JPH09269278A - レンズ性能測定方法及び測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は被測定レンズ系を構成する複数個の
レンズの一部または全ての偏心によるスリット像位置の
変化があっても、被測定レンズ系の結像性能の測定が可
能なレンズ性能測定装置を提供する。 【解決手段】 光源１と、該光源１からの光束で照明さ
れるテストパターンを設けたチャート３と、前記チャー
ト３のテストパターンの投影像を結像させる被測定レン
ズ系５と、該被測定レンズ系５を固定するための被測定
レンズ系載置部と、該被測定レンズ系載置部に設置され
た被測定レンズ系５によって結像される前記テストパタ
ーンの像の位置的強度分布を時系列信号に変換する像走
査手段６と、像走査手段６の出力信号を計算処理するた
めの信号処理手段１４とを有するレンズ性能測定装置に
おいて、前記チャート３のチャートが、前記装置光軸８
に対して直交する方向に移動可能な構造を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スチルカメラ及び
ビデオカメラの結像光学系等に用いられるレンズの結像
性能を測定する、レンズ性能測定方法及び測定装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】このようなレンズ性能測定方法及び測定
装置に関して、例えば特開平７−５０７３号公報に記載
されている測定方法及び測定装置が既に従来技術として
知られている。この従来技術は、線状パターン（スリッ
ト）を被検レンズ（被測定光学系）でフォトマル等の受
光手段面上に結像させ、このときの受光手段で得られた
線像の光強度分布をフーリエ変換して被検レンズのＭＴ
Ｆ（ＯＴＦを含む）を測定する際に、被検レンズやスリ
ットや照明光あるいは光源、受光手段等の位置調整や姿
勢制御等を全自動にて行うというものである。

【０００３】図１６乃至１９は、従来技術たるレンズ性
能測定装置の原理を表す図である。図１６は装置全体の
概略図（側面図）であり、ここで、１００は受光手段、
２００は投影手段である。図１６に示す受光手段１００
において、１０１は被測定光学系３０９によって投影さ
れた像（テストパターン像）を、内蔵する回転ミラー等
でスキャニングし受光素子（フォトマル）５１０に取り
込む受光部、１０２は受光部１０１を上下移動及び回転
させる機構部、１０３は受光部１０１を搭載した機構部
１０２が移動するガイドが設けられており、かつ、左右
に移動する支持部、１０４は支持部１０３を左右に移動
させるモーター、１０５は支持部１０３が移動するガイ
ドが設けられたベース部である。

【０００４】図１６に示す投影手段２００において、２
０１は投影部１９８全体を上下に移動させるモーター、
２０２は被測定光学系３０９を設置するマウント、２０
３は投影部１９８の受光部１０１に対する光軸を出す為
のレーザーである。図１７は受光手段１００の正面から
の一部分の説明図であり、５０１は結像面に配置したス
リットで被測定光学系３０９により結像したスリット像
を走査する為の走査用回転ミラー、５０７は走査用回転
ミラー５０１と対になって被測定光学系３０９によって
結像した像を走査する走査スリット、５１０は走査用ス
リット５０７を通った光を受ける測定用フォトマルであ
る。

【０００５】図１８は投影手段２００の一部分で、測定
光学系３０９やテストパターン（すなわち、スリット７
０１）、そして、照明用の光ファイバー等のアライメン
トを行うステーシ群３１０を示す説明図であり、７０１
は被測定光学系３０９によって投影されるスリットがテ
ストパターンとして切ってあるチャート、７０２はチャ
ート７０１を照明する光を導く為の光ファイバー、７０
３は光ファイバー７０２をチャート７０１の面に対して
上下に移動させる為のＹステージである。

【０００６】さらに、図１８において、７０５は光ファ
イバー７０２を左右に移動させる為のＸステージ、７０
７はＸステージ７０５とＹステージ７０３とを前後左右
に傾ける為のゴニオステージ、７０８はこれ自体より上
の構造物体の高さを調整するスペーサ、７０９はチャー
ト７０１と光ファイバー７０２とＹステージ７０３とＸ
ステージ７０５とゴニオステージ７０７とを光軸方向に
徴調移動させる為のＺステージであり、また、７１１は
チヤート７０１と光ファイバー７０２とＹステージ７０
３とＸステージ７０５とゴニオステージ７０７と徴動Ｚ
ステージ７０９とを鉛直方向に対して直交する平面内で
回転移動させる為のθステージ、７１３はチャート７０
１と光ファイバー７０２とＹステージ７０３とＸステー
ジ７０５とゴニオステージ７０７と微動Ｚステージ７０
９とθステージ７１１とを光軸方向に粗調移動させる為
の粗動Ｚステージである。

【０００７】図１９は投影手段２００の光源部分８００
の説明図であり、８０１は光源ランプ、８０２、８０
３、８０４、８０５は各々光学レンズで、光源ランプ８
０１の光を集めるコンデンサーレンズである。

【０００８】図１６乃至図１９に示されるレンズ性能測
定装置においては、光源ランプ８０１から射出した光束
を、コンデンサーレンズ８０２、８０３、８０４、８０
５にて収束させ、光ファイバー７０２に入射させる。光
ファイバー７０２を透過した光束は、チャート７０１を
照明する。

【０００９】チャート７０１に達した光束のうち、スリ
ット７０１に達した光束はスリットを通過し、マウント
２０２に設置された被測定レンズ系３０９によって収束
される。収束された光束は、受光部１０１中の走査用回
転ミラー５０１にて反射した後、走査スリット５０７を
通過して測定用フォトマル５１０に入射する。フォトマ
ル５１０からの出力信号は、制御用コンピュータを介し
てデータ処理用コンピュータに入力され、ここでデータ
処理が行われ、ＭＴＦ（周波数レスポンス関数）が計算
されるものである。

【００１０】測定の際には、上述した各部の位置合わせ
が必要となる。投影手段２００の位置合わせは、チャー
ト７０１上の測定用のテストパターンに光を照射し、テ
ストパターンから射出した光束が被測定レンズ系に入る
よう、図１８における各ステージを用いて位置決めを行
う。また、被測定レンズ系から射出した光束が受光部１
００上の測定用フォトマル５１０に入射するよう、図１
８中の各ガイド等を用いて位置調整を行う。

【００１１】ところが、従来技術たるレンズ性能測定方
法及び測定装置には、以下のような課題があった。即
ち、被測定レンズ系３０９によるスリット像の結像位置
の変化に対応する為に受光部１０１を機構部１０２を介
して移動させるが、測定時の被測定レンズ系３０９を構
成する複数個のレンズの一部または全てにチルト・シフ
ト等の偏心があった場合、被測定レンズ系を射出した光
束の角度変化によるスリット像の位置変化が大きく、従
って、受光部１０１のワーキングディスタンスを大きく
取らざるを得ず、このため、装置が大型化するという課
題があった。

【００１２】本発明はこの、従来技術の課題を解決し、
被測定レンズ系を構成する複数個のレンズの一部または
全ての偏心によるスリット像位置の変化があっても、被
測定レンズ系の結像性能の測定が可能であり、かつ、装
置が小型となるレンズ性能測定方法及び測定装置を提供
するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
光源によって照明されたチャート上のテストパターン
の、被測定レンズ系による像を、該被測定レンズ系によ
る像の位置的強度分布を時系列信号に変換する像走査手
段で取り込み、該像走査手段の出力を信号処理手段にて
処理し、前記被測定レンズ系の結像性能を測定する、レ
ンズ性能測定方法において、前記被測定レンズ系からの
射出光束の角度若しくは位置又は前記角度及び前記位置
の両方を変化させる光路偏向手段を有することを特徴と
するものである。

【００１４】請求項２記載の発明は、光源と、該光源か
らの光束で照明されるテストパターンを設けたチャート
と、該チャートの該テストパターンの投影像を結像させ
る被測定レンズ系と、該被測定レンズ系を固定するため
の被測定レンズ系載置部と、該被測定レンズ系載置部に
設置された被測定レンズ系によって結像される前記テス
トパターンの像の位置的強度分布を時系列信号に変換す
る像走査手段と、該像走査手段の出力信号を計算処理す
るための信号処理手段とを有し、前記信号処理手段以外
の前記各構成要素を基準軸上に配置した、レンズ性能測
定装置において、前記チャートが、前記基準軸に対して
直交する方向に移動可能な構造を有することを特徴とす
るものである。

【００１５】請求項３記載の発明は、光源と、該光源か
らの光束で照明されるテストパターンを設けたチャート
と、該チャートの該テストパターンの投影像を結像させ
る被測定レンズ系と、該被測定レンズ系から射出した光
束の伝搬方向を変化させる為のミラーと、前記被測定レ
ンズ系を固定するための被測定レンズ系載置部と、該被
測定レンズ系載置部に設置された被測定レンズ系によっ
て結像される前記テストパターンの像の位置的強度分布
を時系列信号に変換する為の像走査手段と、該像走査手
段の出力信号を計算処理する信号処理手段とを有し、前
記信号処理手段以外の前記各構成要素を装置光軸上に配
置し、前記被測定レンズ系の、装置光軸上を含む複数の
像高の結像性能を測定するレンズ性能測定装置におい
て、前記ミラーの角度を、前記像走査手段の出力結果を
基に変化させる構成としたことを特徴とするものであ
る。

【００１６】図１は、本発明の請求項１の発明に係るレ
ンズ性能測定方法を表す概念図である。以下図１に基づ
き、本発明について説明する。

【００１７】図１において、１は光源であり、チャート
２を照明する。チャート２には、例えば、図２に示す如
く、テストパターン３が設けられており、光源１からの
光束がチャート２のテストパターン３の部分のみを透過
するようになっている。また、図１において、４は被測
定レンズ系５を固定するための被測定レンズ系載置台で
あり、鏡筒内に収納された複数個のレンズよりなる被測
定レンズ系５が載置されている。また、６は、被測定レ
ンズ系５によるテストパターン３の像を捕らえる為の像
走査手段である。

【００１８】また、７は光路偏向手段であり、被測定レ
ンズ系５から射出した光束の角度若しくは位置、又はそ
の両方を変化させる機能を有する。８は装置光軸であ
り、前述の各部材の中心がこの装置光軸８上に位置して
いる。１４は信号処理手段であり、像走査手段６の出力
信号を処理し、被測定レンズ系５の性能を示す指数、例
えばＭＴＦ（周波数レスポンス関数）を出力する。

【００１９】次に、図１に基づき、本発明の請求項１の
発明に係るレンズ性能測定方法の作用について説明す
る。前記光源１から射出した光束は、前記チャート２を
照明する。チャート２に達した光束のうち、テストパタ
ーン３の部分に達した光束はこのチャート２を通過し、
被測定レンズ系５に入射する。被測定レンズ系５に入射
した光束は、光路偏向手段７に入射する。そして、光路
偏向手段７を射出した光束は、像走査手段６に入射す
る。

【００２０】ここで、チャート２と像走査手段６が、被
測定レンズ系５について結像関係となるように、チャー
ト２及び像走査手段６の位置関係を予め調整しておけ
ば、チャート２上のテストパターン３の像が像走査手段
６上に結像することとなる。

【００２１】この像走査手段６の出力信号を、信号処理
手段１４にて処理すれば、被測定レンズ系５の結像性能
を示す指数、例えばＭＴＦを得ることが出来、これによ
り被測定レンズ系５の性能を測定することが可能にな
る。

【００２２】テストパターン３とその像の位置関係は、
被測定レンズ系５による結像関係によって定まる。い
ま、テストパターン３が装置光軸８上に位置しており、
かつ、被測定レンズ系５の光軸９が装置光軸８に一致し
ている場合、テストパターン３の像は装置光軸８上に位
置する。また、テストパターン３が装置光軸８からｄだ
け離間した位置にあった場合、その像は、装置光軸８か
ら、ｄ’＝β・ｄだけ離間した位置に形成される。ここ
に、βは被測定レンズ系５の測定時の結像倍率である。

【００２３】いまここで、被測定レンズ系５を構成する
複数個のレンズの一部又は全てに、傾き（チルト）若し
くは横ズレ（シフト）又はその両方が存在したとする。
そのような状態においては、被測定レンズ系５から射出
した光束の角度若しくは位置又はその両方が変化する。

【００２４】例えば図３の如く、被測定レンズ系５全体
に、装置光軸８に対しδだけ横ズレ（シフト）が発生し
たとする。この場合のチャート２上のテストパターン３
のうち、装置光軸８上に位置しているものの像の位置関
係について考える。

【００２５】被測定レンズ系５の光軸９を基準として考
えると、テストパターン３は被測定レンズ系光軸９から
δだけ離間したことになるので、その像は、ｄ”＝β・
δで表される距離ｄ”だけ、被測定レンズ系５の光軸９
から離間した位置に形成されることになる。

【００２６】さらに、この像の位置は、装置光軸８か
ら、距離ｄ_dec ＝δ＋ｄ”＝δ（１＋β）だけ離間した
位置に形成されることになる。

【００２７】この状態においては、像走査手段６の受光
範囲より距離ｄ_dec の値が小さい場合には、テストパタ
ーン３の像は像走査手段６の受光範囲内に入ることにな
り、測定可能になるが、像走査手段６の受光範囲よりｄ
_dec の値が大きい場合には、像走査手段６の受光範囲か
ら像が外れることになり、測定不可能になる。

【００２８】このような状態にて、光路偏向手段７を用
いて、被測定レンズ系５からの光束の角度若しくは位置
又はまたはその双方を図４に示す如く変化させ、テスト
パターン３の位置を変化させ、像走査手段６の受光範囲
内に収めれば、測定可能とすることが出来る。

【００２９】尚、図１及び図４においては、光路偏向手
段７は、被測定レンズ系５と像走査手段６との間に位置
しているが、光路偏向機能を有すればこの位置に限定さ
れるものでは無く、チャート２から像走査手段６までの
間のどこに位置に配置してもよい。この際、テストパタ
ーン３の像の位置ズレは、光路偏向手段７により補正さ
れる為、像走査手段６を移動させる必要は無くなり、装
置をコンパクトにすることが可能となる。

【００３０】図５は、本発明の請求項２に係る発明のレ
ンズ性能測定装置を表す概念図である。以下図５に基づ
き、本発明について説明する。１０はチャート２をこの
装置の装置光軸８と直交する方向に移動させるための移
動機構である。これ以外の構成要素については、図１と
同様であるので説明を省略する。

【００３１】次に、図５に基づき、本発明の請求項２に
係るレンズ性能測定装置の働きについて説明する。前記
光源１から出た光束は、チャート２を照明する。チャー
ト２に達した光束の内、テストパターン３に入射した光
束のみがチャート２を通過する。チヤート２を通過した
光束の内、被測定レンズ系５の開口内に入射した光束
は、被測定レンズ系５を透過して像走査手段６に達す
る。像走査手段６の出力を信号処理手段９に取り込み、
計算処理をすることにより、被測定レンズ系５の結像性
能を測定することが可能となる。

【００３２】ここで既述した図３に示すように、被測定
レンズ系５全体に横ズレ（シフト）δが生じた場合を考
える。このとき、テストパターン３の像は、請求項１記
載の発明の場合と同様、距離ｄ_dec ＝δ（１＋β）だ
け、装置光軸８から離間した位置に形成される。既述し
た通り、距離ｄ_dec が像走査手段６の受光範囲よりも大
きければ、テストパターン３の像は像走査手段６の受光
範囲外となり、測定不可能となる。

【００３３】もし、このとき、図６に示すように、移動
機構１０による移動量をＬとして、この像を装置光軸８
上に形成させるとすると、ｄ_dec ＝０＝（Ｌ−δ）β＋
δ、従って、Ｌ＝δ（１−１／β）の関係が成立する。

【００３４】このような移動量Ｌだけチャート２を移動
させると、テストパターン３の像は像走査手段６の中心
に位置することとなり、測定が可能になる。この場合に
おいても、被測定レンズ系５のシフトによるテストパタ
ーン３の像の位置ズレは、移動機構１０によるチャート
２の移動によって補正されることとなり、像走査手段６
を移動させる必要は無くなり、これにより、装置を小型
にすることが可能になる。

【００３５】図７は、本発明の請求項３に係る発明のレ
ンズ性能側定装置を示す概念図である。以下図７に基づ
き、本発明について説明する。図７において、１１はミ
ラーであり、角度を変化させる角度可変機構を有する。
これ以外の構成要素は図１又は図５中の構成要素と同一
であるので、説明を省略する。

【００３６】次に図７基づき、本発明の請求項３に係る
発明のレンズ性能測定装置の作用について説明する。図
１乃至図４に示す場合と同様、チャート２上のテストパ
ターン３から射出した光源１からの光束は、被測定レン
ズ系５を透過してミラー１１に達する。ミラー１１で光
束は反射し、像走査手段６に達する。像走査手段６の出
力信号を信号処理手段１４で処理すれば、被測定レンズ
系５の性能を示す指数が得られる。

【００３７】ここで、被測定レンズ系５を構成する複数
のレンズの一部または全てにチルト・シフトが生じた場
合、テストパターン３の像位置が変化し、その変化量が
大きい場合には、像走査手段６の受光範囲より、テスト
パターン３の像が外れてしまう。

【００３８】このような場合には、ミラー１１の角度を
変化させて被測定レンズ系５からの射出光束を走査しな
がら、像走査手段６の出力を確認する。被測定レンズ系
５からの射出光束の一部が像走査手段６上に来た場合、
像走査手段６からの信号により、ミラー１１の角度の補
正量を計算させ、計算結果に応じてミラー１１の角度を
変化させれば、テストパターン３の像全てを像走査手段
６上に位置させることが出来る。

【００３９】この場合においても、被測定レンズ系５の
チルト・シフトによるテストパターン３の像の位置ズレ
は、ミラー１１の角度調整によって補正されることとな
り、像走査手段６を移動させる必要は無くなり、よって
装置を小型にすることが可能になる。

【００４０】（実施の形態１）図８は本発明の請求項
１、請求項２及び請求項３の発明に係るレンズ性能測定
方法及び測定装置の実施の形態１を示す図である。

【００４１】まず、図８に示す構成要素を説明する。図
８において、２１は光源であるキセノンランプであり、
図示しないが、図８中、矢印Ａの方向に移動可能な構造
となっている。２２はチャートであり、このチャート２
２には、図９に示すように、テストパターン２２ａ乃至
２２ｉが形成されている。図８中、２３はチャート２２
の移動機構であり、チャート２２を載置したベース２３
ａをリニアガイド２３ｂ上に配置し、バネ２３ｃにて、
装置光軸３３と直交する矢印Ｂ方向にテンションを与え
ると共に、マイクロメータ２３ｄを逆方向に当てつけ、
以てベース２３ａとチャート２２とを一体として支持す
ると共に、チャート２２の矢印Ｂ方向の移動を可能にし
ている。２４は被測定レンズ系取り付け部である。

【００４２】図８中、２５は像走査手段である１次元Ｃ
ＣＤ素子であり、図示しないが装置光軸３３を回転軸と
して回転可能な構造となっている。２６は被測定レンズ
系である。２７は信号処理手段であるマイクロコンピュ
ータである。ミラー２８はテストパターン２２ｂ、２２
ｃ、２２ｄ、２２ｅを射出した光束を反射し、ミラー２
９に入射させる。

【００４３】ミラー２９は、光束を反射し、装置光軸３
３に沿って進行させる。ミラー２８及び２９は、ミラー
ボックス３４内に設置され、このミラーボックス３４は
装置光軸３３に沿って図８に示す矢印Ｅ方向に移動可能
に、かつ、装置光紬３３を回転軸として回転可能な構造
となっている。

【００４４】また、ミラー２８は装置光軸３３に直交す
る方向の回転軸２８ａを回転軸として角度調整可能であ
り、ミラー２９は適宜装置光軸３３から離脱可能な（す
なわち、装置光軸３３に沿って進行する光束がミラー２
９に入射しないように移動する）構造を有する。

【００４５】図８中、３０及び３１はミラーであり、装
置光軸３３に沿って進行してきた光束を反射し、進行方
向を反対方向とする。３２は光ファイバーユニットであ
り、光ファイバー３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄ、３
２ｅは、キセノンランプ２１から射出した光束をテスト
パターン２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄに導入させる
為のものである。また、３５は被測定レンズ系２６から
射出した光束である。

【００４６】次に図８及び図９に基づき、本実施の形態
１の作用について説明する。測定前の準備として、 （１）キセノンランプ２１の位置を矢印Ａ方向に調整し
て、性能を測定したしたいポイントのテストパターン２
２ａ乃至２２ｅを照明するための光ファイバーに光束が
入射するようにする。 （２）テストパターン２２ａから光束が射出する状態の
測定においては、ミラー２９を装置光軸３３上から退避
させる。 （３）それ以外のテストパターン２２ｂ、２２ｃ、２２
ｄ、２２ｅから光束が射出する状態の測定においては、
被測定レンズ系２６の焦点距離をｆ、入射瞳位置をｅｎ
ｔ．ｐ、測定倍率β、前側焦点位位置ｆｆ、第１面から
像面距離ＣＪ、装置光紬３３からテストパターン２２ｂ
乃至２２ｅまでの距離Ｉ．Ｈ、ミラー２８の回転軸２８
ａと、ミラー２９と装置光軸３３との交点Ｃとの距離ｄ
の各値より、Ｌ_mul ＝ｄ・ｆ／Ｉ．Ｈ＋ＣＪ−ｅｎｔ．
ｐで示される値Ｌ_mul にチャート２２と、ミラー２９
と、装置光軸３３との交点Ｃとの距離が位置するよう
に、ミラー２８及びミラー２９を一体として移動、調整
する。

【００４７】また、ミラー２８の角度ωは、下記数１で
示される値に設定する。

【００４８】

【数１】 ω＝｛９０−ｔａｎ^-1（１．Ｈ／ｆ）｝／２

【００４９】（４） 更に、ミラー３０及び３１を、一
体として移動させ、チャート２２上のテストパターンの
像が、１次元ＣＣＤ素子２５の付近で収束するように、
ミラー３０及びミラー３１の装置光軸３３方向の位置
を、これらを一体として調整する。この状態では、キセ
ノンランプ２１から射出した光束は光ファイバー３２ａ
乃至３２ｅのいずれかを透過して、テストパターン２２
ａ乃至２２ｅのいずれかに入射する。

【００５０】まず、光ファイバー３２ａを経由して、テ
ストパターン２２ａに光束が入射した場合について述べ
る。この場合は、被測定レンズ系２６の結像状態は、い
わゆる軸上結像の状態となる。

【００５１】テストパターン２２ａから射出した光束は
そのまま、装置光軸３０に沿って進行する。この場合、
ミラー２９は装置光軸３３上から退避しておく。する
と、光束は、装置光軸３３上をそのまま直進し、ミラー
３０及び３１にて反射して、元の進行方向とは１８０度
向きを変えて進み、１次元ＣＣＤ素子２５に入射して、
１次元ＣＣＤ素子２５の表面で光束は結像する。この像
は、テストパターン２２ａの像に他ならない。

【００５２】ここで、１次元ＣＣＤ素子２５の出力を、
マイクロコンピューター２７に入力し、マイクロコンピ
ューター２７にて計算処理することにより、レンズ性能
を測定することが出来る。

【００５３】ここで、被測定レンズ系２６を構成するレ
ンズの一部又は全てがチルト又はシフトすると、この影
響によつて１次元ＣＣＤ素子２５上にてテストパターン
２２ａの像の位置が変化する。チルト又はシフトの値が
大きいと、テストパターン２２ａの像が１次元ＣＣＤ素
子２５上には位置せず、測定不可能となる。

【００５４】ここで、マイクロメーター２３ｄを一方の
ストローク端まで動作させた後、他方のストローク端に
向かって動作させ、チャート２２の位置を矢印Ｂ方向に
動作させる。この動作を行うと、被測定レンズ系２６の
光軸に対するテストパターン２２ａの距離が変化するこ
とになる。即ち、被測定レンズ系２６におけるテストパ
ターン２２ａの結像関係での、物体高が変化することに
なり、これに伴ってテストパターン２２ａの像の位置も
変化する。従って、１次元ＣＣＤ素子２５上に無かった
テストパターン２２ａの像を、１次元ＣＣＤ素子２５上
に乗せることが出来、測定可能とすることができるもの
である。

【００５５】因に、矢印Ｂ方向と直交する方向にチル
ト、シフトが存在した場合は、チャート２２の移動では
影響を除去できないが、テストパターン２２ａは図８の
紙面と直交する方向に、また、テストパターン２２ｂ乃
至２２ｅは装置光軸３３を中心としての同心円方向に長
さを持っているので、テストパターン２２ａ乃至２２ｅ
の像のいずれかの部分が１次元ＣＣＤ素子２５上に乗る
ことになり問題はない。

【００５６】次に、光ファイバー３２ａ乃至３２ｅのう
ち１本を経由して、テストパターン２２ｂ乃至２２ｅの
うちのいずれかに光束入射する場合を考える。この場合
は、被測定レンズ系２６の結像状態は、いわゆる軸外結
像の状態となる。この場合、テストパターン２２ｂ乃至
２２ｅのうちのいずれかを射出した光束は、被測定レン
ズ系２６によって収束され、例えば、図８中の光束３５
のように被測定レンズ系２６より斜めに射出する。ここ
で、光束３５が射出した延長上に、ミラー２８があるよ
うに、ミラー２８及びミラー２９を一体として装置光軸
３３を回転軸として回転させる。

【００５７】ミラー２８及びミラー２９の位置が既述し
たＬmu1の式で与えられる位置にあり、なおかつミラー
２８の角度が数１で与えられる角度になっていれば、ミ
ラー２８に入射した光束は、ミラー２９に向かって、装
置光軸３３と直交する方位で反射し、ミラー２９で更に
反射して、装置光軸３３上を直進することになる。

【００５８】これ以降の場合は、テストパターン２２ａ
から光束が射出した場合と同様、光束はミラー３０及び
３１で反射して、１次元ＣＣＤ素子２５に入射し、収束
する。これはテストパターン２２ｂ乃至２２ｅのうちの
いずれかの像に他ならない。この場合においても、被測
定レンズ系２６を構成するレンズの一部又は全部に傾
き、横ズレがあると、被測定レンズ系２６から射出した
光束の位置及び角度が変化し、ミラー２９で反射した光
束が装置光軸３３上を進行しない場合が出てくる。

【００５９】この場合、光束が図８の紙面内で変化する
場合は、ミラー２８の角度を修正する。即ち、ミラー２
８の角度ωを、数１で表される値から変化させる。ま
た、光束が紙面に垂直な方向、即ち、ミラー２８の角度
変化では修正できない方向に変化した場合には、ミラー
２８及びミラー２９を一体として装置光軸３３を回転軸
として回転させる。

【００６０】いずれも１次元ＣＣＤ素子２５の出力を観
察しながら、１次元ＣＣＤ素子２５から出力がでるま
で、即ち、テストパターン像が１次元ＣＣＤ素子２５上
に位置するようになるまで調整を続ける。

【００６１】このような操作により、テストパターン像
の一部でも１次元ＣＣＤ素子２５上に位置するようにな
れば、測定可能となる。テストパターン２２ａの像を捕
らえる場合においても、また、テストパターン２２ａ以
外の像を捕らえる場合においても、像の周辺部まで１次
元ＣＣＤ素子２５上に位置させるために、１次元ＣＣＤ
素子２５の中心にテストパターン像の強度ピークが位置
するまでミラー２８及びミラー２９の角度を調整するこ
とが望ましい。

【００６２】この場合においても、１次元ＣＣＤ素子２
５の出力を観察しながらミラー２８及びミラー２９の位
置を徴調整すればよい。いずれの場合においても、１次
元ＣＣＤ素子２５の位置は変化しない為、１次元ＣＣＤ
素子２５のワーキングディスタンスを確保する必要がな
く、装置を小型化することができる。

【００６３】本実施の形態１固有の効果としては、複数
のテストパターン２２ａ乃至２２ｅを用いた測定の各々
の場合に、チャート２２又はミラー２８、２９を調整し
て測定を実施する為、偏心の大きな被測定レンズ系２６
の、軸上結像及び軸外結像の双方の場合の結像性能につ
いて測定可能である点が挙げられる。

【００６４】（実施の形態２）図１０は、本発明の請求
項１及び請求項２に係る発明のレンズ性能測定方法及び
装置の実施の形態２を示す図である。

【００６５】以下、図１０を参照して、本実施の形態２
の構成を説明する。図１０中、４１は光源であるレーザ
ーダイオード（ＬＤ）であり、波長８３０ｎｍのレーザ
ー光を発振する。４２はチャートであり、図１１に示す
ように、テストパターン４２ａが形成されている。４３
はチャート４２の移動機構であり、チャート４２はチヤ
ート枠４３ａ中に固定されている。チャート枠４３ａは
タイミングベルト４３ｂの一部に固定されており、タイ
ミングベルト４３ｂは２つのスプロケット４３ｃ及び４
３ｄによってテンションを与えられている。スプロケッ
ト４３ｃはモーター４３ｅで回転するようになってお
り、このモーター４３ｅの回転により、チャート４２
が、チャート枠４３ａ、タイミングベルト４３ｂと一体
となって図１０に示す矢印Ｂ方向に移動可能となってい
る。

【００６６】図１０中、４４は被測定レンズ系取り付け
部である。４５は像走査手段であるフォトマルチプライ
ヤであり、図示しない矢印Ｃ方向に移動可能な機構を有
している。４６は被測定レンズ系であり、レーザーダイ
オード４１の発振波長と同じ８３０ｎｍの光束を用いて
使用する様な光学系、例えばコンパクトディスクの光学
系等を使用する。４７は信号処理手段であるワークステ
ーションである。

【００６７】次に、図１０及び図１１を参照して、本実
施の形態２の作用について説明する。レーザーダイオー
ド４１から射出したレーザー光束は、チャート４２を照
明する。チャート４２においては、テストパターン４２
ａの位置でレーザー光が透過し、被測定レンズ系４６に
入射する。

【００６８】被測定レンズ系４６を射出した光束は、フ
オトマルチプライヤ４５に達し、ここで、フォトマルチ
プライヤ４５を矢印Ｃ方向に移動させながら、その出力
をワークステーション４７に取り込む。

【００６９】ワークステーション４７においては、フォ
トマルチプライヤ４５の出力を処理する。この処理結果
により、被測定レンズ系４６の性能を測定することが出
来る。被測定レンズ系４６を構成するレンズの一部又は
全ての偏心が大きかった場合、前述の実施の形態１同様
テストパターン４２ａの像がフォトマルチプライヤ４５
の受光範囲内に入らない場合が出てくる。

【００７０】この場合には、移動機構４３を用いて、即
ち、モーター４３ｅを回転させ、スプロケット４３ｃを
回転させてタイミングベルト４３ｂを移動させ、チャー
ト枠４３ｂと共にチャート４２を移動させることによ
り、被測定レンズ系４６からの射出光束の角度及び位置
を変化させ、フォトマルチプライヤ４５の受光範囲内に
テストパターン４２ａの像を位置させることにより、測
定可能な状態にすることができる。

【００７１】この場合においても、像走査手段であるフ
オトマルチプライヤ４５の移動範囲は、テストパターン
像を走査するための範囲に限定できるため、ワーキング
ディスタンスを極力小さくでき、装置を小型化すること
が可能である。

【００７２】本実施の形態２固有の効果としては、被測
定レンズ系４６の光軸周辺の性能のみを測定する構成で
あるため、装置構成が簡略である点が挙げられる。

【００７３】（実施の形態３）図１２は本発明の請求項
１及び請求項２に係る、レンズ性能測定方法及び装置の
実施の形態３を示す図である。

【００７４】以下、図１２を参照して本実施の形態３の
構成を説明する。図１２において、５１は光源である電
球である。５３はチャートの移動機構であり、チャート
４２がチャート枠５３ａに固定され、リニアガイド５３
ｂ上に載置されている。チャート枠５３ａはボールねじ
５３ｃとモーター５３ｄにより図１２に示す矢印Ａ方向
に移動可能となっている。

【００７５】図１２において、５４は被測定レンズ系取
り付け部である。５５は像走査手段である１次元ＣＣＤ
素子である。５６は被測定レンズ系である。５７は信号
処理手段であるワンボードタイプの演算ユニットであ
る。５８は光源である電球５１の分光強度特性を補正す
る為のフィルターである。５９はコリメーターレンズで
あり、被測定レンズ系５６から射出した平行光束を収
束、結像させる為のものである。

【００７６】その他の構成要素は前述の場合と同様であ
るので、説明を省略する。但し、４２は実施の形態２に
使用されているのと同じチャートであり、図１１に示す
如くテストパターン４２ａが形成されているが、その装
置光軸３３方向の位置が被測定レンズ系５６の焦点位置
となるように、チャート４２、被測定レンズ系取り付け
部５４、被測定レンズ５６の位置関係が調整されてい
る。

【００７７】次に、図１２を参照して、本実施の形態３
の作用について説明する。電球５１から射出した光束は
チャート４２を照明する。チャート４２上に形成された
テストパターン４２ａを光束は透過し、被測定レンズ系
５６に入射する。テストパターン４２ａが形成されてい
るチャート４２の装置光軸３３方向の位置が被測定レン
ズ系５６の焦点位置と一致している為、被測定レンズ系
５６からは平行光束が射出する。被測定レンズ系５６を
射出した平行光束は、コリメーターレンズ５９に入射
し、収束されて１次元ＣＣＤ素子５５に達する。ここで
光束は結像するが、これはテストパターン４２ａの像に
他ならない。

【００７８】この像の強度は電気信号に変換され、１次
元ＣＣＤ素子５５の時系列出力となる。１次元ＣＣＤ素
子５５の出力は演算ユニット５７に入力される。演算ユ
ニット５７においては計算処理が行われ、被測定レンズ
系５６の性能を表す評価値が計算される。この場合、被
測定レンズ系５６を構成するレンズの一部又は全てにチ
ルト、シフトがあった場合、前述の実施の形態２と同様
テストパターン４２ａの像の位置にズレを生じる。

【００７９】この場合、モーター５３ｄを回転させボー
ルねじ５３ｃを回転させ、チャート枠５３ａと共にチャ
ート４２を図１２に示す矢印Ａ方向に移動させることに
より、テストパターン４２ａの結像位置を変化させ、１
次元ＣＣＤ素子５５上に位置させ、測定可能とすること
が出来る。この際、１次元ＣＣＤ素子５５の位置は変化
しない為、ワーキングディスタンスを確保する必要がな
く、装置を小型化することが可能である。

【００８０】本実施の形態３固有の効果としては、被測
定レンズ系５６から平行光束が入射する条件にて測定を
実施する為、チャート４２と１次元ＣＣＤ素子５５との
間隔を極力小さくでき、その結果、装置のさらなる小型
化を実現することが出来る点を挙げることが出来る。

【００８１】（実施の形態４）図１３は本発明の請求項
１及び請求項３に係るレンズ性能測定方法及び装置の実
施の形態４を示す図である。

【００８２】以下、図１３を参照して本実施の形態４の
構成を説明する。図１３において、７１は光源であるキ
セノンランプである。７３はミラーであり、装置光軸８
０に直交し、かつ、図１３の紙面に直交する軸Ｒａを回
転軸としてモータ７３ａにより回転し、角度調整可能な
構造となっている。

【００８３】７４は第１のコリメーターレンズであり、
キセノンランプ７１から射出し、チャート４２上のテス
トパターン４２ａから射出した光束を平行光束とする。
７５は第２のコリメーターレンズであり、被測定レンズ
系７６から射出した平行光束を収束させる。７６は被測
定レンズ系であり、望遠鏡、双眼鏡等のいわゆるアフォ
ーカル光学系である。７７は像走査手段である１次元Ｃ
ＣＤ素子である。

【００８４】図１３において、７８は回転ステージであ
り、第１のコリメーターレンズ７４、チャート４２及び
キセノンランプ７１が一体として載置され、図１３に示
す点Ｃを中心に図１３の紙面内で回転する構造を有す
る。７９は被測定レンズ系取り付け部であり、図１３に
おいて、矢印Ｅの方向に移動可能な機構を有する。８０
は装置光軸である。その他の構成要素は前述の場合と同
様であるので、説明を省略する。

【００８５】次に、図１３を参照して、本実施の形態４
の作用について説明する。測定の前に、被測定レンズ系
取り付け部７９のシフト機構を利用して、被測定レンズ
系７６の射出瞳位置と、回転ステージ７８の回転中心で
ある点Ｃの位置とを一致させる。

【００８６】次に、被測定レンズ系７６の視野の中心部
の性能を測定する為に、回転ステージ７８を回転させ、
第１のコリメーターレンズ７４の光軸と装置光軸８０と
が一致するようにし、視野の周辺部の性能を測定する為
には、被測定レンズ系７６からの射出瞳への光線の入射
角度に応じて、回転ステージ７８によって第１のコリメ
ーターレンズ７４、チャート４２及びキセノンランプ７
１を一体として回転させ、第１のコリメーターレンズ７
４からの射出光束が、被測定レンズ系７６の視野周辺部
からの光束の角度に一致するようにする。

【００８７】この状態にて、キセノンランプ７１を射出
した光束は、チャート４２を照明する。チャート４２上
のテストパターン４２ａを透過した光束は、第１のコリ
メーターレンズ７４で平行光束となり、被測定レンズ系
７６に入射する。被測定レンズ系７６を光束は射出する
が、被測定レンズ系７６のもう一方の端に取り付られた
ミラーフ３によって進行方向を変化させられ、第２のコ
リメーターレンズ７５へと入射する。

【００８８】第２のコリメーターレンズ７５に入射した
光束は、１次元ＣＣＤ素子７７にて収束する。これはテ
ストパターン４２ａの像に他ならない。１次元ＣＣＤ素
子７７の出力信号をマイクロコンピューター２７に取り
込み、計算処理を行う。これによって被測定レンズ系７
６の性能を測定することが出来る。

【００８９】被測定レンズ系７６内部のレンズの一部又
は全てにチルト、シフトがある場合、被測定レンズ系７
６からの光束の角度が変化し、第２のコリメーターレン
ズ７５によるテストパターン４２ａの像の位置が変化す
る。チルト、シフトが大きくなる場合は、１次元ＣＣＤ
素子７７上に像が乗らない場合が生じる。

【００９０】このような場合は、ミラー７３の角度を調
整し、被測定レンズ系７６から射出した光束が第２のコ
リメーターレンズ７５の光軸に平行に入射するようにす
る。

【００９１】第２のコリメーターレンズ７５の結像位置
は、テストパターン４２ａの像の、第２のコリメーター
レンズ７５の光軸からの離間量Ｉ．Ｈ、第２のコリメー
ターレンズ７５の焦点距離ｆ、第２のコリメーターレン
ズ７５の光軸と、第２のコリメーターレンズ７５へ入射
する平行光束とがなす角θとするとき、Ｉ．Ｈ＝ｆ・ｔ
ａｎθの式により与えられる。

【００９２】従って、第２のコリメーターレンズ７５の
光軸に平行な光束が入射した場合は、第２のコリメータ
ーレンズ７５の光軸上、即ち、１次元ＣＣＤ素子７７の
中心付近にテストパターン４２ａの像が結像することと
なり、被測定レンズ系７６の性能を測定することが可能
になるものである。

【００９３】この際、１次元ＣＣＤ素子７７の出力を確
認しながらミラー７３の角度を徴調整し、テストパター
ン４２ａの像の一部でも１次元ＣＣＤ素子７７上に位置
すれば、その位置を基にテストパターン４２ａの像全体
を１次元ＣＣＤ素子７７上に位置させることが可能であ
る。

【００９４】また、テストパターン４２ａの像全体を１
次元ＣＣＤ素子７７上に位置させる為には、テストパタ
ーン４２ａの像の強度ピークが１次元ＣＣＤ素子７７の
中心付近に来るようにしなければならないが、これも、
１次元ＣＣＤ素子７７の出力波形を観察しながら、ミラ
ー７３の角度を徴調整することにより可能である。

【００９５】この場合、１次元ＣＣＤ素子７７の位置は
固定されているため、１次元ＣＣＤ素子７７のワーキン
グディスタンスを確保することは不要となり、装置を小
型化することが可能となる。本実施の形態４固有の効果
としては、アフォーカル光学系の性能を測定できる点が
挙げられる。

【００９６】（実施の形態５）図１４は、本発明の請求
項１及び請求項３に係るレンズ性能測定方法及び装置の
実施の形態５を示す図である。以下、図１４を参照し
て、本実施の形態５の構成を説明する。図１４におい
て、８１は光源であるキセノンランプであり、図示しな
いが図１４において矢印Ａ方向に移動調整可能な構造を
有する。

【００９７】８２はチャートであり、図１５に示すよう
に、テストパターン８２ａ乃至８２ｅが形成されてい
る。８３はミラーであり、モータ８３ａの回転軸８３ｂ
上に設置されている。更に、このモータ８３ａはモータ
８３ｃの回転軸８３ｄ上に設置されており、ミラー８３
は装置光軸９０及び装置光軸９０と直交し、図１４の紙
面に垂直な軸を回転軸として回転可能な構造を有してい
る。

【００９８】モータ８３ｃの回転軸８３ｄは装置光軸９
０と一致している。即ち、モータ８３ａの回転軸８３ｂ
とモータ８３ｃの回転軸８３ｄとは直交している。８４
は被測定レンズ取り付け部である。８５は像走査手段で
ある２次元ＣＣＤ素子である。８６は被測定レンズ系で
ある。

【００９９】図１４において、８７は画像処理装置であ
り、入力画像中で指定した任意の１断面の強度分布を時
系列信号として出力する機能を有する。また、断面位置
の指定を行うためのマウス９１を接続する機能、及び２
次元ＣＣＤ素子８５の出力と、マウスカーソル位置を重
ね合わせて映像信号として出力する端子を有する。８８
は信号処理手段であるマイクロコンピュータであり、画
像処理装置８７の出力を演算処理する。９１はマウスで
あり、画像処理装置８７に対して、強度分布を取り込む
１断面の位置を指定するものである。

【０１００】８９は２次元ＣＣＤ素子８５の出力及びマ
ウス９１の指定位置を画像として観察するためのモニタ
ーテレビであり、画像処理装置８７に接続されている。
その他の構成要素については、前述の場合と同様である
ので、説明を省略する。

【０１０１】次に、図１４及び図１５を参照して、本実
施の形態５の作用について説明する。まず測定の前に、
予めキセノンランプ８１の位置を矢印Ａ方向に位置調整
し、チャート８２上のテストパターン８２ａ乃至８２ｅ
のうち、結像性能を測定したい点に対応したテストパタ
ーンを照明するようにしておく。

【０１０２】このような状態において、キセノンランプ
８１を射出した光束は、チャート８２を照明する。チャ
ート８２に達した光束の内、テストパターン８２ａ乃至
８２ｅの内のいずれかに達した光束がチャート８２を透
過し、被測定レンズ系８６に達する。被測定レンズ系８
６に達した光束は、被測定レンズ系８６で収束され、ミ
ラー８３にて反射した後２次元ＣＣＤ素子８５に達す
る。ここでは被測定レンズ系８６から射出した光束が収
束するが、これはテストパターン８２ａ乃至８２ｅのい
ずれかの像に他ならない。

【０１０３】この状態で２次元ＣＣｄ素子８５の出力を
画像処理装置８７に入力する。画像処理装置８７は、こ
の信号をモニターテレビ８９に、マウス９１のカーソル
位置と重ね合わせて出力する。このモニターテレビ８９
の画像を観察しながら、マウス９１にて、強度分布を測
定すべき断面を指定する。この断面は、テストパターン
像を形成する２本の直線の内、１本に直交する方向であ
る必要がある。

【０１０４】強度分布を測定すべき断面がマウス９１に
よって指定されると、画像処理装置８７は指定された断
面の強度分布を測定し、その結果をパーソナルコンピュ
ータ８８に出力する。パーソナルコンピュータ８８は入
力された信号を計算処理する。これにより、被測定レン
ズ系８６の性能を測定することが出来る。ここで、被測
定レンズ系８６を構成するレンズの一部又は全てにチル
ト、シフトがあると、テストパターン８２ａ乃至８２ｅ
の像の位置はずれることになり、２次元ＣＣＤ素子８５
上に位置しない場合も出てくる。

【０１０５】この場合は、モニターテレビ８９にて２次
元ＣＣＤ素子８５の出力信号を観察しながら、ミラー８
３の角度をモータ８３ａ及びモータ８３ｃにより微調整
する。この場合、２次元ＣＣＤ素子８５上でのテストパ
ターン像の移動及び方向より、ミラー８３の調整角度を
決めることができ、テストパターン像が全て２次元ＣＣ
Ｄ素子８５上に位置するよう、調整することが可能であ
る。このような状態とすれば、被測定レンズ系８６の結
像性能を測定することが可能となる。

【０１０６】この場合、テストパターン像の位置の調整
はミラー８３の角度変化によってなされ、２次元ＣＣＤ
素子８５は固定状態であるため、２次元ＣＣＤ素子８５
のワーキングデディスタンスを確保する必要が無くな
り、装置を小型化することが可能となる。

【０１０７】本実施の形態５固有の効果としては、像走
査手段として２次元ＣＣＤ素子８５を使用している為、
レンズの性能の方向性が問題となる場合に、測定装置及
び被測定レンズ系８６の状態を変化させること無く、ほ
ぼ同時に２つの方向の性能を測定できることが挙げられ
る。

【０１０８】以上説明した請求項１乃至３記載の発明に
よれば、被測定レンズ系にチルト、シフトがあった場合
にも、コンパクトな構成で被測定レンズ系の結像性能を
測定することができるレンズ性能測定方法及び装置を提
供するができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレンズ性能測定方法を示す概念図であ
る。

【図２】本発明におけるチャートの平面図である。

【図３】本発明のレンズ性能測定方法において、被測定
レンズ系が横ズレした場合の説明図である。

【図４】本発明のレンズ性能測定方法において、テスト
パターンの位置を変化させた場合の説明図である。

【図５】本発明のレンズ性能測定方法を示す概念図であ
る。

【図６】本発明のレンズ性能測定方法において、被測定
レンズ系がδだけ横ズレした場合の説明図である。

【図７】本発明のレンズ性能測定方法を示す概念図であ
る。

【図８】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態１を
示す概略図である。

【図９】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態１に
用いるチャートの平面図である。

【図１０】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態２
を示す概略図である。

【図１１】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態１
に用いるチャートの平面図である。

【図１２】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態３
を示す概略図である。

【図１３】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態４
を示す概略図である。

【図１４】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態５
を示す概略図である。

【図１５】本発明のレンズ性能測定装置の実施の形態５
に用いるチャートの平面図である。

【図１６】従来装置の全体構成を示す概略図である。

【図１７】従来装置の受光手段の一部を示す説明図であ
る。

【図１８】従来装置の投影手段の一部を示す説明図であ
る。

【図１９】従来装置の光源部を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 光源 ２ チャート ３ テストパターン ４ 被測定ンズ系載置台 ５ 被測定ンズ系 ６ 像走査手段 ７ 光路偏向手段 １４ 信号処理手段 ２１ キセノンランプ ２２ チャート ２３ 移動機構 ２５ １次元ＣＣＤ素子 ２６ 被測定ンズ系 ２７ マイクロコンピュータ ２８ ミラー ２９ ミラー

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源によって照明されたチャート上のテ
   ストパターンの、被測定レンズ系による像を、該被測定
   レンズ系による像の位置的強度分布を時系列信号に変換
   する像走査手段で取り込み、該像走査手段の出力を信号
   処理手段にて処理し、前記被測定レンズ系の結像性能を
   測定する、レンズ性能測定方法において、 前記被測定レンズ系からの射出光束の角度若しくは位置
   又は前記角度及び前記位置の両方を変化させる光路偏向
   手段を有することを特徴とする、レンズ性能測定方法。
2. 【請求項２】 光源と、該光源からの光束で照明される
   テストパターンを設けたチャートと、該チャートの該テ
   ストパターンの投影像を結像させる被測定レンズ系と、
   該被測定レンズ系を固定するための被測定レンズ系載置
   部と、該被測定レンズ系載置部に設置された被測定レン
   ズ系によって結像される前記テストパターンの像の位置
   的強度分布を時系列信号に変換する像走査手段と、該像
   走査手段の出力信号を計算処理するための信号処理手段
   とを有し、 前記信号処理手段以外の前記各構成要素を基準軸上に配
   置した、レンズ性能測定装置において、 前記チャートが、前記基準軸に対して直交する方向に移
   動可能な構造を有することを特徴とする、レンズ性能測
   定装置。
3. 【請求項３】 光源と、該光源からの光束で照明される
   テストパターンを設けたチャートと、該チャートの該テ
   ストパターンの投影像を結像させる被測定レンズ系と、
   該被測定レンズ系から射出した光束の伝搬方向を変化さ
   せる為のミラーと、前記被測定レンズ系を固定するため
   の被測定レンズ系載置部と、該被測定レンズ系載置部に
   設置された被測定レンズ系によって結像される前記テス
   トパターンの像の位置的強度分布を時系列信号に変換す
   る為の像走査手段と、該像走査手段の出力信号を計算処
   理する信号処理手段とを有し、 前記信号処理手段以外の前記各構成要素を装置光軸上に
   配置し、前記被測定レンズ系の、装置光軸上を含む複数
   の像高の結像性能を測定するレンズ性能測定装置におい
   て、 前記ミラーの角度を、前記像走査手段の出力結果を基に
   変化させる構成としたことを特徴とする、レンズ性能測
   定装置。