JPH02275467A - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
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- JPH02275467A JPH02275467A JP9667489A JP9667489A JPH02275467A JP H02275467 A JPH02275467 A JP H02275467A JP 9667489 A JP9667489 A JP 9667489A JP 9667489 A JP9667489 A JP 9667489A JP H02275467 A JPH02275467 A JP H02275467A
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、発光ダイオード、半導体レーザダイオード
、ガスレーデなどを光源とし、６３（ｌｎｍ〜８００ｎ
ｍの長波長光を書き込み光に用いる電子写真方式の複写
機あるいはプリンタに用いられる電子写真用感光体の製
造方法に関する。
、ガスレーデなどを光源とし、６３（ｌｎｍ〜８００ｎ
ｍの長波長光を書き込み光に用いる電子写真方式の複写
機あるいはプリンタに用いられる電子写真用感光体の製
造方法に関する。
電子写真方式の複写機およびプリンタでは感光体表面に
静電潜像を形成する書き込み光として、波長６３０ｎｍ
〜８００ｎｍという長波長光が使われており、そのよう
な電子写真装置においては、前述のような長波長光域で
も感度を持つ電荷発生層を有し、電荷発生層で発生した
キャリアを輸送する電荷輸送層および電荷発生層を外部
ストレスから保護する表面保護層から構成されている機
能分離型の感光体が一般に使われている。
静電潜像を形成する書き込み光として、波長６３０ｎｍ
〜８００ｎｍという長波長光が使われており、そのよう
な電子写真装置においては、前述のような長波長光域で
も感度を持つ電荷発生層を有し、電荷発生層で発生した
キャリアを輸送する電荷輸送層および電荷発生層を外部
ストレスから保護する表面保護層から構成されている機
能分離型の感光体が一般に使われている。
ところが、上述の従来の感光体においては、高温高湿環
境下において帯電低下が著しく、悪化し、画像上、正規
現像方式の電子写真装置では濃度低下（または白抜け）
、また、反転現像方式の電子写真装置では地かぶり（ま
たは画像ボケ）などの障害が発生してしまう。これらに
対処するために、装置に帯電補償あるいはサイクル補償
回路などを設は温度により変動する帯電低下の補正を行
う必要があり、はとんどの装置メーカーでは上述した回
路を設けたり、あるいはスコロトロンを用いることによ
り帯電の均一性を確保しているのが現状であるが、これ
らの回路は一般に高価であり、装置が高価となる欠点が
あった。
境下において帯電低下が著しく、悪化し、画像上、正規
現像方式の電子写真装置では濃度低下（または白抜け）
、また、反転現像方式の電子写真装置では地かぶり（ま
たは画像ボケ）などの障害が発生してしまう。これらに
対処するために、装置に帯電補償あるいはサイクル補償
回路などを設は温度により変動する帯電低下の補正を行
う必要があり、はとんどの装置メーカーでは上述した回
路を設けたり、あるいはスコロトロンを用いることによ
り帯電の均一性を確保しているのが現状であるが、これ
らの回路は一般に高価であり、装置が高価となる欠点が
あった。
この発明は、上述の課題を解決して、電子写真装置に上
述のような帯電の均一性を確保するための手段を具備さ
せることを必要としないレベルにまで、帯電低下が少な
くなるように改善された感光体を提供することを目的と
する。
述のような帯電の均一性を確保するための手段を具備さ
せることを必要としないレベルにまで、帯電低下が少な
くなるように改善された感光体を提供することを目的と
する。
上記の課題は、この発明によれば、アルミニウムを主成
分とする材料からなる基体上に電荷輸送層、電荷発生層
１表面保護層が順次形成されてなる電子写真用感光体の
製造方法において、前記基体を２５０℃以上３００℃以
下の範囲内の温度に加熱し、この基体上にへβ、０３膜
からなる電子注入抑制層を形成し、この電子注入抑制層
上に前記各層を形成することによって解決される。
分とする材料からなる基体上に電荷輸送層、電荷発生層
１表面保護層が順次形成されてなる電子写真用感光体の
製造方法において、前記基体を２５０℃以上３００℃以
下の範囲内の温度に加熱し、この基体上にへβ、０３膜
からなる電子注入抑制層を形成し、この電子注入抑制層
上に前記各層を形成することによって解決される。
上述の加熱処理により基体上に形成され、かつ、基体と
電荷輸送層との間に介在する／Ｖ 、 ０３膜からなる
電子注入抑制層は、基体から電荷輸送層への電子の注入
を抑制（バリア層の役目を果たす）し、感光体の帯電低
下量を高温高湿環境下にふいても実用上問題とならない
量にまで低減する。従って、電子写真装置にスコロトロ
ンを用いたり、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路
を設けたりする必要性はなくなる。
電荷輸送層との間に介在する／Ｖ 、 ０３膜からなる
電子注入抑制層は、基体から電荷輸送層への電子の注入
を抑制（バリア層の役目を果たす）し、感光体の帯電低
下量を高温高湿環境下にふいても実用上問題とならない
量にまで低減する。従って、電子写真装置にスコロトロ
ンを用いたり、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路
を設けたりする必要性はなくなる。
第１図は、この発明の感光体の一実施例を示す模式的断
面図であり、アルミニウム合金からなる基体１０１上に
ＡＩ ２Ｏ．からなる電子注入抑制層１０２が基体の加
熱により形成されており、その上に電荷輸送層１０３．
電荷発生層１０４１表面保護層１０５が順次形成されて
いる。
面図であり、アルミニウム合金からなる基体１０１上に
ＡＩ ２Ｏ．からなる電子注入抑制層１０２が基体の加
熱により形成されており、その上に電荷輸送層１０３．
電荷発生層１０４１表面保護層１０５が順次形成されて
いる。
実施例１
所要の加工および洗浄を施されたアルミニウム合金から
なる円筒状の基体１０１を２５０℃で３０分間加熱処理
して電子注入抑制層１０２を形成し、常温常湿の無塵室
内に一昼夜放置した後、電荷輸送層１０３として蒸着法
で純Ｓｅを約５０μｍ成膜し、続いて、フラッシュ蒸着
法で電荷発生層１０４としてＴｅを４６重１％含有する
５ｅ−Ｔｅ合金を約０．１μｍｌＸ。Ｍ Ｌ、その上に
同じくフラッシュ蒸着法で表面保護層１０５として＾Ｓ
を４重量％含有するＳｅ・＾Ｓ合金を約２μｍ成膜して
感光体とした。
なる円筒状の基体１０１を２５０℃で３０分間加熱処理
して電子注入抑制層１０２を形成し、常温常湿の無塵室
内に一昼夜放置した後、電荷輸送層１０３として蒸着法
で純Ｓｅを約５０μｍ成膜し、続いて、フラッシュ蒸着
法で電荷発生層１０４としてＴｅを４６重１％含有する
５ｅ−Ｔｅ合金を約０．１μｍｌＸ。Ｍ Ｌ、その上に
同じくフラッシュ蒸着法で表面保護層１０５として＾Ｓ
を４重量％含有するＳｅ・＾Ｓ合金を約２μｍ成膜して
感光体とした。
実施例２
実施例１において、基体の加熱処理温度を２５０℃から
３００℃に変え、その他は実施例１と同様にして感光体
を作製した。
３００℃に変え、その他は実施例１と同様にして感光体
を作製した。
比較例
実施例１において、基体の加熱処理温度を２５０℃から
従来の１５０℃に変え、その他は実施例１と同様にして
比較例の感光体を作製した。
従来の１５０℃に変え、その他は実施例１と同様にして
比較例の感光体を作製した。
これらの実施例および比較例の各感光体について、実機
〈カラー複写機）で、常温常湿（温度２５℃、相対湿度
５０％）右よび高温高湿（温度３５℃。
〈カラー複写機）で、常温常湿（温度２５℃、相対湿度
５０％）右よび高温高湿（温度３５℃。
相対湿度８５％）環境下において、２５０枚通紙しなが
ら現像部の電位を測定し帯電低下量を調べた。
ら現像部の電位を測定し帯電低下量を調べた。
それらの測定値より求めた帯電低下量と基体加熱温度と
の関係を第２図の線図に示す。第２図において、○印は
実施例１．Δ印は実施例２．・印は比較例それぞれの測
定値をプロットしたものであり、また、実線は高温高湿
環境下９点線は常温常湿環境下の関係を示すものである
。
の関係を第２図の線図に示す。第２図において、○印は
実施例１．Δ印は実施例２．・印は比較例それぞれの測
定値をプロットしたものであり、また、実線は高温高湿
環境下９点線は常温常湿環境下の関係を示すものである
。
第２図より、帯電低下は基体加熱温度が高くなるにつれ
て低下量が減少し良くなることが判る。
て低下量が減少し良くなることが判る。
また、常温常温環境下では全体的に帯電低下量は小さく
、基体加熱温度が変わることによる変動も少ないが、高
温高湿環境下では帯電低下量は大きく、しかも、基体加
熱温度の変化により大幅に変動することが示されている
。
、基体加熱温度が変わることによる変動も少ないが、高
温高湿環境下では帯電低下量は大きく、しかも、基体加
熱温度の変化により大幅に変動することが示されている
。
第２図に見られるとおり、比較例の感光体（従来品）の
帯電低下は高温布？ｊｉ環境下では常温常湿環境下に比
べて著しく悪化している。それに対して、実施例１およ
び２の感光体の帯電低下は高温高湿環境下でもあまり悪
化せず、低下量は９０Ｖ以下である。実機の現像バイア
ス（現像ローラからトナーが感光体に飛び出す電圧）と
の関係から、帯電低下量を１００ｖ以下に抑えれば画像
に地かぶりが発生しないので、実施例１および実施例２
の感光体は、高温高湿環境下においても、電子写真装置
に帯電の均一性を確保する手段を具備させることなしに
、実用上問題なく使用できることになる。
帯電低下は高温布？ｊｉ環境下では常温常湿環境下に比
べて著しく悪化している。それに対して、実施例１およ
び２の感光体の帯電低下は高温高湿環境下でもあまり悪
化せず、低下量は９０Ｖ以下である。実機の現像バイア
ス（現像ローラからトナーが感光体に飛び出す電圧）と
の関係から、帯電低下量を１００ｖ以下に抑えれば画像
に地かぶりが発生しないので、実施例１および実施例２
の感光体は、高温高湿環境下においても、電子写真装置
に帯電の均一性を確保する手段を具備させることなしに
、実用上問題なく使用できることになる。
第２図より、高温高湿環境下における帯電低下量を１０
０ｖ以下に抑えるためには基体加熱温度を２５０℃以上
とすればよいことが判る。一方、基体の材料はアルミニ
ウム合金であり、３００℃を超える高温に加熱すると基
体が軟化するという問題が生じる。従って、基体加熱温
度は２５０℃以上３００℃以下の範囲内が好適であり、
２９０℃以上３００℃以下の範囲が最適である。
０ｖ以下に抑えるためには基体加熱温度を２５０℃以上
とすればよいことが判る。一方、基体の材料はアルミニ
ウム合金であり、３００℃を超える高温に加熱すると基
体が軟化するという問題が生じる。従って、基体加熱温
度は２５０℃以上３００℃以下の範囲内が好適であり、
２９０℃以上３００℃以下の範囲が最適である。
また、これら実施例および比較例の感光体の電子注入抑
制層のアルミニウム酸化度（Ａｌ ｏｘ１ｄｅ／＾１
ｍｅｔａｌｌ） をＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）で
調べ、アルミニウム酸化度と基体加熱温度との関係を求
めた。その結果を第３図の線図に示す。第３図より、基
体加熱温度２５０℃以上３００℃以下の場合、アルミニ
ウム酸化度はほぼ１．８以上１．９以下の範囲内にあり
、電子注入抑制層の推定膜厚は１０Å以上１５Ａ以下の
範囲内であることが判った。
制層のアルミニウム酸化度（Ａｌ ｏｘ１ｄｅ／＾１
ｍｅｔａｌｌ） をＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）で
調べ、アルミニウム酸化度と基体加熱温度との関係を求
めた。その結果を第３図の線図に示す。第３図より、基
体加熱温度２５０℃以上３００℃以下の場合、アルミニ
ウム酸化度はほぼ１．８以上１．９以下の範囲内にあり
、電子注入抑制層の推定膜厚は１０Å以上１５Ａ以下の
範囲内であることが判った。
この発明によれば、アルミニウムを主成分とする基体を
２５０℃以上３００℃以下の範囲内の温度に加熱してＡ
ｌ ２Ｏ ａ膜からなる電子注入抑制層を形成したのち
、この上に電荷輸送層、電荷発生層１表面保護層を順次
形成して感光体とする。
２５０℃以上３００℃以下の範囲内の温度に加熱してＡ
ｌ ２Ｏ ａ膜からなる電子注入抑制層を形成したのち
、この上に電荷輸送層、電荷発生層１表面保護層を順次
形成して感光体とする。
このような電子注入抑制層を備えた感光体は、帯電低下
が少なく、高温高湿環境下においても帯電低下量が１０
０Ｖ以下と実用上充分使用可能なレベルにおさまる。従
って、電子写真装置に、感光体の帯電を均一に保持し良
好な画質の画像を得るために、スコロトロンを用いたり
、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設ける必要
性はなくなり、装置が簡単となり、価格も安くなる利点
が得られる。
が少なく、高温高湿環境下においても帯電低下量が１０
０Ｖ以下と実用上充分使用可能なレベルにおさまる。従
って、電子写真装置に、感光体の帯電を均一に保持し良
好な画質の画像を得るために、スコロトロンを用いたり
、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設ける必要
性はなくなり、装置が簡単となり、価格も安くなる利点
が得られる。
第１図はこの発明の感光体の一実施例を示す模式的断面
図、第２図は帯電低下量と基体加熱温度との関係を示す
線図、第３図はアルミニウム酸化度と基体加熱温度との
関係を示す線図。 １０１ 基体、１０２ 電子注入抑制層、１０３
電荷輸送層、１０４ 電荷発生層、１０５ 表面
保護層。 第１図 基体加熱温度（”Ｃ） 第２図
図、第２図は帯電低下量と基体加熱温度との関係を示す
線図、第３図はアルミニウム酸化度と基体加熱温度との
関係を示す線図。 １０１ 基体、１０２ 電子注入抑制層、１０３
電荷輸送層、１０４ 電荷発生層、１０５ 表面
保護層。 第１図 基体加熱温度（”Ｃ） 第２図
Claims (1)
- １）アルミニウムを主成分とする材料からなる基体上に
電荷輸送層、電荷発生層、表面保護層が順次形成されて
なる電子写真用感光体の製造方法において、前記基体を
２５０℃以上３００℃以下の範囲内の温度に加熱するこ
とにより、この基体上にＡｌ＿２Ｏ＿３膜からなる電子
注入抑制層を形成し、この電子注入抑制層上に前記各層
が形成されることを特徴とする電子写真用感光体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096674A JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096674A JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275467A true JPH02275467A (ja) | 1990-11-09 |
| JP2629348B2 JP2629348B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=14171347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1096674A Expired - Fee Related JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2629348B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004124A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729051A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | Pretreatment of substrate of electrophotographic receptor |
| JPS60174863A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS6479755A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Furukawa Aluminium | Drum of photosensitive body for laser beam printer and manufacture of same |
-
1989
- 1989-04-17 JP JP1096674A patent/JP2629348B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729051A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | Pretreatment of substrate of electrophotographic receptor |
| JPS60174863A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS6479755A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Furukawa Aluminium | Drum of photosensitive body for laser beam printer and manufacture of same |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004124A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2629348B2 (ja) | 1997-07-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |