JPS6142663A - 情報記録装置 - Google Patents
情報記録装置Info
- Publication number
- JPS6142663A JPS6142663A JP59164399A JP16439984A JPS6142663A JP S6142663 A JPS6142663 A JP S6142663A JP 59164399 A JP59164399 A JP 59164399A JP 16439984 A JP16439984 A JP 16439984A JP S6142663 A JPS6142663 A JP S6142663A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive body
- photosensitive
- layer
- laser beam
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は被記録情報信号に対応しぞ変調されたレーザー
ビームで電子写真感光体を走査する情報記録装置に関す
る。
ビームで電子写真感光体を走査する情報記録装置に関す
る。
(技術背景)
電子写真の光露光光源としてレーザーを用いた情報記録
装置はすでによく知られている。
装置はすでによく知られている。
光源としてコヒーレントな光であるレーザー光を使用す
ることにより感光体上に非常に小さなスポット径の光照
射を行う事が可能となり、高解像で鮮明な画像記録が可
能となった。
ることにより感光体上に非常に小さなスポット径の光照
射を行う事が可能となり、高解像で鮮明な画像記録が可
能となった。
一方、電子写真に用いられる感光体としては導電体上に
cds、Ss、a−3i (アモルファスシリコン)、
0pc(有機半導体)等の光半導体の感光層をa暦した
ものが用いられる。感光層は一層だけでなるもの、複数
の層からなる複合半導体機部分離型のタイプがある。
cds、Ss、a−3i (アモルファスシリコン)、
0pc(有機半導体)等の光半導体の感光層をa暦した
ものが用いられる。感光層は一層だけでなるもの、複数
の層からなる複合半導体機部分離型のタイプがある。
また、必要に応じて表面に保護層、絶縁層等を有した感
光体もある。
光体もある。
これらの感光体はくり返し使用される為にドラム状、ベ
ルト状の形体で用いられ、いずれの形状の場合も感光層
は均一な膜厚になる様に製造がなされているが、実際に
t4電位等のム゛うが実用的な範囲内で問題にならない
程度に膜厚の場所による差は有しているものである。
ルト状の形体で用いられ、いずれの形状の場合も感光層
は均一な膜厚になる様に製造がなされているが、実際に
t4電位等のム゛うが実用的な範囲内で問題にならない
程度に膜厚の場所による差は有しているものである。
膜厚ムラを有する感光体でも、通常の複写機等で用いら
れる光源、例えば蛍光灯、ハロゲンランプ等のコヒーレ
ントでない光で露光している場合には、m厚ムラによる
干渉パターンが静電像として発生するといった問題は生
じない。
れる光源、例えば蛍光灯、ハロゲンランプ等のコヒーレ
ントでない光で露光している場合には、m厚ムラによる
干渉パターンが静電像として発生するといった問題は生
じない。
しかし、光源としてコヒーレントな光であるレーザー光
を用いた場合には、レーザー光は干渉を生じ、感光層の
膜圧ムラにより感光層内での縞状の光強度パターンを生
じてしまう、(以下膜厚ムラによる干渉パターンを干渉
縞と呼ス;ことにする。) 従って干渉縞が生じない様にする為のレーザー記録の感
光体の製造には、高いレベルの技術が要求される。
を用いた場合には、レーザー光は干渉を生じ、感光層の
膜圧ムラにより感光層内での縞状の光強度パターンを生
じてしまう、(以下膜厚ムラによる干渉パターンを干渉
縞と呼ス;ことにする。) 従って干渉縞が生じない様にする為のレーザー記録の感
光体の製造には、高いレベルの技術が要求される。
第3図を用いて従来のレーザー記録に於ける干渉縞発生
理由について述べる。
理由について述べる。
第1図に於て実線の矢印で示され−るレーザービーム1
は有機感光体2に照射される。ここで説明する感光体2
は導電性基板3上に、電荷発生層としての有機光半導体
(以下CG層と呼ぶ)4を重ね、更にその上に電荷移動
層とじての有機光半導体(以下07層と呼ぶ)5を積層
したタイプの感光体である。
は有機感光体2に照射される。ここで説明する感光体2
は導電性基板3上に、電荷発生層としての有機光半導体
(以下CG層と呼ぶ)4を重ね、更にその上に電荷移動
層とじての有機光半導体(以下07層と呼ぶ)5を積層
したタイプの感光体である。
感光体2に入射したレーザービーム1は。
07層5.CG暦4によって吸収されながら感光層を進
行するが、一部は吸収されないで導電体基板表面3に達
する0通常導電体基板は表面を鏡面状に仕上げられてい
る。その為導電体基板3に達したレーザービームは反射
される。またCT層4と00層5間の屈折率が異なる場
合には、その境界面でレーザー光の一部が反射される。
行するが、一部は吸収されないで導電体基板表面3に達
する0通常導電体基板は表面を鏡面状に仕上げられてい
る。その為導電体基板3に達したレーザービームは反射
される。またCT層4と00層5間の屈折率が異なる場
合には、その境界面でレーザー光の一部が反射される。
これらレーザー光の直進光と反射光とが干渉することに
なる。
なる。
レーザービームの光は記録光として用いられる時には感
光体に対しX−Y両方向に走査される。従ってもし感光
体2に膜厚のムラ、があるとレーザー光の直進光と反射
光とが干渉し合い膜厚の等高線と同様な光強度の縞、所
謂干渉縞を生じることになる。
光体に対しX−Y両方向に走査される。従ってもし感光
体2に膜厚のムラ、があるとレーザー光の直進光と反射
光とが干渉し合い膜厚の等高線と同様な光強度の縞、所
謂干渉縞を生じることになる。
感光体2の半導体層(感光層)が層内℃のビーム吸収が
充分であれば干渉縞は生じない。
充分であれば干渉縞は生じない。
すなわち膜厚が厚い程干渉縞が生じ難い傾向になる。し
かじ製膜の経済性を考えると感光体の膜厚を厚くするに
も限界がある。特に、硅素を主成分とした非晶質半導体
感光体、所謂アモルファスシリコン感光体の場合には、
その製膜時間がかかることからコスト的に膜厚限界を有
し、20ル程度の膜厚とされるのが普通である。
かじ製膜の経済性を考えると感光体の膜厚を厚くするに
も限界がある。特に、硅素を主成分とした非晶質半導体
感光体、所謂アモルファスシリコン感光体の場合には、
その製膜時間がかかることからコスト的に膜厚限界を有
し、20ル程度の膜厚とされるのが普通である。
しかし、前記導電体の表面、即ち感光層を積層する側の
面に荒し処理を施し、この面を粗面として到達したレー
ザー光を散乱するようにすると、感光層が薄くても前記
干渉縞防止に効果のあることが見いだされた。しかし、
表面粗さの程度によっては前記干渉縞が消失する一方で
、レーザー走査と表面粗さのピッチが干渉し合い、新た
な周期的モアレパターン(以下モアレ縞と呼ぶことにす
る)が発生することが判明した。
面に荒し処理を施し、この面を粗面として到達したレー
ザー光を散乱するようにすると、感光層が薄くても前記
干渉縞防止に効果のあることが見いだされた。しかし、
表面粗さの程度によっては前記干渉縞が消失する一方で
、レーザー走査と表面粗さのピッチが干渉し合い、新た
な周期的モアレパターン(以下モアレ縞と呼ぶことにす
る)が発生することが判明した。
(目的と構成概要)
本発明は上記欠点、すなわちレーザービームを感光体に
走査露光して記録画像を得る記録装置に於ける感光層の
膜厚ムラによる干渉縞を防ぐと、ともに、走査露光によ
って生じるモアレを防止することを目的としている。
走査露光して記録画像を得る記録装置に於ける感光層の
膜厚ムラによる干渉縞を防ぐと、ともに、走査露光によ
って生じるモアレを防止することを目的としている。
すなわち、光強度分布のl / e 2値で規定される
ビームの径を感光体面でDとするときに1.1<D/l
<100 を満足する粗さピッチ文で感光体導伝性基板を粗した感
光体を用いることにより、干渉縞もモアレパターンも抑
制する。
ビームの径を感光体面でDとするときに1.1<D/l
<100 を満足する粗さピッチ文で感光体導伝性基板を粗した感
光体を用いることにより、干渉縞もモアレパターンも抑
制する。
(実施例)
第2図は本発明を実施したレーザービームプリンタの装
置全体を説明する図である。第2図に於て、半導体レー
ザー11は原稿読取装置やコンビ五−夕からの被記録情
報信号により変調出力され、回転多面鏡12により掃引
される。
置全体を説明する図である。第2図に於て、半導体レー
ザー11は原稿読取装置やコンビ五−夕からの被記録情
報信号により変調出力され、回転多面鏡12により掃引
される。
レーザービーム13はf−〇特性を有する〜像レンズ1
4により矢印方向に回転する電子写真感光体16に結像
される。尚15はビーム光路を折り曲げる為のミラーで
ある。感光体16はコロナ帯電器17により表面を均一
に帯電された後;レーザービーム13により感光体回転
軸と略平行な方向に走査露光を受け、静電荷潜像を形成
する。(レーザービーム13の感光体面での直径を、光
強度分布の1/e2値でDとする。)さらに感光体16
は現像器18の作用を受け、トナー像を表面に形成され
る。転写紙カセット19から給紙ローラ20、レジスト
ローラ対21で給紙される転写紙上にトナー像は転写帯
電器22により転写された後、分離帯電器23で転写紙
は感光体16から分離される。転写紙はさらに搬送ベル
ト24で定着器25まで搬送されてトナー像が°定着さ
れ、排紙トレイ26に排紙される。−力感光体16上の
残存トナーはクリーナ27で清掃され、繰り返し使用さ
れる。
4により矢印方向に回転する電子写真感光体16に結像
される。尚15はビーム光路を折り曲げる為のミラーで
ある。感光体16はコロナ帯電器17により表面を均一
に帯電された後;レーザービーム13により感光体回転
軸と略平行な方向に走査露光を受け、静電荷潜像を形成
する。(レーザービーム13の感光体面での直径を、光
強度分布の1/e2値でDとする。)さらに感光体16
は現像器18の作用を受け、トナー像を表面に形成され
る。転写紙カセット19から給紙ローラ20、レジスト
ローラ対21で給紙される転写紙上にトナー像は転写帯
電器22により転写された後、分離帯電器23で転写紙
は感光体16から分離される。転写紙はさらに搬送ベル
ト24で定着器25まで搬送されてトナー像が°定着さ
れ、排紙トレイ26に排紙される。−力感光体16上の
残存トナーはクリーナ27で清掃され、繰り返し使用さ
れる。
第1図は第2図装置に使用した感光体の説明図である。
第1図で、感光体16−は導電体(例えばアルミニウム
)の基板6に光導電性感光層7を積層したものである。
)の基板6に光導電性感光層7を積層したものである。
感光層7としてはアモルファスシリコンを利用できる。
この場合アモルファスシリコン感光体の層構成態様とし
ては、アルミニウム基板上に必要に応じて高抵抗ブロッ
キング層を設け、この上にシランガス等の活性水素の存
在までグロー放電法、スパッタ法等によりa −S t
層を設けることが出来る。又、ブロッキング層をa−
3i上設けて良いのは勿論である。
ては、アルミニウム基板上に必要に応じて高抵抗ブロッ
キング層を設け、この上にシランガス等の活性水素の存
在までグロー放電法、スパッタ法等によりa −S t
層を設けることが出来る。又、ブロッキング層をa−
3i上設けて良いのは勿論である。
又、さらに、上記a−3iWが例えばアルミニウム、イ
ンジウム、ガリウム、砒素等の周期律表第■族元素によ
りドープされたP型a−Si層や、例えば燐、砒素、ア
ンチモン等の周期律表第V族元素がドープされたN型a
−Si層を含むものであってもよい、又、a−5t層の
上層に耐久性向上の為に保護層を設けることが出来る。
ンジウム、ガリウム、砒素等の周期律表第■族元素によ
りドープされたP型a−Si層や、例えば燐、砒素、ア
ンチモン等の周期律表第V族元素がドープされたN型a
−Si層を含むものであってもよい、又、a−5t層の
上層に耐久性向上の為に保護層を設けることが出来る。
感光層は色素増感された酸化亜鉛、セレン粉体、ポルビ
ニルカルバゾール、フタロシアニ、ン顔料、オキシサジ
アゾール顔料等を必要に応じて結着剤樹脂と共に塗布形
成した感光体であっても構わない、又、接着性向上、塗
工性向上、基体保護、基体欠陥被覆等の為に必要に応じ
て導電層と感光層との間に下引き層を設けられる。
ニルカルバゾール、フタロシアニ、ン顔料、オキシサジ
アゾール顔料等を必要に応じて結着剤樹脂と共に塗布形
成した感光体であっても構わない、又、接着性向上、塗
工性向上、基体保護、基体欠陥被覆等の為に必要に応じ
て導電層と感光層との間に下引き層を設けられる。
而して、基板6の感光層7が積層される側の面6′には
、この積層前に予め荒し処理が施されている。この荒し
処理法としては切削、エツチング等、通常金属表面の荒
し処理に使用される方法はいずれのものでも採用できる
。
、この積層前に予め荒し処理が施されている。この荒し
処理法としては切削、エツチング等、通常金属表面の荒
し処理に使用される方法はいずれのものでも採用できる
。
そして、このようにして形成された粗面の平均粗さピッ
チを又とすると、D/iが0.5よりも小さいと粗さピ
ッチが大き過ぎて、感光層の膜厚ムラが殆どそのまま前
記干渉縞として発生するようになる。又D/l>100
になるに従って導電体基板はレーザー光に対し殆ど鏡面
となる為に散乱の効果が無くなって゛しまう為、膜厚ム
ラによる干渉縞コントラストが大きくなる。
チを又とすると、D/iが0.5よりも小さいと粗さピ
ッチが大き過ぎて、感光層の膜厚ムラが殆どそのまま前
記干渉縞として発生するようになる。又D/l>100
になるに従って導電体基板はレーザー光に対し殆ど鏡面
となる為に散乱の効果が無くなって゛しまう為、膜厚ム
ラによる干渉縞コントラストが大きくなる。
一方、D/f1.が1.1よりも小さいと、前記モアレ
縞のフントラストが大きくなる。
縞のフントラストが大きくなる。
そこで1.1<D/fL<Zooの条件を満たすように
導電体基板の表面を荒すと、前記干渉縞もモアレ縞も十
分に抑制された良質の記録画像を得ることができる。
導電体基板の表面を荒すと、前記干渉縞もモアレ縞も十
分に抑制された良質の記録画像を得ることができる。
尚、導電体基板の粗し方向は感光体回転軸方向でも、回
転周方向でも、あるいは斜方向でも良い。
転周方向でも、あるいは斜方向でも良い。
又、粗しパターンとしては一方向スパイラル、メツシュ
(網目状)、格子、いずれであっても良い。
(網目状)、格子、いずれであっても良い。
又、導電体は別の基板上に積層形成された場合でも実質
的に導電体表面が1.1<D/1<100を満足するよ
うに粗れていれば構わない。
的に導電体表面が1.1<D/1<100を満足するよ
うに粗れていれば構わない。
(効果)
以上本発明を実施する事により、干渉縞を防止できるば
かりでなく、モアレ縞を防止じた記録装置が得られるよ
うになった。とりわけ感光体の製造上困難であった薄膜
の均一性によ、る歩留まりも飛躍的に向上した。囚って
、得られる感光体も低コストとなりランニングコストの
低下も可能となった。
かりでなく、モアレ縞を防止じた記録装置が得られるよ
うになった。とりわけ感光体の製造上困難であった薄膜
の均一性によ、る歩留まりも飛躍的に向上した。囚って
、得られる感光体も低コストとなりランニングコストの
低下も可能となった。
第1図は本発明の実施例の要部、第2図は本発明の実施
例、第3図は従来例、を夫々説明する為の図にして、1
1はレーザー、16は電子写真感光体、22は導電体、
23は感光層である。 第1図
例、第3図は従来例、を夫々説明する為の図にして、1
1はレーザー、16は電子写真感光体、22は導電体、
23は感光層である。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 導電体上に感光層を有する電子写真感光体を被記録情報
信号に対応して変調されたレーザービームで走査する情
報記録装置に於いて、 上記電子写真感光体の導電体には、感光体 面でのレーザービームの直径を光強度分布の1/e^2
値でDとすると、1.1<D/l<100を満足する平
均粗さピッチlを有する粗面となるように荒し処理が施
されていることを特徴とする情報記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59164399A JPS6142663A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 情報記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59164399A JPS6142663A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 情報記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6142663A true JPS6142663A (ja) | 1986-03-01 |
Family
ID=15792387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59164399A Pending JPS6142663A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 情報記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6142663A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5166023A (en) * | 1989-05-30 | 1992-11-24 | Fuji Xerox Corporation, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and related method |
US5332643A (en) * | 1988-09-26 | 1994-07-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of wet honing a support for an electrophotographic photoreceptor |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5635979U (ja) * | 1979-08-29 | 1981-04-07 | ||
JPS5975307U (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-22 | 日本プラスト株式会社 | 蛇腹部を有するダクト |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP59164399A patent/JPS6142663A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5635979U (ja) * | 1979-08-29 | 1981-04-07 | ||
JPS5975307U (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-22 | 日本プラスト株式会社 | 蛇腹部を有するダクト |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5332643A (en) * | 1988-09-26 | 1994-07-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of wet honing a support for an electrophotographic photoreceptor |
US5166023A (en) * | 1989-05-30 | 1992-11-24 | Fuji Xerox Corporation, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and related method |
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