JPH043291Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH043291Y2 JPH043291Y2 JP1983194414U JP19441483U JPH043291Y2 JP H043291 Y2 JPH043291 Y2 JP H043291Y2 JP 1983194414 U JP1983194414 U JP 1983194414U JP 19441483 U JP19441483 U JP 19441483U JP H043291 Y2 JPH043291 Y2 JP H043291Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- half mirror
- optical axis
- lens
- objective lens
- Prior art date
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- Expired
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 67
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 14
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lenses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は変倍光学系、特に変倍前後の結像位置
における光軸すなわち結像光軸が厳密に一致させ
ることができる変倍光学系に関し、本考案は、例
えば、1Cパターンを複数の倍率で検査測定する
装置に利用されるものである。
における光軸すなわち結像光軸が厳密に一致させ
ることができる変倍光学系に関し、本考案は、例
えば、1Cパターンを複数の倍率で検査測定する
装置に利用されるものである。
従来の変倍光学系の例としては、ズーム光学系
が知られているが、これはレンズの光軸上の移動
によつて変倍を行うため、レンズの偏心やレンズ
移動機構の製作誤差に起因して変倍時に結像光軸
が移動する問題があつた。
が知られているが、これはレンズの光軸上の移動
によつて変倍を行うため、レンズの偏心やレンズ
移動機構の製作誤差に起因して変倍時に結像光軸
が移動する問題があつた。
従来の変倍光学系の他の例としては、レンズ交
換式のものが知られているが、これはレンズ光軸
の位置精度を必要な精度に押えることが困難であ
り、レンズ変換時に光軸ずれを起こして結像光軸
が移動する問題があつた。
換式のものが知られているが、これはレンズ光軸
の位置精度を必要な精度に押えることが困難であ
り、レンズ変換時に光軸ずれを起こして結像光軸
が移動する問題があつた。
従来の変倍光学系の他の例としては、投影光学
系に揺動ミラーを配置して、該揺動ミラーによつ
て２つの倍率の異なる投影光学系を構成したもの
が知られている。しかしこの光学系においては揺
動ミラーの位置及び傾斜角度が結像光軸に影響を
与え、特に傾斜角度は２倍になつて影響を与える
ため、精度の高い投影光学系を構成することが困
難である問題があつた。
系に揺動ミラーを配置して、該揺動ミラーによつ
て２つの倍率の異なる投影光学系を構成したもの
が知られている。しかしこの光学系においては揺
動ミラーの位置及び傾斜角度が結像光軸に影響を
与え、特に傾斜角度は２倍になつて影響を与える
ため、精度の高い投影光学系を構成することが困
難である問題があつた。
本考案は従来の変倍光学系の上記問題に鑑みな
されたものであつて、半導体検査装置のように極
めて高精度なアライメントを必要とする装置にお
いて、倍率の変換によつても光軸ずれすなわちア
ライメント状態の狂いを生じない変倍光学系を提
供することを目的とする。
されたものであつて、半導体検査装置のように極
めて高精度なアライメントを必要とする装置にお
いて、倍率の変換によつても光軸ずれすなわちア
ライメント状態の狂いを生じない変倍光学系を提
供することを目的とする。
本考案は上記目的を達成するため次の構成上の
特徴を有する。すなわち、本考案は、固定レンズ
部材のみからなる対物レンズと、該対物レンズの
光軸上に配置され対物レンズからの光路を２つの
光路に分割するための第１ハーフミラーと、分割
された前記２つの光路を１つの結像面に導くため
の第２ハーフミラーと、第１ハーフミラーにより
形成された２つの光路内にそれぞれ配置され、同
一被検物の像を異なつた倍率で前記１つの結像面
に形成するための２つのリレーレンズ系と、前記
２つの光路を選択的に遮光するためのシヤツター
とを備えたことを特徴とする変倍光学系である。
従つて、ハーフミラーの透過光路と反射光路によ
る投影倍率の異なる２つの投影光束の結像光軸を
厳密に一致させて調整後、上記シヤツタにより上
記２つの投影光束を選択することにより、結像光
軸が厳密に一致した倍率の異なる２つの投影光束
を得ることができる。
特徴を有する。すなわち、本考案は、固定レンズ
部材のみからなる対物レンズと、該対物レンズの
光軸上に配置され対物レンズからの光路を２つの
光路に分割するための第１ハーフミラーと、分割
された前記２つの光路を１つの結像面に導くため
の第２ハーフミラーと、第１ハーフミラーにより
形成された２つの光路内にそれぞれ配置され、同
一被検物の像を異なつた倍率で前記１つの結像面
に形成するための２つのリレーレンズ系と、前記
２つの光路を選択的に遮光するためのシヤツター
とを備えたことを特徴とする変倍光学系である。
従つて、ハーフミラーの透過光路と反射光路によ
る投影倍率の異なる２つの投影光束の結像光軸を
厳密に一致させて調整後、上記シヤツタにより上
記２つの投影光束を選択することにより、結像光
軸が厳密に一致した倍率の異なる２つの投影光束
を得ることができる。
以下本考案の実施例を図にもとづいて説明す
る。被検物である1Cパターン１は対物光軸３上
であつてかつ対物レンズ２の前側焦点位置に配置
される。対物レンズ２の後方には第１ハーフミラ
ー４が斜設され、対物レンズ２から射出された光
束を分割する。第１ハーフミラー４の透過光束の
第１光軸８には、第１シヤツタ１０、及び凹レン
ズ１２と凸レンズ１４からなる光束拡大光学系１
６が配置され、さらにその後方に第２ハーフミラ
ー１８が斜設される。
る。被検物である1Cパターン１は対物光軸３上
であつてかつ対物レンズ２の前側焦点位置に配置
される。対物レンズ２の後方には第１ハーフミラ
ー４が斜設され、対物レンズ２から射出された光
束を分割する。第１ハーフミラー４の透過光束の
第１光軸８には、第１シヤツタ１０、及び凹レン
ズ１２と凸レンズ１４からなる光束拡大光学系１
６が配置され、さらにその後方に第２ハーフミラ
ー１８が斜設される。
第１ハーフミラー４の反射光束の第２光軸２０
には、凸レンズ２２と凹レンズ２４からなる光束
縮小光学系２６、ミラー２８，３０、及び第２シ
ヤツタ３２が配置される。
には、凸レンズ２２と凹レンズ２４からなる光束
縮小光学系２６、ミラー２８，３０、及び第２シ
ヤツタ３２が配置される。
第２ハーフミラー１８を通過した第１光軸８の
延長部と、第２ハーフミラー１８で反射された第
２光軸２０の延長部とは完全に一致して第３光軸
３０となり、第３光軸３０上には結像レンズ３２
と撮像管３４が配置される。第１シヤツタ１０と
第２シヤツタ３２とはシヤツタ制御装置（図示せ
ず）によつて選択的に開閉される。
延長部と、第２ハーフミラー１８で反射された第
２光軸２０の延長部とは完全に一致して第３光軸
３０となり、第３光軸３０上には結像レンズ３２
と撮像管３４が配置される。第１シヤツタ１０と
第２シヤツタ３２とはシヤツタ制御装置（図示せ
ず）によつて選択的に開閉される。
以上の構成において、第１シヤツタ１０が開い
ている場合には、対物光軸３、第１光軸８及び第
３光軸３０からなる光軸上に配置された光学部材
によつて拡大投影光学系を構成し、対物レンズ２
によつてつくられた平行光束を光束拡大光学系１
６によつて拡大し、さらに結像レンズ３２によつ
て撮像管３４上に1Cパターン１の像を結像する。
ている場合には、対物光軸３、第１光軸８及び第
３光軸３０からなる光軸上に配置された光学部材
によつて拡大投影光学系を構成し、対物レンズ２
によつてつくられた平行光束を光束拡大光学系１
６によつて拡大し、さらに結像レンズ３２によつ
て撮像管３４上に1Cパターン１の像を結像する。
一方、第２シヤツタ１０が開いている場合に
は、対物光軸３、第２光軸２０及び第３光軸３０
からなる光軸上に配置された光学部材によつて縮
小投影光学系を構成し、対物レンズ２によつてつ
くられた平行光束を光束縮小光学系２６により縮
小し、さらに結像レンズ３２によつて撮像管３４
上に1Cパターン１の像を結像する。すなわち第
２シヤツタ１０が開いている場合には、第１シヤ
ツタ１０が開いている場合と異なる投影倍率で、
撮像管３４上に1Cパターン１の像を結像する。
撮像管３４からの電気信号は観察するためのテレ
ビモニター及び各種寸法測定のための測定電気処
理部に送られ、各種の検査測定に用いられる。
は、対物光軸３、第２光軸２０及び第３光軸３０
からなる光軸上に配置された光学部材によつて縮
小投影光学系を構成し、対物レンズ２によつてつ
くられた平行光束を光束縮小光学系２６により縮
小し、さらに結像レンズ３２によつて撮像管３４
上に1Cパターン１の像を結像する。すなわち第
２シヤツタ１０が開いている場合には、第１シヤ
ツタ１０が開いている場合と異なる投影倍率で、
撮像管３４上に1Cパターン１の像を結像する。
撮像管３４からの電気信号は観察するためのテレ
ビモニター及び各種寸法測定のための測定電気処
理部に送られ、各種の検査測定に用いられる。
本考案は以上述べたように構成されるから、投
影倍率の異なる２つの投影光学系の結像光軸を一
致させて構成し、それぞれの投影光学系に配置さ
れたシヤツタを選択的に開閉することにより、結
像光軸を一致させたまま被検物像を異なつた倍率
で結像させることができる効果を有する。
影倍率の異なる２つの投影光学系の結像光軸を一
致させて構成し、それぞれの投影光学系に配置さ
れたシヤツタを選択的に開閉することにより、結
像光軸を一致させたまま被検物像を異なつた倍率
で結像させることができる効果を有する。
図面は本考案の実施例の光学図である。
１……1Cパターン、２……対物レンズ、３…
…対物光軸、４……第１ハーフミラー、８……第
１光軸、１０……第１シヤツタ、１６……光束拡
大光学系、１８……第２ハーフミラー、２０……
第２光軸、２６……光束縮小光学系、３２……第
２シヤツタ。
…対物光軸、４……第１ハーフミラー、８……第
１光軸、１０……第１シヤツタ、１６……光束拡
大光学系、１８……第２ハーフミラー、２０……
第２光軸、２６……光束縮小光学系、３２……第
２シヤツタ。
Claims (1)
- 固定レンズ部材のみからなる対物レンズと、該
対物レンズの光軸上に配置され対物レンズからの
光路を２つの光路に分割するための第１ハーフミ
ラーと、分割された前記２つの光路を１つの結像
面に導くための第２ハーフミラーと、第１ハーフ
ミラーにより形成された２つの光路内にそれぞれ
配置され、同一被検物の像を異なつた倍率で前記
１つの結像面に形成するための２つのリレーレン
ズ系と、前記２つの光路を選択的に遮光するため
のシヤツターとを備えたことを特徴とする変倍光
学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19441483U JPS60107816U (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | 変倍光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19441483U JPS60107816U (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | 変倍光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60107816U JPS60107816U (ja) | 1985-07-22 |
| JPH043291Y2 true JPH043291Y2 (ja) | 1992-02-03 |
Family
ID=30751864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19441483U Granted JPS60107816U (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | 変倍光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60107816U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2713403B2 (ja) * | 1987-07-23 | 1998-02-16 | 株式会社ニコン | 倍率変換可能な光学装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5359429U (ja) * | 1976-10-22 | 1978-05-20 |
-
1983
- 1983-12-17 JP JP19441483U patent/JPS60107816U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60107816U (ja) | 1985-07-22 |
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