JPH0228343A - 素子と基板の位置合わせ・接続装置 - Google Patents
素子と基板の位置合わせ・接続装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ステージに載せられた基板の表面パターンと
コレットにホールドされた素子の表面パターンが一致す
るようにコレットまたはステージを移動させた後、コレ
ットを下降させて素子と基板を接続する、素子と基板の
位置合わせ・接続装置に関する。
コレットにホールドされた素子の表面パターンが一致す
るようにコレットまたはステージを移動させた後、コレ
ットを下降させて素子と基板を接続する、素子と基板の
位置合わせ・接続装置に関する。
［従来の技術］
第１３図はこの種の位置合わせ・接続装置の従来例の構
成図、第１４図（１） 、 （２）は本装置では厚さの
異なる素子の位置合わせが達成されないことを示す図で
ある。
成図、第１４図（１） 、 （２）は本装置では厚さの
異なる素子の位置合わせが達成されないことを示す図で
ある。
この位置合わせ・接続装置は、ステージ３に載せられた
基板９の基板表面パターンｌＯにコレット２にホールド
された素子７の素子表面パターン８を位置合わせし、接
続するもので、コレット移動軸２に直角に、かつ素子７
と１０の基板９の中間にハーフミラ−１４が設けられ、
またコレット移動軸２と基板表面パターンｌＯの交点に
向かってコレット移動軸Ｚに対して斜めに観測用光学系
１１が設けられている。なお、コレット２を水平、垂直
移動させる機構は図示されていない。コレット移動軸Ｚ
に対して斜め方向から見た素子表面パターン８の像は、
光軸Ａに沿って進みハーフミラ−１４で反射され観測用
光学系１１に導かれる。一方、コレット移動軸Ｚに対し
て斜め方向から見たコレット移動軸２との交点に達した
基板表面パターンｌＯの像は、光軸Ｂに沿って進みハー
フミラ−１４を透過し観測用光学系１１に導かれる。素
子表面パターン８の像と基板表面パターンＩＯの像を観
測用光学系１１により同時に確認し、画像がモニタ用Ｃ
ＲＴ （不図示）上で一致するようにコレット２または
ステージ３をＸＹ平面で移動させたのち１．コレット移
動軸２に沿ってコレット２を下ろして素子７と基板９と
を接続する。このハーフミラ−を用いた位置合わせ・接
続装置では、ハーフミラ−１４とコレット移動軸２の成
す角度が例えば９０度の場合、基板９の表面とハーフミ
ラ−１４の間隔なＨとすると、基板９の表面と素子７の
表面の間隔は２Ｈでなければならず、基板９の表面とハ
ーフミラ−１４の間隔Ｈに対して基板９の表面と素子７
の表面の間隔が２Ｈとなるように、コレット２、ステー
ジ３およびハーフミラ−１４の相互位置が厳密に調整さ
れている。しかしながら、コレット２、ステージ３およ
びハーフミラ−１４の相互位置をこのままにして、素子
の厚さが素子７と異なる別の素子７′の接続を試みると
、第１４図（１）に示すように、基板９と素子７′の間
隔は２Ｈでないので、光軸Ａを通して素子表面パターン
８°の像を、また光軸Ｂを通して基板表面パターンｌＯ
の像を同時確認し、両者が一致するように例えばコレッ
ト２を矢印の方向に移動させたのち、コレット２をコレ
ット移動軸２に沿□って下ろしても、第１４図（２）に
示すように、素子表面パターン８”と基板表面パターン
ＩＯは一致せず、素子７°と基板９の正確な位置合わせ
接続が達成されない。
基板９の基板表面パターンｌＯにコレット２にホールド
された素子７の素子表面パターン８を位置合わせし、接
続するもので、コレット移動軸２に直角に、かつ素子７
と１０の基板９の中間にハーフミラ−１４が設けられ、
またコレット移動軸２と基板表面パターンｌＯの交点に
向かってコレット移動軸Ｚに対して斜めに観測用光学系
１１が設けられている。なお、コレット２を水平、垂直
移動させる機構は図示されていない。コレット移動軸Ｚ
に対して斜め方向から見た素子表面パターン８の像は、
光軸Ａに沿って進みハーフミラ−１４で反射され観測用
光学系１１に導かれる。一方、コレット移動軸Ｚに対し
て斜め方向から見たコレット移動軸２との交点に達した
基板表面パターンｌＯの像は、光軸Ｂに沿って進みハー
フミラ−１４を透過し観測用光学系１１に導かれる。素
子表面パターン８の像と基板表面パターンＩＯの像を観
測用光学系１１により同時に確認し、画像がモニタ用Ｃ
ＲＴ （不図示）上で一致するようにコレット２または
ステージ３をＸＹ平面で移動させたのち１．コレット移
動軸２に沿ってコレット２を下ろして素子７と基板９と
を接続する。このハーフミラ−を用いた位置合わせ・接
続装置では、ハーフミラ−１４とコレット移動軸２の成
す角度が例えば９０度の場合、基板９の表面とハーフミ
ラ−１４の間隔なＨとすると、基板９の表面と素子７の
表面の間隔は２Ｈでなければならず、基板９の表面とハ
ーフミラ−１４の間隔Ｈに対して基板９の表面と素子７
の表面の間隔が２Ｈとなるように、コレット２、ステー
ジ３およびハーフミラ−１４の相互位置が厳密に調整さ
れている。しかしながら、コレット２、ステージ３およ
びハーフミラ−１４の相互位置をこのままにして、素子
の厚さが素子７と異なる別の素子７′の接続を試みると
、第１４図（１）に示すように、基板９と素子７′の間
隔は２Ｈでないので、光軸Ａを通して素子表面パターン
８°の像を、また光軸Ｂを通して基板表面パターンｌＯ
の像を同時確認し、両者が一致するように例えばコレッ
ト２を矢印の方向に移動させたのち、コレット２をコレ
ット移動軸２に沿□って下ろしても、第１４図（２）に
示すように、素子表面パターン８”と基板表面パターン
ＩＯは一致せず、素子７°と基板９の正確な位置合わせ
接続が達成されない。
第１５図は位置合わせ・接続装置の別の従来例の構成図
、第１６図（１） 、 （２）は本装置で厚さの異なる
素子を位置合わせ接続する場合を示す図である。
、第１６図（１） 、 （２）は本装置で厚さの異なる
素子を位置合わせ接続する場合を示す図である。
この位置合わせ・接続装置は、コレット２の上方に、光
軸Ａがコレット移動軸２と一致するように、赤外光を用
いた観測用光学系１２を備えたものである。
軸Ａがコレット移動軸２と一致するように、赤外光を用
いた観測用光学系１２を備えたものである。
観測用光学系１２から素子７を透過する赤外光が放射さ
れ、コレット移動軸２の方向から見た素子表面パターン
８の像とコレット移動軸２の方向から見た基板表面パタ
ーン１０の像は、素子７を透過し観測用光学系１２に導
かれる。そして素子表面パターン８の像と基板表面パタ
ーン１０の像が一致するようにコレット２またはステー
ジ４をＸＹ平面で移動させたのち、コレット２を移動軸
２に沿って下ろして素子７と基板９とを接続する。
れ、コレット移動軸２の方向から見た素子表面パターン
８の像とコレット移動軸２の方向から見た基板表面パタ
ーン１０の像は、素子７を透過し観測用光学系１２に導
かれる。そして素子表面パターン８の像と基板表面パタ
ーン１０の像が一致するようにコレット２またはステー
ジ４をＸＹ平面で移動させたのち、コレット２を移動軸
２に沿って下ろして素子７と基板９とを接続する。
第１６図（１）に示すようにこの赤外光を用いた位置合
わせ・接続装置で素子７と厚さの異なる素子７°を基板
９に接続する場合、素子表面パターン８に対する素子表
面パターン８′の位置変動は、観測用光学系１２の光軸
Ａ方向の位置変動となる。
わせ・接続装置で素子７と厚さの異なる素子７°を基板
９に接続する場合、素子表面パターン８に対する素子表
面パターン８′の位置変動は、観測用光学系１２の光軸
Ａ方向の位置変動となる。
したがって、ハーフミラ−を用いた位置合わせ・接続装
置にみられるような素子や基板の厚さ変動による観測用
光学系上の見掛けの位置の変化が発生せず、素子７を基
板９に接続するように調整した観測用光学系１２の光軸
Ａを再調整することなく、素子７°と基板９の正確な位
置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さ変動がある場
合も同様の理由により正確な位置合わせ接続が達成でき
る。
置にみられるような素子や基板の厚さ変動による観測用
光学系上の見掛けの位置の変化が発生せず、素子７を基
板９に接続するように調整した観測用光学系１２の光軸
Ａを再調整することなく、素子７°と基板９の正確な位
置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さ変動がある場
合も同様の理由により正確な位置合わせ接続が達成でき
る。
［発明が解決しようとする課題］
上述した従来の素子と基板の位置合わせ・接続装置は、
ハーフミラ−を用いた装置の場合、ハーフミラ−１素子
および基板の間に厳密な位置関係が必要であり、この関
係を満足するため、コレット、ステージ、およびハーフ
ミラ−の相互位置は、接続する素子と基板の中から任意
の素子と基板を選び、上記関係を満たすように厳密に位
置関係が調整されるが、素子や基板の厚さは同−口ツト
内においても変動するのが普通であり、同一ロット内の
別の素子や基板では同一の位置関係で良いとは限らず、
それらの位置合わせが一定の位置関係では不可能になる
という致命的欠点があり、また、赤外光を用いた装置の
場合、素子や基板の厚さが変動しても位置合わせが不可
能になることはないが、赤外光を用いた観測用光学系等
の特殊な装置が必要となるばかりでなく、赤外光を透過
しない素子の場合、素子自体が赤外光の透過を妨げ素子
表面パターンや素子直下にある基板表面パターンを確認
できないという欠点がある。
ハーフミラ−を用いた装置の場合、ハーフミラ−１素子
および基板の間に厳密な位置関係が必要であり、この関
係を満足するため、コレット、ステージ、およびハーフ
ミラ−の相互位置は、接続する素子と基板の中から任意
の素子と基板を選び、上記関係を満たすように厳密に位
置関係が調整されるが、素子や基板の厚さは同−口ツト
内においても変動するのが普通であり、同一ロット内の
別の素子や基板では同一の位置関係で良いとは限らず、
それらの位置合わせが一定の位置関係では不可能になる
という致命的欠点があり、また、赤外光を用いた装置の
場合、素子や基板の厚さが変動しても位置合わせが不可
能になることはないが、赤外光を用いた観測用光学系等
の特殊な装置が必要となるばかりでなく、赤外光を透過
しない素子の場合、素子自体が赤外光の透過を妨げ素子
表面パターンや素子直下にある基板表面パターンを確認
できないという欠点がある。
本発明の目的は、上記問題を解決し、比較的簡単な観測
用光学系を用いて、素子表面のパターンと基板表面のパ
ターンを同時に直接観測でき、どの様な厚さや光透過特
性を持つ素子、基板においても良好な位置合わせが可能
な、素子と基板の位置合わせ・接続装置を提供すること
にある。
用光学系を用いて、素子表面のパターンと基板表面のパ
ターンを同時に直接観測でき、どの様な厚さや光透過特
性を持つ素子、基板においても良好な位置合わせが可能
な、素子と基板の位置合わせ・接続装置を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段］
本発明の、素子と基板の位置合わせ・接続装置は、ステ
ージに載せられた基板の表面パターンの像とコレットに
ホールドされた素子の表面パターンの像を反射して観測
用光学系に導く反射体が、コレットが下降するコレット
移動軸上の素子と基盤の間に設置され、そして、コレッ
トの下降の際に邪魔にならないようにコレット移動軸か
ら退避可能になっている。
ージに載せられた基板の表面パターンの像とコレットに
ホールドされた素子の表面パターンの像を反射して観測
用光学系に導く反射体が、コレットが下降するコレット
移動軸上の素子と基盤の間に設置され、そして、コレッ
トの下降の際に邪魔にならないようにコレット移動軸か
ら退避可能になっている。
［作 用］
したがって、素子表面から反射体に至る光軸と、基板表
面から反射体に至る光軸がコレット移動軸と平行になる
ため、同一ロット内で厚さが変化する素子や基板の接続
でも観測用光学系の光軸位置の調整なせずに素子と基板
の位置合わせが可能なばかりでなく、観測用光学系は素
子表面を直接観測できるため赤外光を透過しない素子で
も基板との位置合わせが可能となり、様々な素子と基板
の組合せに対して、汎用性の高い位置合わせ・接続装置
が実現できる。
面から反射体に至る光軸がコレット移動軸と平行になる
ため、同一ロット内で厚さが変化する素子や基板の接続
でも観測用光学系の光軸位置の調整なせずに素子と基板
の位置合わせが可能なばかりでなく、観測用光学系は素
子表面を直接観測できるため赤外光を透過しない素子で
も基板との位置合わせが可能となり、様々な素子と基板
の組合せに対して、汎用性の高い位置合わせ・接続装置
が実現できる。
［実施例コ
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第１の実施例の構成図、第２図（１）、（２）は第１の
実施例において厚さの異なる素子７°を位置合わせ接続
する様子を示す図、第３図は反射板５がコレット移動軸
Ｚから退避した状態を示す図である。
第１の実施例の構成図、第２図（１）、（２）は第１の
実施例において厚さの異なる素子７°を位置合わせ接続
する様子を示す図、第３図は反射板５がコレット移動軸
Ｚから退避した状態を示す図である。
この位置合わせ・接続装置は、コレット移動軸Ｚ上の素
子７と基板９の間に設置され素子７をホールドするコレ
ット２と、基板９を載せるステージ３と、コレット２を
ステージ３に垂直（コレット移動軸Ｚに沿って）に下降
させて素子７を基板９に接続する機構（不図示）と、コ
レット移動軸Ｚ上の点ａに配置され両側が互いに反対方
向に反射する反射体（プリズム）５と、例えばＣＣＤ等
の撮像素子を有する観測用光学系ＩＡ、ＩＢと、観測用
光源系（不図示）と、反射体５をコレット移動軸Ｚ上か
ら退避させる退避機構（不図示）と、モニタ用ＣＲＴ
（不図示）からなる。
子７と基板９の間に設置され素子７をホールドするコレ
ット２と、基板９を載せるステージ３と、コレット２を
ステージ３に垂直（コレット移動軸Ｚに沿って）に下降
させて素子７を基板９に接続する機構（不図示）と、コ
レット移動軸Ｚ上の点ａに配置され両側が互いに反対方
向に反射する反射体（プリズム）５と、例えばＣＣＤ等
の撮像素子を有する観測用光学系ＩＡ、ＩＢと、観測用
光源系（不図示）と、反射体５をコレット移動軸Ｚ上か
ら退避させる退避機構（不図示）と、モニタ用ＣＲＴ
（不図示）からなる。
反射体５の退避機構は具体的にはコレット移動軸２と共
に移動し、かつ平行な支持柱に反射体５を高精度なベア
リングを介して支持し、反射体５を支持柱を中心として
回転させて退避させるもの、あるいは、コレット移動軸
Ｚ等を支持する台に、反射体５を高精度なスライドベア
リング等を介して支持し、反射体５をコレット移動軸Ｚ
からスライド退避させるもの等が考えられる。
に移動し、かつ平行な支持柱に反射体５を高精度なベア
リングを介して支持し、反射体５を支持柱を中心として
回転させて退避させるもの、あるいは、コレット移動軸
Ｚ等を支持する台に、反射体５を高精度なスライドベア
リング等を介して支持し、反射体５をコレット移動軸Ｚ
からスライド退避させるもの等が考えられる。
次に、本実施例の動作について説明する。
コレット移動軸Ｚの方向から見た素子表面パターン８の
像は反射体５の素子表面パターン８に対応する反射面で
反射されて光軸Ａに沿って観測用光学系ＩＡに直接導か
れ、コレット移動軸２の方向から見た基板表面パターン
１０の像は反射体５の前記反射面の基板側から見た面で
反射され光軸Ｂに沿って観測用光学系ＩＢに直接導かれ
る。観測用光学系ＩＡ、ＩＢは素子表面パターン８の像
と基板表面パターンＩＯの像を受像し、撮像素子で電気
信号に変換し、モニタ用ＣＲＴへ出力する。
像は反射体５の素子表面パターン８に対応する反射面で
反射されて光軸Ａに沿って観測用光学系ＩＡに直接導か
れ、コレット移動軸２の方向から見た基板表面パターン
１０の像は反射体５の前記反射面の基板側から見た面で
反射され光軸Ｂに沿って観測用光学系ＩＢに直接導かれ
る。観測用光学系ＩＡ、ＩＢは素子表面パターン８の像
と基板表面パターンＩＯの像を受像し、撮像素子で電気
信号に変換し、モニタ用ＣＲＴへ出力する。
操作者は、これら画像をモニタ用ＣＲＴ上に確認すると
、素子パターン８の像と基板表面パターンｌＯの像をモ
ニタ用ＣＲＴ上で一致するようにコレット２またはステ
ージ３をＸＹ平面で移動させる。次に、操作者は反射体
５を第３図に示すようにコレット軸２から退避させた後
、コレット２をコレット移動軸２に沿って下降させて素
子７を基板９に接続する。
、素子パターン８の像と基板表面パターンｌＯの像をモ
ニタ用ＣＲＴ上で一致するようにコレット２またはステ
ージ３をＸＹ平面で移動させる。次に、操作者は反射体
５を第３図に示すようにコレット軸２から退避させた後
、コレット２をコレット移動軸２に沿って下降させて素
子７を基板９に接続する。
また、第２図（１）に示すように、素子７と厚さの異な
る素子７°を基板９に接続する場合は、素子表面パター
ン８に対する素子表面パターン８゛の位置変動は観測用
光学系ＬＡの光軸Ａ方向の位置変動となる。しかし、光
軸Ａ方向の位置変動が生じたとしても、観測用光学系Ｉ
Ａの光路長に長短が生じるだけであるから、ハーフミラ
−を用いた従来装置にみられるような素子や基板の厚さ
変動による観測用光学系上の見掛けの位置の変化が発生
しない。したがって、通常の焦点調節のみ行なえば、素
子７を基板９に接続するように調整した観測用光学系Ｉ
Ａ、ＩＢの光軸Ａ、Ｂを再調整することなく、第２図（
２）に示すように、素子７° と基板９の正確な位置合
わセ接続が達成できる。基板９に厚さ変動がある場合も
同様の理由により正確な位置合わせ接続が達成できる。
る素子７°を基板９に接続する場合は、素子表面パター
ン８に対する素子表面パターン８゛の位置変動は観測用
光学系ＬＡの光軸Ａ方向の位置変動となる。しかし、光
軸Ａ方向の位置変動が生じたとしても、観測用光学系Ｉ
Ａの光路長に長短が生じるだけであるから、ハーフミラ
−を用いた従来装置にみられるような素子や基板の厚さ
変動による観測用光学系上の見掛けの位置の変化が発生
しない。したがって、通常の焦点調節のみ行なえば、素
子７を基板９に接続するように調整した観測用光学系Ｉ
Ａ、ＩＢの光軸Ａ、Ｂを再調整することなく、第２図（
２）に示すように、素子７° と基板９の正確な位置合
わセ接続が達成できる。基板９に厚さ変動がある場合も
同様の理由により正確な位置合わせ接続が達成できる。
なお、本実施例では素子７を透過して基板９を確認する
必要がないので、観測用光学系ＩＡ、ＩＢは比較的簡単
な観測用光学系でよく、素子８と基板９の同時観測が可
能である。
必要がないので、観測用光学系ＩＡ、ＩＢは比較的簡単
な観測用光学系でよく、素子８と基板９の同時観測が可
能である。
第４図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第２の実施例の構成図である。
第２の実施例の構成図である。
第１の実施例では、反射体５のみをコレット移動軸２か
ら第３図に示すように右矢印の方向に回転させて退避さ
せるため、反射体５の光軸Ｃが観測用光学系ＩＡ、ＩＢ
の光軸Ａ、Ｂに対して光軸ずれを発生する可能性がある
。この光軸ずれの発生を防止するため、本実施例は、反
射体５、観測用光学系ＩＡ、１Ｂを１つのブロックに一
体化し、ブロックごと反射体５をコレット移動軸２から
例えば右矢印方向に移動させるようにしたものである。
ら第３図に示すように右矢印の方向に回転させて退避さ
せるため、反射体５の光軸Ｃが観測用光学系ＩＡ、ＩＢ
の光軸Ａ、Ｂに対して光軸ずれを発生する可能性がある
。この光軸ずれの発生を防止するため、本実施例は、反
射体５、観測用光学系ＩＡ、１Ｂを１つのブロックに一
体化し、ブロックごと反射体５をコレット移動軸２から
例えば右矢印方向に移動させるようにしたものである。
第５図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第３の実施例の構成図、第６図（１）、（２）は第３の
実施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続
する様子を示す図である。
第３の実施例の構成図、第６図（１）、（２）は第３の
実施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続
する様子を示す図である。
本実施例は、第１の実施例の反射体５の代りにハーフミ
ラ−４を用い、観測用光学系は観測用光学系ＩＡのみと
したもので、ハーフミラ−４はコレット移動軸Ｚ上のａ
点に斜めに置かれ、反射板５Ｂがハーフミラ−４と対向
し、かつハーフミラ−４によって反射された光軸Ｂと直
角になるように置かれている。
ラ−４を用い、観測用光学系は観測用光学系ＩＡのみと
したもので、ハーフミラ−４はコレット移動軸Ｚ上のａ
点に斜めに置かれ、反射板５Ｂがハーフミラ−４と対向
し、かつハーフミラ−４によって反射された光軸Ｂと直
角になるように置かれている。
次に、本実施例の動作を説明する。
コレット移動軸Ｚの方向から見た素子表面パターン８の
像はハーフミラ−４で光軸Ａに沿って反射され、コレッ
ト移動軸Ｚの方向から見た基板表面パターンｌＯの像は
ハーフミラ−４で光軸Ｂに沿って反射する。ハーフミラ
−４により反射された素子表面パターン８の像は光軸Ａ
を通って観測用光学系ＩＡに直接導かれ、ハーフミラ−
４により反射された基板表面パターンＩＯの像は、反射
板５Ｂにより再反射され、ハーフミラ−４を透過した後
、観測用光学系ＩＡに導かれる。観測用光学系ＩＡは、
ＣＣＤ等の撮像素子で受像された素子表面パターン８の
像と基板表面パターンｌＯの像を電気信号に変換してモ
ニタ用ＣＲＴへ出力し、操作者はモニタ用ＣＲＴ上で両
方の像を同時に確認し、モニタ用ＣＲＴ上で両者が一致
するようにコレット２もしくはステージ３をＸＹ平面で
移動させたのち、ハーフミラ−４をコレット移動軸Ｚか
ら退避させ、コレット２を移動軸２に沿って下ろして素
子７と基板９とを接続する。なお、観測用光学系ＩＡの
位置に反射板５Ｂを置き、反射板５Ｂの位置に観測用光
学系ＩＡを置いてもよ（、ハーフミラ−４の透過損失を
補償するため、素子表面パターン８または基板表面パタ
ーンＩＯのどちらか一方を別途照明してもよい。
像はハーフミラ−４で光軸Ａに沿って反射され、コレッ
ト移動軸Ｚの方向から見た基板表面パターンｌＯの像は
ハーフミラ−４で光軸Ｂに沿って反射する。ハーフミラ
−４により反射された素子表面パターン８の像は光軸Ａ
を通って観測用光学系ＩＡに直接導かれ、ハーフミラ−
４により反射された基板表面パターンＩＯの像は、反射
板５Ｂにより再反射され、ハーフミラ−４を透過した後
、観測用光学系ＩＡに導かれる。観測用光学系ＩＡは、
ＣＣＤ等の撮像素子で受像された素子表面パターン８の
像と基板表面パターンｌＯの像を電気信号に変換してモ
ニタ用ＣＲＴへ出力し、操作者はモニタ用ＣＲＴ上で両
方の像を同時に確認し、モニタ用ＣＲＴ上で両者が一致
するようにコレット２もしくはステージ３をＸＹ平面で
移動させたのち、ハーフミラ−４をコレット移動軸Ｚか
ら退避させ、コレット２を移動軸２に沿って下ろして素
子７と基板９とを接続する。なお、観測用光学系ＩＡの
位置に反射板５Ｂを置き、反射板５Ｂの位置に観測用光
学系ＩＡを置いてもよ（、ハーフミラ−４の透過損失を
補償するため、素子表面パターン８または基板表面パタ
ーンＩＯのどちらか一方を別途照明してもよい。
また、本実施例で素子７と厚さの異なる素子７°を基板
９に接続する場合、第６図（１） 、（２）に示すよう
に第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用光学
系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく、素子７°と基板
９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さ
の変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能である
。
９に接続する場合、第６図（１） 、（２）に示すよう
に第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用光学
系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく、素子７°と基板
９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さ
の変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能である
。
第７図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第４の実施例の構成図、第８図（１）（２）は第４の実
施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続す
る様子を示す図である。
第４の実施例の構成図、第８図（１）（２）は第４の実
施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続す
る様子を示す図である。
本実施例は、第１の実施例の反射体５を、素子表面パタ
ーン８の像の反射用（反射板５Ａ）と基板表面パターン
１０の像の反射用（反射板５Ｂ）とに分けたもので、反
射板５Ａはコレット移動軸Ｚ上のａ点に、反射板５Ｂは
コレット移動軸Ｚ上のｂ点に設置されている。
ーン８の像の反射用（反射板５Ａ）と基板表面パターン
１０の像の反射用（反射板５Ｂ）とに分けたもので、反
射板５Ａはコレット移動軸Ｚ上のａ点に、反射板５Ｂは
コレット移動軸Ｚ上のｂ点に設置されている。
次に、本実施例の動作を説明する。
コレット移動軸Ｚの方向から見た素子表面パターン８の
像は反射板５Ａで光軸Ａに沿って反射され、コレット移
動軸Ｚの方向から見た基板表面パターン１０の像は光軸
Ｂに沿って反射される。反射板５Ａにより反射された素
子表面パターン８の像は観測用光学系ＩＡに直接導かれ
、反射板５Ｂにより反射された基板表面パターン１０の
像は観測用光学系ＩＢに直接導かれ、素子表面パターン
８の像と基板表面パターン１０の像は、それぞれ観測用
光学系ＩＡおよびＩＢに設けられたＣＣＤ撮像素子で電
気的信号に変換されてモニタ用ＣＲＴに出力される。操
作者はモニタ用ＣＲＴ上で両方の像を同時に確認し、モ
ニタ用ＣＲＴ上で両者が一致するようにコレット２また
はステージ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５Ａ
、５Ｂをコレット移動軸Ｚから退避させ、コレット２を
移動軸Ｚに沿って下降させて素子７と基板９とを接続す
る。
像は反射板５Ａで光軸Ａに沿って反射され、コレット移
動軸Ｚの方向から見た基板表面パターン１０の像は光軸
Ｂに沿って反射される。反射板５Ａにより反射された素
子表面パターン８の像は観測用光学系ＩＡに直接導かれ
、反射板５Ｂにより反射された基板表面パターン１０の
像は観測用光学系ＩＢに直接導かれ、素子表面パターン
８の像と基板表面パターン１０の像は、それぞれ観測用
光学系ＩＡおよびＩＢに設けられたＣＣＤ撮像素子で電
気的信号に変換されてモニタ用ＣＲＴに出力される。操
作者はモニタ用ＣＲＴ上で両方の像を同時に確認し、モ
ニタ用ＣＲＴ上で両者が一致するようにコレット２また
はステージ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５Ａ
、５Ｂをコレット移動軸Ｚから退避させ、コレット２を
移動軸Ｚに沿って下降させて素子７と基板９とを接続す
る。
また、本実施例で素子７と厚さの異なる素子７゛を基板
９に接続する場合、第８図り（１）（２）に示すように
第１の実施例の場合と同様な理由により、観測用光学系
ＩＡの光軸Ａを再調整することなく素子７°と基板９の
正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さの変
動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能である。
９に接続する場合、第８図り（１）（２）に示すように
第１の実施例の場合と同様な理由により、観測用光学系
ＩＡの光軸Ａを再調整することなく素子７°と基板９の
正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚さの変
動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能である。
第９図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第５の実施例の構成図、第１０図（１）、（２）は第５
の実施例において厚さの異なる素子７゛を位置合わせ接
続する様子を示す図である。
第５の実施例の構成図、第１０図（１）、（２）は第５
の実施例において厚さの異なる素子７゛を位置合わせ接
続する様子を示す図である。
本実施例は、第４の実施例において、観測用光学系を観
測用光学系ＩＡのみとするために、観測用光学系ＩＡと
反射板５Ａとの間の光軸Ａ上にハーフミラ−４Ａを、反
射板５Ｂで反射された光軸Ｂ上に反射板５Ｃを、また、
反射板５Ｃで反射された光軸Ｂ上に光軸Ｂに垂直に置か
れ、かつ反射板５Ｃ内のＹ方向の軸を反転軸として像を
反転するシリンドリカルレンズ等の軸反転対称光学系６
（レンズ）をそれぞれ設けたものである。
測用光学系ＩＡのみとするために、観測用光学系ＩＡと
反射板５Ａとの間の光軸Ａ上にハーフミラ−４Ａを、反
射板５Ｂで反射された光軸Ｂ上に反射板５Ｃを、また、
反射板５Ｃで反射された光軸Ｂ上に光軸Ｂに垂直に置か
れ、かつ反射板５Ｃ内のＹ方向の軸を反転軸として像を
反転するシリンドリカルレンズ等の軸反転対称光学系６
（レンズ）をそれぞれ設けたものである。
次に、本実施例の動作を説明する。
コレット移動軸Ｚの方向から見た素子表面パターン８の
像は反射板５Ａで光軸Ａに沿って反射され、コレット移
動軸Ｚの方向から見た基板表面パターンｌＯの像は反射
板５Ｂで光軸Ｂに沿って反射される。反射板５Ａにより
反射された素子表面パターン８の像は、ハーフミラ−４
を透過した後に、観測用光学系ＩＡに導かれ、反射板５
Ｂにより反射された基板表面パターン１（１の像は反射
板５Ｃで反射され、軸反転対称光学系６により、Ｙ軸を
反転軸として反転され、ハーフミラ−４で反射され、観
測用光学系ＩＡに導かれる。素子表面パターン８の反射
像と基板表面パターン１０の軸反転反射像は観測用光学
系ＩＡに設けられているＣＣＤ撮像素子で電気信号に変
換されてモニタ用ＣＲＴへ出力される。操作者はモニタ
用ＣＲＴで両方の像を同時に確認し、モニタ用ＣＲＴを
見ながら両者が一致するようにコレット２またはステー
ジ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５Ａおよび５
Ｂをコレット移動軸２から退避させ、コレット２を移動
軸２に沿って下ろして素子７と基板９とを接続する。な
お、軸反転対称光学系６は、光軸Ｂ上の基板表面パター
ンＩＯと反射板５Ｂの間、もしくは光軸Ｂ上の反射板５
Ｂと反射板５Ｃの間、もしくは光軸Ａ上の素子表面パタ
ーン８と反射板５Ａの間、もしくは光軸Ａ上の反射板５
Ａとハーフミラ−４の間に置いても良い。ただし、コレ
ット移動軸Ｚ上に置かれた場合は反射板５Ａ、５Ｂと共
に退避されなければならない。
像は反射板５Ａで光軸Ａに沿って反射され、コレット移
動軸Ｚの方向から見た基板表面パターンｌＯの像は反射
板５Ｂで光軸Ｂに沿って反射される。反射板５Ａにより
反射された素子表面パターン８の像は、ハーフミラ−４
を透過した後に、観測用光学系ＩＡに導かれ、反射板５
Ｂにより反射された基板表面パターン１（１の像は反射
板５Ｃで反射され、軸反転対称光学系６により、Ｙ軸を
反転軸として反転され、ハーフミラ−４で反射され、観
測用光学系ＩＡに導かれる。素子表面パターン８の反射
像と基板表面パターン１０の軸反転反射像は観測用光学
系ＩＡに設けられているＣＣＤ撮像素子で電気信号に変
換されてモニタ用ＣＲＴへ出力される。操作者はモニタ
用ＣＲＴで両方の像を同時に確認し、モニタ用ＣＲＴを
見ながら両者が一致するようにコレット２またはステー
ジ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５Ａおよび５
Ｂをコレット移動軸２から退避させ、コレット２を移動
軸２に沿って下ろして素子７と基板９とを接続する。な
お、軸反転対称光学系６は、光軸Ｂ上の基板表面パター
ンＩＯと反射板５Ｂの間、もしくは光軸Ｂ上の反射板５
Ｂと反射板５Ｃの間、もしくは光軸Ａ上の素子表面パタ
ーン８と反射板５Ａの間、もしくは光軸Ａ上の反射板５
Ａとハーフミラ−４の間に置いても良い。ただし、コレ
ット移動軸Ｚ上に置かれた場合は反射板５Ａ、５Ｂと共
に退避されなければならない。
また、本実施例で素子７と厚さの異なる素子７°を基板
９に接続する場合、第１Ｏ図（１） 、（２）に示すよ
うに第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用光
学系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく、素子７′と基
板９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚
さの変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能であ
る。
９に接続する場合、第１Ｏ図（１） 、（２）に示すよ
うに第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用光
学系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく、素子７′と基
板９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚
さの変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能であ
る。
第１１図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置
の第６の実施例の構成図、第１２図（１）（２）は第６
の実施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接
続する様子を示す図である。
の第６の実施例の構成図、第１２図（１）（２）は第６
の実施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接
続する様子を示す図である。
本実施例は、第４の実施例において、反射板５Ａ、５Ｂ
から観測用光学系ＩＡ、ＩＢに至る光軸Ａ、Ｂが、反射
板５Ａ、５Ｂが置かれているコレット移動軸Ｚ上の２点
ａ、ｂの中間点を通りコレット移動軸２に直角な直線上
の点Ｃで交差するように反射板５Ａ、５Ｂのコレット移
動軸２とのなす角を変え、点Ｃに観測用光学系ＩＡを設
けたものである。なお、反射板５Ｂから観測用光学系Ｉ
Ａに至る光軸Ｂには第５の実施例と同じ軸反転対称光学
系６が設けられている。ここで、反射板５Ａと５Ｂの延
長線の交点をｄ、直線ｃｄと反射板５Ａ （５Ｂ）のな
す角（鈍角）をθ１点Ｃからコレット移動軸２までの距
離をＬとし、２点ａ。
から観測用光学系ＩＡ、ＩＢに至る光軸Ａ、Ｂが、反射
板５Ａ、５Ｂが置かれているコレット移動軸Ｚ上の２点
ａ、ｂの中間点を通りコレット移動軸２に直角な直線上
の点Ｃで交差するように反射板５Ａ、５Ｂのコレット移
動軸２とのなす角を変え、点Ｃに観測用光学系ＩＡを設
けたものである。なお、反射板５Ｂから観測用光学系Ｉ
Ａに至る光軸Ｂには第５の実施例と同じ軸反転対称光学
系６が設けられている。ここで、反射板５Ａと５Ｂの延
長線の交点をｄ、直線ｃｄと反射板５Ａ （５Ｂ）のな
す角（鈍角）をθ１点Ｃからコレット移動軸２までの距
離をＬとし、２点ａ。
５間の距離を２Ｄとし、点ａからコレット移動軸Ｚに直
角に直線ａｅを想定すると、反射板５Ａと直線ａｅの角
度がθと等しいので、光軸Ａの入射角αは（θ−９０°
）であり、出射角βは入射角αと等しいから、三角形ａ
ｃｄの残りの角γは１８０ ’−〇−（θ−９０” ）
＝ （２７０’ −２０）である。反射板５Ａと５Ｂ
は直線ｃｄに関して軸対称であるから三角形ｂｅｄにつ
いても同様である。
角に直線ａｅを想定すると、反射板５Ａと直線ａｅの角
度がθと等しいので、光軸Ａの入射角αは（θ−９０°
）であり、出射角βは入射角αと等しいから、三角形ａ
ｃｄの残りの角γは１８０ ’−〇−（θ−９０” ）
＝ （２７０’ −２０）である。反射板５Ａと５Ｂ
は直線ｃｄに関して軸対称であるから三角形ｂｅｄにつ
いても同様である。
したがって、コレット移動軸２からＣ点までの距離りは
Ｌ ＝ Ｄ ／ ｔａｎ（２７０°−２０）となる。
Ｌ ＝ Ｄ ／ ｔａｎ（２７０°−２０）となる。
次に、本実施例の動作を説明する。コレット移動軸２の
方向から見た素子表面パターン８の像は反射板５Ａで光
軸Ａに沿って反射され、コレット移動軸２の方向から見
た基板表面パターンＩＯの像は反射板５Ｂで光軸Ｂに沿
って反射される。反射板５Ａで反射された素子表面パタ
ーン８の像は観測用光学系ＩＡに直接導かれ、反射板５
Ｂにより反射された基板表面パターン１０の像は、軸反
転対称光学系６によりＹ軸を反転軸として反転された後
に、観測用光学系ＩＡに導かれる。観測用光学系ＩＡは
素子表面パターン８の反射像と基板表面パターンｌＯの
軸反転反射像を観測用光学系ＩＡのＣＣＤ等の撮像素子
で電気信号に変換してモニタ用ＣＲＴへ出力する。操作
者はモニタ用ＣＲＴで両方の像を同時に確認し、モニタ
用ＣＲＴを見ながら両者が一致するようにコレット２ま
たはステージ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５
Ａおよび５Ｂをコレット移動軸Ｚから退避させ、コレッ
ト２を移動軸Ｚに沿って下ろして素子７と基板９とを接
続する。
方向から見た素子表面パターン８の像は反射板５Ａで光
軸Ａに沿って反射され、コレット移動軸２の方向から見
た基板表面パターンＩＯの像は反射板５Ｂで光軸Ｂに沿
って反射される。反射板５Ａで反射された素子表面パタ
ーン８の像は観測用光学系ＩＡに直接導かれ、反射板５
Ｂにより反射された基板表面パターン１０の像は、軸反
転対称光学系６によりＹ軸を反転軸として反転された後
に、観測用光学系ＩＡに導かれる。観測用光学系ＩＡは
素子表面パターン８の反射像と基板表面パターンｌＯの
軸反転反射像を観測用光学系ＩＡのＣＣＤ等の撮像素子
で電気信号に変換してモニタ用ＣＲＴへ出力する。操作
者はモニタ用ＣＲＴで両方の像を同時に確認し、モニタ
用ＣＲＴを見ながら両者が一致するようにコレット２ま
たはステージ３をＸＹ平面で移動させたのち、反射板５
Ａおよび５Ｂをコレット移動軸Ｚから退避させ、コレッ
ト２を移動軸Ｚに沿って下ろして素子７と基板９とを接
続する。
なお、軸反転対称光学系６は、光軸Ｂ上の基板表面パタ
ーンＩＯと反射板５Ｂの間もしくは光軸Ａ上に置いても
良い。ただし、コレット移動軸Ｚ上に置いた場合は反射
板５Ａ、５Ｂと共に退避されなければならない。
ーンＩＯと反射板５Ｂの間もしくは光軸Ａ上に置いても
良い。ただし、コレット移動軸Ｚ上に置いた場合は反射
板５Ａ、５Ｂと共に退避されなければならない。
また、本実施例で素子７と厚さの異なる素子７°を基板
９に接続する場合、第１２図（１） 、（２）に示すよ
うに、第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用
光学系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく素子７″と基
板９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚
さの変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能であ
る。
９に接続する場合、第１２図（１） 、（２）に示すよ
うに、第１の実施例の場合と同様の理由により、観測用
光学系ＩＡの光軸Ａを再調整することなく素子７″と基
板９の正確な位置合わせ接続が達成できる。基板９に厚
さの変動がある場合も正確な位置合わせ接続が可能であ
る。
なお、第１の実施例に対応して述べた第２の実施例のよ
うに、第３の実施例では観測用光学系ＬＡ、ハーフミラ
ー４１反射板５Ｂを、第４の実施例では観測用光学系Ｉ
Ａ、ＩＢ、反射板５Ａ。
うに、第３の実施例では観測用光学系ＬＡ、ハーフミラ
ー４１反射板５Ｂを、第４の実施例では観測用光学系Ｉ
Ａ、ＩＢ、反射板５Ａ。
５Ｂを、第５の実施例では観測用光学系ＬＡ、反射板５
Ａ、５Ｂ、５Ｃ，ハーフミラ−４Ａ、軸反転対称光学系
６を、第６の実施例では観測用光学系ＬＡ、反射板５Ａ
、５Ｂ、軸反転対称光学系６をそれぞれ１つのブロック
に一体化し、ブロックごとコレット移動軸から退避させ
るようにする装置も考えられる。
Ａ、５Ｂ、５Ｃ，ハーフミラ−４Ａ、軸反転対称光学系
６を、第６の実施例では観測用光学系ＬＡ、反射板５Ａ
、５Ｂ、軸反転対称光学系６をそれぞれ１つのブロック
に一体化し、ブロックごとコレット移動軸から退避させ
るようにする装置も考えられる。
［発明の効果］
以上説明したように本発明は、反射体をコレッ上移動軸
上の素子と基板の間に設置することにより、厚さが変動
する素子や基板の位置合わせか、観測用光学系の光軸調
整の必要なく可能となり、赤外光を透過しない素子と基
板の位置合わせなど、従来の位置合わせ・接続装置では
位置合わせが困難な場合についても同様に位置合わせが
できる効果がある。
上の素子と基板の間に設置することにより、厚さが変動
する素子や基板の位置合わせか、観測用光学系の光軸調
整の必要なく可能となり、赤外光を透過しない素子と基
板の位置合わせなど、従来の位置合わせ・接続装置では
位置合わせが困難な場合についても同様に位置合わせが
できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の
第１の実施例の構成図、第２図（１）（２）は第１の実
施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続す
る様子を示す図、第３図は第１の実施例において反射体
５がコレット移動軸Ｚから退避された状態を示す図、第
４図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の第
２の実施例の構成図、第５図は本発明の素子と基板の位
置合わせ・接続装置の第３の実施例の構成図、第６図（
１）、（２）は第３の実施例において厚さの異なる素子
７゛を位置合わせ接続する様子を示す図、第７図は本発
明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の第４の実施例
の構成図、第８図（１）、（２）は第４の実施例におい
て厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続する様子を示
す図、第９図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続
装置の第５の実施例の構成図、第１Ｏ図（１） 、 （
２）は第５の実施例において厚さの異なる素子７°を位
置合わせ接続する様子を示す図、第１１図は本発明の素
子と基板の位置合わせ・接続装置の第６の実施例の構成
図、第１２図（１） 、（２）は第６の実施例において
厚さの異なる素子７゛を位置合わせ接続する様子を示す
図、第１３図はハーフミラ−を用いた従来の位置合わせ
・接続装置の構成図、第１４図（１） 、（２）は第１
３図の従来装置において厚さの異なる素子７′を位置合
わせ接続する様子を示す図、第１５図は赤外光を用いた
従来の位置合わせ・接続装置の構成図、第１６図（１）
、（２）は第１５図の従来装置において厚さの異なる
素子７°を位置合わせ接続する様子を示す図である。 １’Ａ、ＩＢ・・・観測用光学系、 ２・・・コレット、 ３・・・ステージ、 ４ ４Ａ・・・ハーフミラ− ５・・・反射体、 ５Ａ ５Ｂ、５Ｃ・・・反射板、 ６・・・軸反転対称光学系、 ７．７゛・・・素子、 ８．８゛・・・素子表面パターン、 ９．９°・・・基板、 １０、１０“・・・基板表面のパターン。
第１の実施例の構成図、第２図（１）（２）は第１の実
施例において厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続す
る様子を示す図、第３図は第１の実施例において反射体
５がコレット移動軸Ｚから退避された状態を示す図、第
４図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の第
２の実施例の構成図、第５図は本発明の素子と基板の位
置合わせ・接続装置の第３の実施例の構成図、第６図（
１）、（２）は第３の実施例において厚さの異なる素子
７゛を位置合わせ接続する様子を示す図、第７図は本発
明の素子と基板の位置合わせ・接続装置の第４の実施例
の構成図、第８図（１）、（２）は第４の実施例におい
て厚さの異なる素子７′を位置合わせ接続する様子を示
す図、第９図は本発明の素子と基板の位置合わせ・接続
装置の第５の実施例の構成図、第１Ｏ図（１） 、 （
２）は第５の実施例において厚さの異なる素子７°を位
置合わせ接続する様子を示す図、第１１図は本発明の素
子と基板の位置合わせ・接続装置の第６の実施例の構成
図、第１２図（１） 、（２）は第６の実施例において
厚さの異なる素子７゛を位置合わせ接続する様子を示す
図、第１３図はハーフミラ−を用いた従来の位置合わせ
・接続装置の構成図、第１４図（１） 、（２）は第１
３図の従来装置において厚さの異なる素子７′を位置合
わせ接続する様子を示す図、第１５図は赤外光を用いた
従来の位置合わせ・接続装置の構成図、第１６図（１）
、（２）は第１５図の従来装置において厚さの異なる
素子７°を位置合わせ接続する様子を示す図である。 １’Ａ、ＩＢ・・・観測用光学系、 ２・・・コレット、 ３・・・ステージ、 ４ ４Ａ・・・ハーフミラ− ５・・・反射体、 ５Ａ ５Ｂ、５Ｃ・・・反射板、 ６・・・軸反転対称光学系、 ７．７゛・・・素子、 ８．８゛・・・素子表面パターン、 ９．９°・・・基板、 １０、１０“・・・基板表面のパターン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ステージに載せられた基板の表面パターンの像とコ
レットにホールドされた素子の表面パターンの像を反射
体により観測用光学系に導き、該観測用光源系により画
像を確認し、両者が一致するようにコレットまたはステ
ージをステージに平行な面内で移動させた後、コレット
を下降させて素子と基板とを接続する、素子と基板の位
置合わせ・接続装置において、 前記反射体が、コレットが下降するコレット移動軸上の
素子と基板の間に設置され、そしてコレットの下降の際
に邪魔にならないようにコレット移動軸から退避可能に
なっていることを特徴とする、素子と基板の位置合わせ
・接続装置。 ２、前記反射体がハーフミラーであり、該ハーフミハー
フミラーと対向し、該ハーフミラーによって反射された
光軸に９０゜になるように設けられ、該ハーフミラーで
反射された素子表面パターンまたは基板表面パターンを
再び反射する反射体を有する請求項１記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145380A JP2603301B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 素子と基板の位置合わせ・接続装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145380A JP2603301B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 素子と基板の位置合わせ・接続装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0228343A true JPH0228343A (ja) | 1990-01-30 |
| JP2603301B2 JP2603301B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=15383904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63145380A Expired - Lifetime JP2603301B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 素子と基板の位置合わせ・接続装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2603301B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5416592A (en) * | 1992-03-23 | 1995-05-16 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Probe apparatus for measuring electrical characteristics of objects |
| JP2007103667A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Machinery Inc | ダイボンダ |
| JP6469926B1 (ja) * | 2018-10-16 | 2019-02-13 | ハイソル株式会社 | チップ裏面撮像装置及びボンディング装置 |
| WO2024014077A1 (ja) * | 2022-07-11 | 2024-01-18 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 位置決め装置、実装装置、位置決め方法および実装方法 |
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| JPS58137222A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体素子のフリツプチツプボンデイング装置 |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP63145380A patent/JP2603301B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JP2020064948A (ja) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | ハイソル株式会社 | チップ裏面撮像装置及びボンディング装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2603301B2 (ja) | 1997-04-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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