JP2629348B2 - 電子写真用感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体の製造方法Info
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- JP2629348B2 JP2629348B2 JP1096674A JP9667489A JP2629348B2 JP 2629348 B2 JP2629348 B2 JP 2629348B2 JP 1096674 A JP1096674 A JP 1096674A JP 9667489 A JP9667489 A JP 9667489A JP 2629348 B2 JP2629348 B2 JP 2629348B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、発光ダイオード，半導体レーザダイオー
ド，ガスレーザなどを光源とし、630nm〜800nmの長波長
光を書き込み光に用いる電子写真方式の複写機あるいは
プリンタに用いられる電子写真用感光体の製造方法に関
する。
ド，ガスレーザなどを光源とし、630nm〜800nmの長波長
光を書き込み光に用いる電子写真方式の複写機あるいは
プリンタに用いられる電子写真用感光体の製造方法に関
する。
電子写真方式の複写機およびプリンタでは感光体表面
には静電潜像を形成する書き込み光として、波長630nm
〜800nmという長波長光が使われており、そのような電
子写真装置においては、前述のような長波長光域でも感
度を持つ電荷発生層を有し、電荷発生層で発生したキャ
リアを輸送する電荷輸送層および電荷発生層を外部スト
レスから保護する表面保護層から構成されている機能分
離型の感光体が一般に使われている。
には静電潜像を形成する書き込み光として、波長630nm
〜800nmという長波長光が使われており、そのような電
子写真装置においては、前述のような長波長光域でも感
度を持つ電荷発生層を有し、電荷発生層で発生したキャ
リアを輸送する電荷輸送層および電荷発生層を外部スト
レスから保護する表面保護層から構成されている機能分
離型の感光体が一般に使われている。
ところが、上述の従来の感光体においては、高温高湿
環境下において帯電低下が著しく、悪化し、画像上、正
規現像方式の電子写真装置では濃度低下（または白抜
け）、また、反転現像方式の電子写真装置では地かぶり
（または画像ボケ）などの障害が発生してしまう。これ
らに対処するために、装置に帯電補償あるいはサイクル
補償回路などを設け温度により変動する帯電低下の補正
を行う必要があり、ほとんどの装置メーカーでは上述し
た回路を設けたり、あるいはスコロトロンを用いること
により帯電の均一性を確保しているのが現状であるが、
これらの回路は一般に高価であり、装置が高価となる欠
点があった。
環境下において帯電低下が著しく、悪化し、画像上、正
規現像方式の電子写真装置では濃度低下（または白抜
け）、また、反転現像方式の電子写真装置では地かぶり
（または画像ボケ）などの障害が発生してしまう。これ
らに対処するために、装置に帯電補償あるいはサイクル
補償回路などを設け温度により変動する帯電低下の補正
を行う必要があり、ほとんどの装置メーカーでは上述し
た回路を設けたり、あるいはスコロトロンを用いること
により帯電の均一性を確保しているのが現状であるが、
これらの回路は一般に高価であり、装置が高価となる欠
点があった。
この発明は、上述の課題を解決して、電子写真装置に
上述のような帯電の均一性を確保するための手段を具備
させることを必要としないレベルにまで、帯電低下が少
なくなるように改善された感光体を提供することを目的
とする。
上述のような帯電の均一性を確保するための手段を具備
させることを必要としないレベルにまで、帯電低下が少
なくなるように改善された感光体を提供することを目的
とする。
上記の課題は、この発明によれば、アルミニウムを主
成分とする材料からなる基体上に電荷輸送層，電荷発生
層，表面保護層が順次形成されてなる電子写真用感光体
の製造方法において、アルミニウム酸化度（Ｘ線光電子
分光法で、基体表面からのアルミニウム酸化物とアルミ
ニウム金属の強度比）が1.8ないし1.9で膜厚が10ないし
15Åとなるように前記基体を250℃以上300℃以下の範囲
内の温度に加熱し、この基体上にAl2O3膜からなる電子
注入抑制層を形成し、この電子注入抑制層上に前記各層
を形成することによって解決される。
成分とする材料からなる基体上に電荷輸送層，電荷発生
層，表面保護層が順次形成されてなる電子写真用感光体
の製造方法において、アルミニウム酸化度（Ｘ線光電子
分光法で、基体表面からのアルミニウム酸化物とアルミ
ニウム金属の強度比）が1.8ないし1.9で膜厚が10ないし
15Åとなるように前記基体を250℃以上300℃以下の範囲
内の温度に加熱し、この基体上にAl2O3膜からなる電子
注入抑制層を形成し、この電子注入抑制層上に前記各層
を形成することによって解決される。
上述の加熱処理により基体上に形成され、かつ、基体
と電荷輸送層との間に介在するAl2O3膜からなる電子注
入抑制層は、基体から電荷輸送層への電子の注入を抑制
（バリア層の役目を果たす）し、感光体の帯電低下量を
高温高湿環境下においても実用上問題とならない量にま
で低減する。従って、電子写真装置にスコロトロンを用
いたり、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設け
たりする必要性はなくなる。
と電荷輸送層との間に介在するAl2O3膜からなる電子注
入抑制層は、基体から電荷輸送層への電子の注入を抑制
（バリア層の役目を果たす）し、感光体の帯電低下量を
高温高湿環境下においても実用上問題とならない量にま
で低減する。従って、電子写真装置にスコロトロンを用
いたり、帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設け
たりする必要性はなくなる。
第１図は、この発明の感光体の一実施例を示す模式的
断面図であり、アリミニウム合金からなる基体101上にA
l2O3からなる電子注入抑制層102が基体の加熱により形
成されており、その上に電荷輸送層103,電荷発生層104,
表面保護層105が順次形成されている。
断面図であり、アリミニウム合金からなる基体101上にA
l2O3からなる電子注入抑制層102が基体の加熱により形
成されており、その上に電荷輸送層103,電荷発生層104,
表面保護層105が順次形成されている。
実施例１ 所要の加工および洗浄を施されたアルミニウム合金か
らなる円筒状の基体101を250℃で30分間加熱処理して電
子注入抑制層102を形成し、常温常湿の無塵室内に一昼
夜放置した後、電荷輸送層103として蒸着法で純Seを約5
0μｍ成膜し、続いて、フラッシュ蒸着法で電荷発生層1
04としてTeを46重量％含有するSe・Te合金を約0.1μｍ
成膜し、その上に同じくフラッシュ蒸着法で表面保護層
105としてAsを４重量％含有するSe・As合金を約２μｍ
成膜して感光体とした。
らなる円筒状の基体101を250℃で30分間加熱処理して電
子注入抑制層102を形成し、常温常湿の無塵室内に一昼
夜放置した後、電荷輸送層103として蒸着法で純Seを約5
0μｍ成膜し、続いて、フラッシュ蒸着法で電荷発生層1
04としてTeを46重量％含有するSe・Te合金を約0.1μｍ
成膜し、その上に同じくフラッシュ蒸着法で表面保護層
105としてAsを４重量％含有するSe・As合金を約２μｍ
成膜して感光体とした。
実施例２ 実施例１において、基体の加熱処理温度を250℃から3
00℃に変え、その他は実施例１と同様にして感光体を作
製した。
00℃に変え、その他は実施例１と同様にして感光体を作
製した。
比較例 実施例１において、基体の加熱処理温度を250℃から
従来の150℃に変え、その他は実施例１と同様にして比
較例の感光体を作製した。
従来の150℃に変え、その他は実施例１と同様にして比
較例の感光体を作製した。
これらの実施例および比較例の各感光体について、実
機（カラー複写機）で、常温常湿（温度25℃，相対湿度
50％）および高温高湿（温度35℃，相対湿度85％）環境
下において、250枚通紙しながら現像部の電位を測定し
帯電低下量を調べた。それらの測定値より求めた帯電低
下量と基体加熱温度との関係を第２図の線図に示す。第
２図において、○印は実施例1,△印は実施例2,●印は比
較例それぞれの測定値をプロットしたものであり、ま
た、実線は高温高湿環境下，点線は常温常湿環境下の関
係を示すものである。
機（カラー複写機）で、常温常湿（温度25℃，相対湿度
50％）および高温高湿（温度35℃，相対湿度85％）環境
下において、250枚通紙しながら現像部の電位を測定し
帯電低下量を調べた。それらの測定値より求めた帯電低
下量と基体加熱温度との関係を第２図の線図に示す。第
２図において、○印は実施例1,△印は実施例2,●印は比
較例それぞれの測定値をプロットしたものであり、ま
た、実線は高温高湿環境下，点線は常温常湿環境下の関
係を示すものである。
第２図より、帯電低下は基体加熱温度が高くなるにつ
れて低下量が減少し良くなることが判る。また、常温常
湿環境下では全体的に帯電低下量は小さく、基体加熱温
度が変わることによる変動も少ないが、高温高湿環境下
では帯電低下量は大きく、しかも、基体加熱温度の変化
により大幅に変動することが示されている。
れて低下量が減少し良くなることが判る。また、常温常
湿環境下では全体的に帯電低下量は小さく、基体加熱温
度が変わることによる変動も少ないが、高温高湿環境下
では帯電低下量は大きく、しかも、基体加熱温度の変化
により大幅に変動することが示されている。
第２図に見られるとおり、比較例の感光体（従来品）
の帯電低下は高温高湿環境下では常温常湿環境下に比べ
て著しく悪化している。それに対して、実施例１および
２の感光体の帯電低下は高温高湿環境下でもあまり悪化
せず、低下量は90V以下である。実機の現像バイアス
（現像ローラからトナーが感光体に飛び出す電圧）との
関係から、帯電低下量を100V以下に抑えれば画像に地か
ぶり発生しないので、実施例１および実施例２の感光体
は、高温高湿環境下においても、電子写真装置に帯電の
均一性を確保する手段を具備させることなしに、実用上
問題なく使用できることになる。
の帯電低下は高温高湿環境下では常温常湿環境下に比べ
て著しく悪化している。それに対して、実施例１および
２の感光体の帯電低下は高温高湿環境下でもあまり悪化
せず、低下量は90V以下である。実機の現像バイアス
（現像ローラからトナーが感光体に飛び出す電圧）との
関係から、帯電低下量を100V以下に抑えれば画像に地か
ぶり発生しないので、実施例１および実施例２の感光体
は、高温高湿環境下においても、電子写真装置に帯電の
均一性を確保する手段を具備させることなしに、実用上
問題なく使用できることになる。
第２図より、高温高湿環境下における帯電低下量を10
0V以下に抑えるためには基体加熱温度を250℃以上とす
ればよいことが判る。一方、基体の材料はアルミニウム
合金であり、300℃を超える高温に加熱すると基体が軟
化するという問題が生じる。従って、基体加熱温度は25
0℃以上300℃以下の範囲内が好適であり、290℃以上300
℃以下の範囲が最適である。
0V以下に抑えるためには基体加熱温度を250℃以上とす
ればよいことが判る。一方、基体の材料はアルミニウム
合金であり、300℃を超える高温に加熱すると基体が軟
化するという問題が生じる。従って、基体加熱温度は25
0℃以上300℃以下の範囲内が好適であり、290℃以上300
℃以下の範囲が最適である。
また、これら実施例および比較例の感光体の電子注入
抑制層のアルミニウム酸化度（Al oxide/Al metall）を
Ｘ線光電子分光法（ESCA）で調べ、アルミニウム酸化度
と基体加熱温度との関係を求めた。その結果を第３図の
線図に示す。第３図より、基体加熱温度250℃以上300℃
以下の場合、アルミニウム酸化度はほぼ1.8以上1.9以下
の範囲内にあり、電子注入抑制層の推定膜厚は10Å以上
15Å以下の範囲内であることが判った。
抑制層のアルミニウム酸化度（Al oxide/Al metall）を
Ｘ線光電子分光法（ESCA）で調べ、アルミニウム酸化度
と基体加熱温度との関係を求めた。その結果を第３図の
線図に示す。第３図より、基体加熱温度250℃以上300℃
以下の場合、アルミニウム酸化度はほぼ1.8以上1.9以下
の範囲内にあり、電子注入抑制層の推定膜厚は10Å以上
15Å以下の範囲内であることが判った。
この発明によれば、アルミニウムを主成分とする基体
を250℃以上300℃以下の範囲内の温度に加熱してAl2O3
膜からなる電子注入抑制層を形成したのち、この上に電
荷輸送層，電荷発生層，表面保護層を順次形成して感光
体とする。
を250℃以上300℃以下の範囲内の温度に加熱してAl2O3
膜からなる電子注入抑制層を形成したのち、この上に電
荷輸送層，電荷発生層，表面保護層を順次形成して感光
体とする。
このような電子注入抑制層を備えた感光体は、帯電低
下が少なく、高温高湿環境下においても帯電低下量が10
0V以下と実用上充分使用可能なレベルにおさめる。従っ
て、電子写真装置に、感光体の帯電を均一に保持し良好
な画質の画像を得るために、スコロトロンを用いたり、
帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設ける必要性
はなくなり、装置が簡単となり、価格も安くなる利点が
得られる。
下が少なく、高温高湿環境下においても帯電低下量が10
0V以下と実用上充分使用可能なレベルにおさめる。従っ
て、電子写真装置に、感光体の帯電を均一に保持し良好
な画質の画像を得るために、スコロトロンを用いたり、
帯電補償回路あるいはサイクル補償回路を設ける必要性
はなくなり、装置が簡単となり、価格も安くなる利点が
得られる。
第１図はこの発明の感光体の一実施例を示す模式的断面
図、第２図は帯電低下量と基体加熱温度との関係を示す
線図、第３図はアルミニウム酸化度と基体加熱温度との
関係を示す線図。 101……基体、102……電子注入抑制層、103……電荷輸
送層、104……電荷発生層、105……表面保護層。
図、第２図は帯電低下量と基体加熱温度との関係を示す
線図、第３図はアルミニウム酸化度と基体加熱温度との
関係を示す線図。 101……基体、102……電子注入抑制層、103……電荷輸
送層、104……電荷発生層、105……表面保護層。
Claims (1)
- 【請求項１】アルミニウムを主成分とする材料からなる
基体上に電荷輸送層，電荷発生層，表面保護層が順次形
成されてなる電子写真用感光体の製造方法において、ア
ルミニウム酸化度（Ｘ線光電子分光法で、基体表面から
のアルミニウム酸化物とアルミニウム金属の放出電子の
強度比）が1.8ないし1.9で膜厚が10ないし15Åとなるよ
うに前記基体を250℃以上300℃以下の範囲内の温度に加
熱することにより、この基体上にAl2O3膜からなる電子
注入抑制層を形成し、その後この電子注入抑制層上に前
記各層を形成することを特徴とする電子写真用感光体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096674A JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1096674A JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275467A JPH02275467A (ja) | 1990-11-09 |
| JP2629348B2 true JP2629348B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=14171347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1096674A Expired - Fee Related JP2629348B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 電子写真用感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2629348B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6446848B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2019-01-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5729051A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | Pretreatment of substrate of electrophotographic receptor |
| JPS60174863A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
| JPS6479755A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Furukawa Aluminium | Drum of photosensitive body for laser beam printer and manufacture of same |
-
1989
- 1989-04-17 JP JP1096674A patent/JP2629348B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02275467A (ja) | 1990-11-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |