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコ
ポリマー混合物。

Ｚ　ハロゲン含有ポリマー　例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレ
ン、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー　ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー　例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニ／Ｌ／。

ポリ弗化ビニリデン並びにこれらのコポリマ、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルマ
几は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー又は、弗化
ビニル／ビニルエーテルコポリマー ａ　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

ρ　前記８）に挙げたモノマー相互のよたは他の不飽用
モノマーとのコポリマー　例えばアクリロニトリル／ブ
タジエ／、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、
アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートま
たはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーま
たはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブ
タジェンターポリマー。

１ｃＬ　　不飽和アルコールおよびアミンまたはそれら
のアシル誘導体ま虎はそれらのアセタールから誘導され
たポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレート、またはポリアリルメラミン。

１１、　　環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマ
ー　例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシドま穴はこれらとビス−
グリシジルエーテルとのコポリマー １２、　　ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン
、およびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリ
オキシメチレン。

仏　ボリフヱニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

抹　一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルｆ、りはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導場れたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１５、　　ジアミンおよびジカルボン酸および／ｆ、’
ｔはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導
されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミ
ド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６
／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ２．４
．４−　）リメチルへキサメチレンテレフタルアミド、
ポリーＰ−フェニレンテレフタルアミド又ハ、ボＩＪ−
ｍ−フ二二しンイソフタルアミド並びに、これらとポリ
エーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール父は、ポリテトラメチレングリコールと
のコポリマー。

１＆　ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド
。

１１　　ジカルボン酸およびジオールおよび／乏たはヒ
ドロキシカルボン酸ｆ＝７ｔｔｌ；を相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ホリプチレンテレフタレート、ポリ−１，
４−ジメチロールーシクロヘキサンテレフタレート、ポ
リ−〔λ２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フロパン
〕テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート並
びにヒドロキシ末端基を有するポリエーテルから誘導さ
れたブロックコポリエーテルエステル。

１ａ　　ポリカーボネート。

１９、　　ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよび
ポリエーテルケトン０ ２ｃＬ　　一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成
分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導され
定架橋ポリマー　例えばフェノール／ホルムアルデヒド
樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホ
ルムアルデヒド樹脂。

２ｔ　　乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、　　飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールおよび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエス
テルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼
性の低いそれらのハロゲン含有変性物・ ２五　置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはシリコン−アク
リレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

ハ　メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂を架橋剤として添加したアルキド樹脂、
ポリエステル樹）１ｗまたはアクリレート樹脂。

２Ｓ、　　ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエ
ーテル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋
エポキシ樹脂。

２＆天然ポリマー　例えばセルロース、ゴム、ゼラチン
、およびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体
、例えは酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよ
びセルロースブチレート、またはセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。

２ｚ　　前述したポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰ
ＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢ８　。

ＰＶＣ／ｇＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢ８　、ＰＶＣ／ＭＢ８　
、ＰＣ／ＡＢ８．ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

２ａ　　純単量体化合物ＩＬりはその混合物からなる天
然および合成有機材料、例えば、鉱油、動物および種物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例え
ば、フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリ
メリテート）ヲヘースとした上記オイル、脂肪およびワ
ックス、並びに合成エステルの適当な重量比で混合され
た鉱油との混合物で、その材料はポリマーのための可塑
剤または繊維紡績油として並びにこのような材料の水性
エマルジｌンとして使用され得る。

２９、　　天然または合成ゴムの水性エマルジｌン、例
えばカルボキシル化スチレン／ブタジェンコポリマーの
天然ラテックス又は格子状物質。

３α　ポリシロキサン、例えば、米国特許第４．２５９
，４６７号に記載されている軟質、親水性ポリシロキサ
ン、及び例えば、米国特許第４．５５５，１４７号に記
載されている硬質ポリオルガノシロキサン。

３１、　　不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂、
又は、不飽和アクリル樹脂との組み合せのポリケチミン
。不飽和アクリル樹脂は、ウレタンアクリレート、ポリ
エーテルアクリレート、不飽和官能基が付いたビニル又
は、アクリルコポリマー及びアクリル化されたメラミン
。

ホｌ）ケ今ミンは、酸触媒存在下でポリアミン及びケト
ンから合成される。

３２、　　エチレン性不飽相モノマー父はオリゴマー及
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含む放射硬化性組成物。

３五　エポキシメラミン樹脂、例えば、Ｌ８Ｅ４１０３
（モンサンド社製）のような高固体含有メラミン樹脂を
コニ−チル化し次エポキシ官能基によって架橋された光
安定エポキシ樹脂。

一般に本発明の化合物は、安定化組成物の重量に基づい
て約１０１〜約５重量暢量で使用される。しかしながら
、この量は特定の基質及び用途により変化するであろう
。有利な範囲は約［Ｌ５〜２重量係、特に（１１〜約１
重Ｗｋ％である。

本発明の安定剤を成形物製造前のいかなる有利な段階に
おいても、慣用の技術によって有機ポリマー中にたやす
く混合される。

例えば、安定剤を乾燥粉末形でポリマーと混合してもよ
い。父は安定剤の懸濁液、又は、乳濁液を、ポリマーの
溶液、懸濁液又は乳濁液と混合してもよい。本発明の安
定化ポリマー組成物は、必要に応じて次のような多種の
有効な添加物金倉んでもよい。

４．６−シメチルフエノール、λ６−シオクタデシルー
４−メチルフェノール、２．４．６−　）リシクロヘキ
シルフェノール、２．６−ジ−第三ブチル−４−メトキ
シメチルフェノール。

１．２．　　アルキル化ヒドロキノン 例えば、２．６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノ
ール、２．５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２．５−
ジ−第三アミルヒドロキノンおよび２．６−ジフェニル
−４−オクタデシルオキシフェノール・ 例えば、２．６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジ−第三７’チル−４−エチルフェノール、２．
６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２．
６−ジ−第三ブチル−４−イソ−ブチルフェノール、λ
６−ジ−シクロペンチルー４−メチルフェノール、２−
（α−メチルシクロヘキシル）−例えば、２．２’−チ
オビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２
．２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４．４
′−チオビス（６−第三ブチル−３，−メチルフェノー
ル）および４．４′−チオビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）。

例えば、２．２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２．２１−メチレンビス＜６−
Ｍ三ブチル−４−エチルフェノール）、λ２′−メチレ
ンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル
）フェノール〕、２．２１−メチレンビス（４−メチル
−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２’−メチレ
ンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２．２
１−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−
ノニルフェノール〕、２．２′−メチレンビス〔６−（
α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕
、λ２′−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェ
ノール）、２．２１−エチリデン−ビス−（４゜６−　
シー　ｆｌＸｌＸ三ツチルフェノールλ２′−エチリデ
ンービスー（６−第三−ブチ／Ｌ／　−４−イソブチル
フェノール）、４．４’−メチレン−ビス−（２，６−
ジ−第三−ブチルフェノールＸ４４′−メチレン−ビス
−（６１Ｅ三−ブチル−２−メチルフェノール）、１．
１−ビス−（５−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル−ブタン、２．６−ジ−（３−第三−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メ
チルフェノール、１．　ｉ、　３−トリス（５−第三ブ
チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ｙｐン
、Ｌｌ−ビス（５−ｇ三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカブトフタン
、エチレングリコール−ビス−〔４３−ビス（３′−第
三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）−ブチレート〕
、ジ（３−ｉ三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジェン、ジ（２−（５’−第三
プチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−
６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート
。

例えば、１．４５−トリス（へ５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−ドリメチルベ
ンゼン、ジ（４５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチルへ５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２６−シメチル
ベンジル）−ジチオールテレフタレート、１．４５−ト
リス（４５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
）インシアヌレート、’＝１５−１’リス（４−第三プ
チル−５−ヒドロキシ−２，６−シメチルベンジル）イ
ンシアヌレート、ジオクタデシルへ５−ジ−ＩＥＥ７’
チルー４−ヒドロキシペンシルホスホネート、モノエチ
ル八５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホ
スホネートのカルシウム塩。

ｔ＆　アシルアミノフェノール 例えは、ラウリル酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリ
ン酸４−ヒドロキシアニリド、２．４−ビス（オクチル
メルカプト）−６−（へ５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシアニリノ＞−ｓ−トリアジンおよびＮ−（３，５
−ジ−ｔＡ三−ｊチルー４−ヒドロキシフェニル）−カ
ルバミン酸オクチルエステル。

１．７．　　以下のような一価または多価アルコ−エス
テル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレｙ　ｆ　ＩＪコール、１
．６−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオ
ペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソ
シアヌレート、チオジエチレングリコール、ジヒドロキ
シエチル蓚酸ジアミド。

アルコールノ例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）インシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、ジヒドロキシエチ
ル蓚酸ジアミド。

ド 例えばＮ、Ｎ’−ジ（へ５−ジ−第三ブチル−４〜ヒド
ロキシフエニルプロピオニル）−ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ、Ｎ’−ジ（４５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンおよ
びＮ、Ｎ’−ジ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

４′−オクトキシ、５″、５′−ジ−第三アミルおよＯ
ｓ’、ｓ’−ビス（α、α−ジメチルベンジル９３′−
第三一ブチル−５’−（２−（オメガ−ヒドロキシオク
タ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−５’−
Ｙｙ’シル−５′−メチル、５゛−第三ブチル−５’−
（２−オクチロキシカルボニル）エチル、及びドデシル
化−５′−メチル誘導体。

例１；ｌ：４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクト
キシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベ
ンジルオキＶ、４２’、４’−トリヒドロキシおよび２
′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

例えば５′−メチル、５’、　５’−ジ−第三ブチル、
５′−第三ブチル、５’−（１，１，へ３−テトラメチ
ルブチル）、５−クロロ−３’、５’−ジ−第三ブチル
、５−クロロ−５１−第三プチル−５′−メチル、３’
−第二ブチル−５′−第三ブチル、ステル 例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−１１Ｅ三ブチルベン
ゾイル）−しゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール
、乙４−ジ−第三ブチルフェニル３．５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベン／エートおよびヘキサデシルへ
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

例えばエチルα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレ
ート、イソオクチルα−シアノ−β、β−ジフヱニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシ多ナメート、メ
チルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメ
ート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル）−２−メチルインドリン〇 例えば２．２１−チオ−ビス−（４−（１，１，へ５−
テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体、例
として１：１または１：２錯体、場合によシ付加配位子
例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたは
Ｎ−シクロヘキシルジェタノールアミンを有してよい、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ
−４５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキ
ルエステル例えばメチル、エチルまたはブチルエステル
のニッケル塩、ケトオキシム例えば２−ヒドロキシ−４
−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯
体および場合により付加配位子ｔ−含ンでよい１−フェ
ニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニ
ッケル錯体。

２、直　　立体障害性アミン 例えば、ビス（２，λへ６−テトラメチルーピベリジル
）セバケート、ビス（１，２，２，４６−ペンタメチル
ピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−４５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビス（
１，２，２゜４６−ペンタメチルピペリジル）エステル
、１−ヒドロキシエチル−２，２，４６−テトラメチル
−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ
、Ｎ’−（２，２６，６−テトラメチルピベリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，
６−ジクロロ−５−）リアジンとの縮合物、トリス（２
，２，４６−ケトラメチルピペリジル）ニトリロトリア
セテート、テトラキス（２，２，４６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，２，４４−ブタンテトラカルボ
ン酸、１．１’−（１，２−エタンジイル）ビス（４５
，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）。

例えば４．４゛−ジオクチルオキシオキサニリド、２．
２′−ジオクチルオキシ−へ５′−ジ−第三ブチルオキ
サニリド、２．２’−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ
−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチ
ルオキサニリド、へ。

Ｎ’−ビｘ（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルア
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオ
キサニリドおよびこれと２−エトキシ−２′−エチル−
翫４゛−ジ−第三ブチルーオキサニリドとの混合物、お
よびオルト−メトキシおよびパラーメトキシニ置換オキ
サニリドの混合物および〇−エトキシおよびｐ−エトキ
シニ置換オキサニリドの混合物。

λａ　ヒμｍαキシフｉ＞＋レーＳ−μリアシＩン例え
ば、２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−４
−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
８−）リアジン：２゜６−ビス−（２，４−ジメチルフ
ェニル）−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−８
−）リアジン：２．４−ビス（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）−６−（ａ−クロロフェニル）−８−）リアジ
ン；２．４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル
）−８−）リアジン：２．４−ビス〔２−ヒドロキシ−
４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−６−（２
，４−ジメチルフェニル）　−８−トリアジン；２．４
−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル〕−６−（４−ブロモフェニル）−８−）
’Ｊ７ジｙ；２．４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２
−アセトキシ−エトキシ）フェニル］−６−（４−り目
ロフェニル）　−８−）　１アジン、２．４〜ビス（２
，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチ
ルフェニル）−８−）リアジン。

例えばＮ、Ｎ’−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチ
ラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（へ５−ジ−
第三ブチルー４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒ
ドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−）リ
アゾールおよびビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒドラジド
。

例エバトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フエニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２
，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイソ
デシルーペンタエリトリトールジホスフィット、ジ（２
，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホ
スフィツト、テトラキス−（２，４−ジ４三ブチルフェ
ニル）　４．４’−ビフエニレンージホスホニイット。

１　過酸化物スカベンジャー 例えはβ−チオジプロピオン酸のエステル、例としてラ
ウリルエステル、スデアリルエステル、ミリスチルエス
テルマタはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミ
ダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシ
ルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス
（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

＆　ヒドロキシルアミン 例ｔばＮ、Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ
−ジエチルヒドロキシルアミン、ｆ’ｌＪ、Ｎ−ジオク
チルヒドロキシルアミン　Ｎ。

Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ、　Ｎ−ジテト
ラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデ
シル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプ
タデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素
化されり獣脂アミンから誘導され２Ｎ、Ｎ−ジアルキル
Ｌドロキシルアミン。

２　ポリアミド安定剤 例えば沃化物および／ｌたけ燐化合物に結合した銅塩お
よび二価のマンガンの塩。

例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例えばＣ
ａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇステアレート
、Ｎａリシル−ト、Ｋパルミテートアンチモンビロカテ
コレートまたは亜鉛ピロカテコレート。

９　核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。

例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

１１、その他の添加物 例えは可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、離燃剤
、静電防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤、例えば、ジラ
ウリルチオジグロビォネート又はジステアリルチオジプ
ロピオネート。

特に興味深い事は、室温で硬化、及び酸触媒コーティン
グ系を含む種々のコーティング系に本誘４体が利用され
ることである。特に、塗膜の物理的完全さは、光沢の損
失や黄色化の意味のある減少をもたらす鴨、高い程度に
保たれる。

！要な改良はＮ−アルキル立体障害アミン光安定剤に遭
遇する硬化の遅延が実質的にないことで、 Ｎ−アルキル立体障害アミンが、ある櫨の顔料塗装系に
使用される時に見られる凝慣及び分散の不安定性が実質
的にないこと、及び塗膜とポリカーボネート基質問の接
奢損失のないことを含む。

それゆえ、本発明は父、本発明の化合物を必要に応じて
他の安定剤と一緒に、アルキド樹脂；熱可塑性アクリル
樹脂；アクリルアルキド樹脂；必要に応じてシリコン、
イソシアネート、インシアヌレート、ケチミン又は、オ
キサゾリジンにより変性されたアクリルアルキド又は、
ポリエステル樹脂；及びカルボン酸、無水物、ポリアミ
ン父はメルカプタンによって架橋されたエポキシ樹脂；
および骨格の反応基で変性され、かつエポキサイドによ
り架橋されたアクリル及びポリエステル樹脂系；に基づ
ｈた室温での硬化塗膜の光、湿度及び酸素の劣化作用に
対する安定化の為に量のエナメルが付加的な酸触媒によ
り硬化される＠ 塩基性窒素基含有光安定剤は、一般にこの用途に於てさ
ほど満足できるものではない。

酸触媒と光安定剤の間での塩の形成は、塩の非相溶性又
は不溶性及び沈殿、硬化のレベルの減少、光保護作用の
減少及び貧弱な耐湿性を導ひく・ 酸触媒性焼付はラッカーは、温架橋性アクリル樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂又
は、アルキド樹脂に基づいている。

含む熱可塑性樹脂である。

例えば、Ｈ，Ｋｉｔｔｅ１氏の「Ｌｅｈｒｂｕｃｈ　ｄ
ｅｒＬａｃｋｅ　ｕｎｄ　Ｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅ
ｎ　Ｊ　ｖｏｌ、　１．　Ｐａｒ　２゜Ｐ、７ｓ５〜７
４２（Ｂｅｒｌｉｎ　１９７２）　、　Ｈ，Ｗａｇｎｅ
ｒ氏と）ｉ、　Ｆ、　５ａｒｘ氏の「Ｌａｃｋｋｕｓｔ
ｈａｒｚｅ　Ｊ　Ｐ、２２９〜２５Ｂ　（１９７７）　
、　Ｓ、　Ｐａｕ１氏の［ＳＬ＆ｒｆａｃｅＣｏａｔｉ
ｎｇｓ　：　８ｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌ
ｏｇｇ　Ｊ　（１９８５）である。

光や湿度の作用に対して安定化することのできるポリエ
ステルラッカーは、）１．Ｗａｇｎｅｒ氏と比Ｆ、　８
ａｒｘ氏による前引用書中のＰ、８６〜９９に記載され
ている通常の焼付はラッカーである。

本発明により光と湿度の作用に対して安定化することの
できるアルキド樹脂ラッカーは、４？４Ｃ自動車塗装（
自動車仕上げラッカー）として使用される通常の焼付は
ラッカー例えば、アルキド／メラミン樹脂及びアルキド
／アクリル／メラミン樹脂（１−１，Ｗａｇｎｅｒ氏と
Ｈ，Ｆ。

８ａｒｘ氏の前引用書中のＰ、９９〜１２３を参照）に
もとづくラッカーである。

他の架橋剤は、グリコールウリル樹脂、ブロックされた
インシアネート又は、エポキシ樹脂を含む。

本発明に従りて安定された酸触媒焼付ラッカーは、金属
仕上げ塗装に、荷に修正仕上げに於けるソリッドシェー
ド仕上げに、同様に多種のコイル塗装の用途に適する。

本発明に従って安定化されたラッカーは、好ましくは２
つの方法、ワンコート法又は、ツーコート法のいずれか
１つによって慣用の操作で適用される。

後者の方法で顔料含有下地塗装が最初に適用され、続い
て透明彦ラッカーのカバーリング塗装がその上にされる
。

本発明の置換された立体障害アミンは、非酸触媒性熱硬
化型樹脂、例えばエポキシ、エポキシ−ポリエステル、
ビニル、アルキド、アクリル樹脂及び必要に応じてシリ
コン、イソシアネート又はインシアヌレートと変性され
たポリエステル樹脂での使用に適する事も注記する。エ
ポキシ及びエポキシ−ポリエステル樹脂は、慣用の架橋
剤、例えば酸、酸無水物、アミン等と架橋される。

相当するように、エポキサイドを骨格構造に反応基が存
在する事によって変性される多種のアクリル又はポリエ
ステル樹脂系の架橋剤として利用してもよい。そのよう
な塗装で最大の光安定性を達成する為、他の慣用の光安
定剤と同時使用する事は、有利である。

例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ア
クリル酸誘導体、又はオキサアニリド型又は、アリル−
８−トリアジンの前述した紫外線吸収剤又は、金属含有
光安定剤、例えは有機ニッケル化合物である６２塗装系
では、これらの付加的光安定剤を透明塗装に及び／父は
顔料下地塗装に加える事ができる０このような組み合わ
せが使用される場合、全党安定剤の量は、フィルム形成
樹脂を基準にしてα２〜２０重量憾、好ましくはα５〜
５重ｔ４である。

前述のピペラジン化合物と共に本組成物中で使用される
紫外線、・・吸収剤の異なる分類の例は、Ｈ，Ｊ、　）
ｔｅｌｌｅｒ氏による［ＥｕｒｏｐｅａｎＰｏｌｙｒｎ
ｅｒ　Ｊｏｕｒｎａｌ　８ｕｐｐｌｅｍｅｎｔ　Ｊ　　
（１９６９年、Ｐ、１０５〜１３２］の文献で参照され
る〇これらの分類は、フヱニルサリチレート、０−ヒド
ロキシベンゾフェノン、ヒドロキシキサントン、ベンズ
オキサゾール、ベンズイミダゾール、オキサジアゾール
、トリアゾール、ピリミジン、キナゾリン、Ｓ−トリア
ジン、ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアソール、アル
ファーシアノアクリレート及ヒヘンゾエートを含む。

脣に重要な紫外線吸収剤のタイプは、以下の物がある。

＋ａ）２−（２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール、例えば、５′−メチル−５゛。

５′−ジ第３ブチル−５′−第３ブチル−５′−（１，
１，へ５−テトラメチルブチル）−５−クロロ−３’、
　５’−ジ第３ブチル−５−クロロ−３１−第３ブチル
−５′−メチル−３′−第２ブチル−５′−第３ブチル
−４′−オクトキシ−及び３’、　５’−ジメトキシ誘
導体。

（ｂ）２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば、４−
ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ−４−デシ
ロキシ、４−ドブシロキシ、４−１ベンジロキシ、４，
２．’４’−）リヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−４
，４１−ジメトキシ誘導体。

ｌｃ）　　アクリレート、例えば、α−シアノ−β。

β−ジフェニルアクリル酸のエチルエステル又は、イン
オクチルエステル、α−カルボメトキシケイ皮酸メチル
エステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ
皮酸のメチルエステル又は、ブチルエステル、α−カル
ボメトキシ−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ
−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メ
チルインドリン。

ｌｄｌ　　ニッケル化合物、例えば、２．２’−チオビ
ス−［４−（１，１，へ３−テトラメチルブチル）−フ
ェノールのニッケル錯体、例として１：１父は１：２錯
体、場合により付加配位子例えｄｓ　ｎ−ブチルアミン
、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジェ
タノールアミンを有してよい。ニッケルジブチルチオカ
ーバメート、４−ヒドロキシ−へ５−ジ−第三ブチルベ
ンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えば、メチ
ル、エチル又はブチルエステルのニッケル塩、ケトオキ
シム、例、ｔば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル
ウンデシルケトオキシムのニッケル錯体及び場合により
付加配位子を含んでよい１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。

ｔｅｌ　　蓚酸ジアミド、例えば、４．４’−ジオクチ
ルオキシオキサニリド、２．２’−ジオクチルオキシ−
５，５′−ジ−第３ブチルオキサニリド、２．２１−ジ
ドデシルオキシ−５，５１−ジ第三ブチルオキサニリド
、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’
−ビス（，５−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミ
ド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキ
サニリド及び、これと２−エトキシ−２′−エチル−翫
４′−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、及びオ
ルト−メトキシおよびパラーメトキシニ置換オキサニリ
ドの混合物及び０−エトキシ及びｐ−エトキシニ置換オ
キサニリドの混合物。

げ）　ヒドロキシフェニル−５−）リアジン、例９．．
Ｉｄ　２．６−　ヒス（２，４−ジメチルフェニル）−
４−（２−ヒドロキシ−４−オクチ目キシフェニル）−
８−）リアジン又は、相当する４　−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）誘導体。

本発明の組成物中、待に有用な物は、高分子量及び低揮
発性を持つベンゾトリアゾール、例えば、２−［２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ（α。

α−ジメチルベンジル）−フェニル］−２）１−ペンツ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４５−ジ−第３
−オクチルフェニル）　−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−５−α、α−ジメチルベンジル
ー５−第３−オ、メチルフェニル）−２Ｈ−ペンツトリ
アソール、２−（２−ヒドロキシ−３−＄３−オクチル
ー５−α、α−ジメチルペンジルフヱニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４５−ジ−
第３−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
２−［２−ヒドロキシ−５−第３−ブチル−５−（２−
（オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カ
ルボニル）−エチルフェニル］　−２Ｈ−ペンツ）　Ｉ
Ｊアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２
−ヒドロキシ−３−第３−ブチル−５−（２−オクチロ
キシカルボニル）エチルフェニル］−２）１−ベンゾト
リアゾール及ヒ上記ベンゾトリアゾール名のそれぞれに
相当する５−クロロ化合物。

本発明組成物中、有効な最も好ましいベンゾトリアゾー
ルは、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α、α−ジ
メチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロ
キシ−５−第５−ブチル−５−（２−（オメガーヒ）”
ｒｚキシーカクター（エチレンオキシ）カルボニル）−
エチルフェニル］−２）（−ペンツトリアゾール、２−
［２−ヒドロキシ−３−第３−ブチルー５−（２−オク
チロキシカルボニル）エチルフェニル］　−２１−ｉ−
ペンツトリアゾール及び５−クロロ−２−［２−ヒドロ
キシ−３−第３−ブチル−５−（２−オクチル−オキシ
カルボニル）エチルフェニル］−２８−ペンツトリアゾ
ール。

本発明の化合物が、フェノール性酸化防止剤、立体障害
アミン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤及びそ
れらの混合物からなるグループから選ばれた他の安定剤
と共に使用される時、ポリオレフィン繊維、特にポリプ
ロピレン繊維に対する安定剤として特に効果があるだろ
う事も熟慮される。

本発明の好ましい実施態様は ｌａｌ　　温架橋性アクリル、ポリエステル父はアルキ
ド樹脂に基づいた酸触媒性熱硬化塗料又はエナメル、 （ｂ）　　ＮｏＥ−置換の２．２，６．６−テトラアル
キルビペリジン化合物 ｔｅｌ　　ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アク
リル酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−８−ト
リアジン及びオキサニリドから成る基から選ばれた紫外
線吸収剤 からなる安定化組成物に属する。

エナメル又は、塗膜が含む事ができる他の成分として、
酸化防止剤、例えば、立体障害フェノールｎ導体、ホス
フィト、ホスフィン又は、ホスホニットのようなリン化
合物、可塑剤、水平化補助剤、硬化触媒、粘度付与剤、
分散媒、父は、接着促進剤がある。

本発明の他の好ましい実施態様として上記成分１ａ）、
　Ｉｂ）及びｌｃｌに、さらに成分１ｄ）ホスフィツト
又は、ホスホニットを含む安定化組成物がある。

本組成物中で使用されるホスフィツト又はホスホニット
ｌｄｌの総量は、フィルム形成樹脂に基づいて（ＬＯ５
〜２重量係、好ましくは（Ｌ１〜１重量係である。２塗
装系で、これらの安定剤を、透明な塗膜又は下地塗膜に
加えて本よい。

典型的なホスフィツト及びホスホニットは、トリフェニ
ルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト、フ
エニルジアルキルホスフィツト、トリー（ノニルフェニ
ル）ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリオ
クタデシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス−（２，４−ジ−第三
ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイソデシルベンタエ
リトリトールジホスフィ、ト、シー　（２，４−シー第
三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリステアリルソルビトールトリホスフィツト、
テトラキス−（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４．
４’−ジフェニレンジホスホニット。

酸触媒性熱硬化エナメルは、竣終使用の適用に満足に作
用する為に安定化されねばならない。

使用される安定剤は硬化中に、場合によって紫外線吸収
剤、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、置
換された８−）リアジン、フェニルベンゾエート又は、
オキサニリドとの組合せで付随的抑制を伴った酸触媒で
安定化された塩基性アミンの沈殿を防ぐ為に立体障害ア
ミン、好ましくは、不活性ブロック基によって窒素原子
を置換したアミンである・ 安定剤は、硬化されたエナメル（２０光沢、像の特徴、
分解又は白亜化によって測定され７ｔ）に対するより優
れた耐久性の保持を添える為に必要である。

安定剤は、硬化ｊｉ［１２１℃での自動仕上げに対する
一般的な焼付は及び８２℃での低温焼き付は修復（硬さ
、接着性、耐溶媒性及び耐湿性によって測定される）〕
によって遅延させてはならず、エナメルは、硬化により
黄色化されてはならず、露光による変色は、最小限度に
されるべきである。

安定剤は、有機溶媒、（メチルアミルケトン、キシレン
、ｎ−ヘキシルアセテート、アルコール等の鐵装の適用
に一般的に使用される）において可溶であるべきである
。

０−ｆ楔部分によって窒素原子に置換された本発明の立
体障害アミン光安定剤は、これらの要求をそれぞれみた
し、それのみで、父は紫外線吸収剤と共に硬化された酸
触媒熱硬化性エナメルに対して顕著な光安定保膜作用を
提供する。

本発明の他の実施態様は、α、β−不飽和カルボニル化
合物中の二重結合或いはポリマー基質中に存在するエチ
レン性不飽和結合に付加することが可能な遊離メルカプ
ト（−５）ｌ）部分音それぞれ含む化合物１．Ｉ及び■
の本化合物を含む。後者は式１．■又は■の本安定剤化
合物を揮発、浸出、抽出等によって基質から損失しない
ように該ポリマー基質にグラフトすることを許す・ ポリマー骨格又は構造中に不飽和基を持つポリマーは、
ポリマーグループ１，４５，４３２等として前記し穴ポ
リマー及びコポリマー金倉む。

そのようなポリマー基質は特に代表的には一般にＡＢ８
樹脂として照会されるアクリロニトリル／ブタジェン／
スチレングラフトポリマーであるＯ 本発明の他の好ましい実施態様は、ガス退色からポリプ
ロピレン繊維を保護する為にヒドロキシルアミンと本安
定剤との組合せである。

（実施例及び発明の効果） 次の実施例は１例示のためのみ提示されたものであり、
いかなる方法であっても、本発明の本質および特徴を制
限する屯のではないと解釈されるべきである。

１−シクロヘキシロキシ〜２．２．６．６−テトラメチ
ルビベリジン−４−オール（２５，５！！α１モル）と
メチルチオグリコレート（１α６１Ｑ、１１モル）をト
ルエンに溶解する。リチウムアミド（Ｑ、０９モル）を
加え５反応混合物を還流加熱し。

蒸留物をディーンースタークトラップで集める。

−晩還流加熱後、トルエンを減圧下で除去する。

塩基性触媒を中和する為、酢酸を加える。粗反応生成物
を液体クロマトグラフィーで精製して標記化合物を得る
。ＮＭＲと、質量スペクトルデータは、上記化合物名の
エステルと一致している。

実施例２１−オクチロキシ−２，２，６，６一テ実施例
１の一般的手順に従い、５０ゴのトルエン中、１−オク
チロキシ−４−ヒドロキシ−２、２，６，６−チトラメ
チルピペリジン２．０９９（７，０モル）とメチルチオ
グリコレートα７４．５１（７，０モル）とリチウムア
ミドｌ１ｌｊ７ｐを使用してシリカゲルクロマトグラフ
ィーによる精製後、標記化合物を得る。ＮＭＲと質量ス
ペクトルデータは、上記化合物名のエステルの構造と一
致する。

実施例１の一般的手順に従い、５０ｄのトルエン中、１
−シクロヘキシロキシ−４−ヒドロキシ−２，２，６，
６−テトラメチルビペリジン２．００１１（７，８％ル
）とリチウムアミドＣ１１８ｇとメチル３−メルカプト
プロピオネートα９４１　（７，８モル）を使用してシ
リカゲルクロマトグラフィーによる精製後、標記化合物
を得る。ＮＭＲと質量スペクトルデータは、上記化合物
名のエステルの構造と一致する。

実施例４−８ 実施例１の一般的手順に従って１種々のメルカプト酸の
１−ヒドロカルビロキシ−２，２，６゜６−テトラメチ
ルビベリジン−４−イルエステルを合成する。

典型的なこのようなエステルは、下の表に列挙芒れてい
る。

実施例　１−ヒドロカルビロキシ基　　メルカプト酸エ
ステル４　　１−オクチロキシ　　　　　　３−メルカ
プトプロピオネート５　　１−α−メチルベンジロキシ
　メルカプトサクシネート６　　１−ノ二口キシ　　　
　　　　チオグリコレート７　　１−オクチロキシ　　
　　　　　メルカプトサクシネート８　　１−メチロキ
シ　　　　　　　３−メルカプトプロピオネートオクタ
ン １−オクタナールを、２０℃以下の温度で。

トルエン中１−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン−４−イルの溶液にゆっくり加える。反応
混合物を７０℃で一晩かきまぜた後、溶媒を除去して標
記化合物を得る。

実施例１０−１６ 実施例９の一般的手順に従って、化学量論的に適当量の
種々のメルカプト酸の１−ヒドロカルビロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルビベリジン−４−イルエステル
を化学量論的に適当量のアルデヒドと反応させて下記の
本発明の化合物を製造する。

１１　１−ノニロキシ　　チオグリコレート　グリオキ
サール４−イロキシ−カルボニルメチルチオ）サクシネ
ート ロキシ １６　１−α−メチルペ　メルカプト　　　　グリオキ
サールンジロキシ　　　　サクシネート 塩化メチレン２０ゴ中、３．３−ジチオジプロピオン酸
２．１１とＮ、Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド２滴をか
きまぜた懸濁液にオキサリルクロライド２−１１１Ｌｌ
を加える。室温で４時間攪拌後、得られる溶液は減圧下
で濃縮され、残渣をトルエンに溶解する。酸塩化物のト
ルエン溶液を、２０〜２５℃で１−メトキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピベリジンー４−オールに５ＪＩ
とピリジン（２ＩＩＬｌ）を攪拌溶液に滴下して加える
。

室温で１時間かきまぜた後１反応混合物を減圧下で濃縮
し、残渣を塩化メチレンと水の間に分離する。有機層を
無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮する。粗生成物
をクロマトグラフィーにかけ、無色の油状物として標記
化合物を得る。

分析：　Ｃ，Ｈ４，Ｎ雪０６Ｓ！の 計算値：　Ｃ，５＆８　；　Ｈ，ａ７；　Ｎ、ｓ、１実
験値：　Ｃ，５５，６：Ｈ，ａ７　；Ｎ、　４．９実施
例１８−２５ 実施例１７の一般的な手順に従い、１−ヒドロカルビロ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−
オールを、チオ又はジチオジアルキル酸の酸塩化物と反
応させ１次の本発明の化合物を製造した。

実ＭＦＪ　　１−ヒドロカルビロキシ基　　　　　　　
酸１８　１−オクチロキシ　　　　　３．３−チオプロ
ピオニック１９　１−シクロヘキシロキシ　　　チオグ
リコレート２０　１−ノニロキシ　　　　　　　４．４
−ジチオジブチリツク２１　１−α−メチルベンジロキ
シ　３．３′−ジチオジグロビオニツク２２　１−オク
チロキシ　　　　　チオグリコレート２５　１−メトキ
シ　　　　　　　　４．４′−ジチオジブチリツク２４
　１−シクロヘキシロキシ　　　５．３′−ジチオジプ
ロピオン酸ク２５　１−オクチロキシ　　　　　　３．
３１−ジチオジグロピオニツク実施例２６−５６ 実施例１〜８で合成されたように種々のメルカプト酸の
１−ヒドロカルビロキシ−２，２，６゜６〜テトラメチ
ルピペリジン−４−イルエステルを、二重結合に付加す
るメルカプト基のミカエル付加圧有利の条件下で、酸又
は塩基触媒の存在下で、σ、β−不飽和エステル、酸、
無水物、イミド、シアノ、又は類似の化合物と反応させ
て１次のような本発明の化合物を合成する。

２６　１−オクチロキシ　チオグリコレート　ジエチル
マレート２７　１−ノニロキシ　　チオグリコレート　
メチルアクリレートネート ３２　１−メトキシチオ　グリコレート　　　Ｎ−フェ
ニルマレイミドロキシ この実施例は１本安定剤の光安定効果を説明する。

α２重量％のｎ−オクタデシル３．５−ジ−第三−プチ
ル−４−ヒドロキシヒドロシンナメートで安定化したポ
リプロピレン（Ｈｉｍｏｎｔ　Ｐｒ−ｏｆａｘ６５０１
　　）粉末を、指示された量の添加物と完全にブレンド
する。次いでブレンド材料を。

５分間１８２℃で２本のロールミルで練り、その後、安
定化されたポリプロピレンは、ミルからシートに形成さ
れ、そして冷却される。練られたポリプロピレンを小片
に切断し、２５０℃１１７５ｐＢｉ　（１，２Ｘ１０’
ｐＢ）の水圧で５ミル（０，１２７Ｉｌ１１１Ｉ）のフ
２ｆルムに圧縮成形する。試料を破壊するまで螢光、太
陽光／暗光室中で露光する。破壊ｉ−ｔ。

露光フィルムの赤外分光分析により、カルボニル基吸光
度口、５に到達する１でに必要表時間として決定σハる
。

対照　　　　　　　　　　　　　　３４０実施例１７　
　　　１１．１　　　　　１０２０−［１１％ステアリ
ン酸カルシウム及び１２％ｎ−オクタデシル、！１．５
−ジ−第５−ブチルー４−ヒドロキシヒドロシンナメー
トを加えた基体樹脂。

酸触媒、　ｐ　−）ルエンスルホン酸、ジノニルナフタ
レンジスルホン！、　夏り、　　ドデシルベンゼンスル
ホン酸の存在下で２−ヒドロキシエチルアクリレート、
ブチルアクリレート、メチルメタクリレート、スチレン
及びアクリル酸の７０重量％及びメラミン樹脂の５０重
量％のバインダーＶＣ基づいた熱硬化性７クリルエナメ
ル１てベンゾトリアゾール紫外線吸収剤の樹脂固形分に
基づいて２重量チ及び試験用立体障害アミン光安定剤の
効果的安定化値を配合する。商業的に入手可能なＪボキ
シで下塗感れた１０．１６１×５α４８儂のパネル（ア
ドバンストコーテングテクノロジー社製の二ニブライム
）に約０．０２５雑の厚さに銀メタリックベー・スコー
トをスプレィ塗装し、３分間空気乾燥する。安定化ネノ
″Ｌ′ｆｒ：。

熱硬化性アクリル樹脂エナメルを１次に約ｔ３−ｏａｑ
ｍｘの厚さになるまで下塗したパネル足塗布する。１５
分間空気乾燥後、塗装シ・−トを１２１℃で５０分間焼
き付ける。、空調室で１週ｔＨ３保存（−た後、塗装で
ｈだパネルを、試験法ＡＳＴＭＯ−５３／７７ＫＷ　り
”’Ｃ，ＱＵＶＷ光装置Ｒ中で耐候性テストに付す。こ
の試験で、試料を、５０℃の湿った雰囲気中で４時間、
それから７０℃で紫外光下で８時間という周期をくり返
し耐光性テストを行う。パネルｉｄ：　、　Ｑ　Ｕ　Ｖ
中、１５００時ｒＩ？！露光する。パネルの２０″光沢
値を露光の前と後で測定する。安定化されたパネルの光
沢の損失は、安定化されていない対照パネルの光沢の損
失に比べ、相当に少ない。

実施例３９ 無頷料のアクリロニトリル／ブタジェン／スイ・レン（
ＡＢＳ）樹脂の試料に対ｌ〜て実施例１の化合物α５重
！ｔチを加える。次いで安定化された組成物を厚さ代５
２儒の薄いシートに射出成形する。シートの一＝部分の
風化を早める為にＱＵＶ露光装置で露光し、５　シート
・２０６光沢値を露光の前と後で測定する。安定化され
たシートの光沢損失は、安定化されていない対照シート
の光沢損失に比べ、相当に少ない。射出成形後の安定化
されたシー　トの他の部分を、実施例１の安定剤がポリ
マ・−基質に結合するか又は、抽出可能かを確かめる為
圧トルエンで抽出する。実施例１の安定剤化合物は、実
質的に成形さｈｈ−ＡＢＳ樹脂からトルエン中に抽出さ
ノ１．ず、安定剤け、そハ自身ＡＢＳ基質樹脂ｆグラフ
トしていることを示す。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式 I 乃至IXで表わされる１−ヒドロカルビロ
   キシ立体障害アミン誘導体である化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII）、または ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 〔上記式中ｘは１又は２を表わし、Ｒ＿１及びＲ＿２は
   独立してメチル基、又はエチル基を表わすか又はＲ＿１
   及びＲ＿２は一緒になってペンタメチレン基を表わし、
   Ｒ＿３は、炭素原子数１〜３のアルキレン基を表わし、
   Ｅは炭素原子数１〜１８のアルキル基、炭素原子数５〜
   １２のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１８のアルケ
   ニル基、炭素原子数５〜１２のシクロアルケニル基、炭
   素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数７〜１２
   の飽和、又は不飽和の二環式又は三環式炭化水素、また
   は、炭素原子数６〜１０のアリール基又はアリル基置換
   の炭素原子数６〜１０のアリル基を表わし、Ｔ＿１は、
   炭素原子数１〜１８の１，１−アルキリデン基、炭素原
   子数５〜１２の１，１−シクロアルキリデン基、ベンジ
   リデン基、３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
   ベンジリデン基又は、ナフタール基を表わし、Ｔ＿２は
   ▲数式、化学式、表等があります▼を 表わし、 （Ｒ＿４は直接結合、炭素原子数１〜１０のアルキレン
   基又は、炭素原子数６〜１０のアリレン基を表わす。）
   、 Ｌは、次式Ｘ ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） （Ｒ＿５は水素原子、メチル基又はフェニル基を表わし
   、Ｒ＿６は水素原子又はメチル基、を表わし、Ｒ＿７は
   水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、−ＣＨ＿２
   ＣＯ−Ｘ−Ｒ＿８、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＯ−Ｘ−Ｒ＿
   ８または−ＣＨ（ＣＨ＿３）ＣＯ−Ｘ−Ｒ＿８、を表わ
   し、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＲ＿８−を表わし、 Ｒ＿８は水素原子、炭素原子数１〜１８のアルキル基、
   炭素原子数７〜１５のアラルキル基、炭素原子数５〜１
   ２のシクロアルキル基、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ を表わす。）で表わされる基を表わすか、又は、Ｌは−
   ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＮ又は−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＰＯ（Ｏ
   Ｒ＿９）（Ｒ＿９は炭素原子数１〜４のアルキル基を表
   わす。）を表わすか又は、Ｌは、 次式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ （Ｒ＿１＿０は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ＿１
   ＿１は炭素原子数１〜８のアルキル基、又はフェニル基
   を表わす。）で表わされる基を表わし、そしてＬ＿１は
   水素原子を表わすか又はＬと同じ意味を表わす。〕
2. （２）Ｒ＿１及びＲ＿２がおのおのメチル基である請求
   項（１）記載の化合物。
3. （３）Ｒ＿２がメチレン基又はエチレン基を表わす請求
   項（１）記載の化合物。
4. （４）Ｅが炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロヘ
   キシル基又は、アルファ−メチルベンジル基を表わす請
   求項（１）記載の化合物。
5. （５）Ｅがメチル基、オクチル基、ノニル基、シクロヘ
   キシル基又はアルファ−メチルベンジル基を表わす請求
   項（４）記載の化合物。
6. （６）Ｒ＿１が炭素原子数４〜１２の１，１−アルキリ
   デン基、シクロヘキシリデン基、ベンジリデン基又は、
   ３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジリデ
   ン基を表わす請求項（１）記載の化合物。
7. （７）Ｔ＿２は、Ｒ＿４が直接結合、メチレン基又はＰ
   −フェニレン基である基である請求項（１）記載の化合
   物。
8. （８）Ｌが式（Ｘ）（Ｒ＿５及びＲ＿６は両方とも、水
   素原子、Ｒ＿７は水素原子又はメチル基、Ｘは−Ｏ−、
   及びＲ＿８は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わす）
   で表わされる基である請求項（１）記載の化合物。
9. （９）Ｒ＿８が炭素原子数１〜４のアルキル基を表わす
   請求項（８）記載の化合物。
10. （１０）（ａ）化学線の有害作用を受けるポリマー（ｂ
    ）安定化に効果的な量の請求項（１）記載の化合物 からなる安定化された組成物。
11. （１１）ポリマーがポリオレフィン、特にポリプロピレ
    ンである請求項（１０）記載の組成物。
12. （１２）ポリマーが、アルキド、アクリル、アクリルア
    ルキド、ポリエステル、エポキサイド、ウレタン、ポリ
    アミド、ビニル又は、エポキシ−ポリエステル樹脂に基
    づいた塗装系である請求項（１０）記載の組成物。
13. （１３）紫外線吸収剤又は、付加的光安定剤を含む請求
    項（１０）記載の組成物。
14. （１４）ポリマーが、ポリマー構造中に、エチレン性不
    飽和二重結合を含み、そして成分（ｂ）が遊離−ＳＨ基
    を含む化合物である請求項（１０）記載の組成物。