JPH02223005A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH02223005A JPH02223005A JP4386689A JP4386689A JPH02223005A JP H02223005 A JPH02223005 A JP H02223005A JP 4386689 A JP4386689 A JP 4386689A JP 4386689 A JP4386689 A JP 4386689A JP H02223005 A JPH02223005 A JP H02223005A
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、厚膜印刷法あるいは薄膜形成法により磁気ヘ
ッドを製造する方法に関する。
ッドを製造する方法に関する。
(従来の技術)
磁気ヘッドを小形化するため、導体膜や絶縁膜あるいは
磁性膜を積層することにより磁気へウドを製造する方法
が提案されている(特開昭50−517113号公報)
、この従来の方法は、コイルを複数巻とするため、コイ
ルの形成工程において、磁性膜の両側の絶縁膜に複数の
穴を設けてその穴に導体を積層することによD、上下の
コイル形成用線状導体膜を接続する部分を形成している
。
磁性膜を積層することにより磁気へウドを製造する方法
が提案されている(特開昭50−517113号公報)
、この従来の方法は、コイルを複数巻とするため、コイ
ルの形成工程において、磁性膜の両側の絶縁膜に複数の
穴を設けてその穴に導体を積層することによD、上下の
コイル形成用線状導体膜を接続する部分を形成している
。
(発明か解決すべき課題)
しかしこの従来の磁気ヘッドの製造方法によれば、コイ
ルを複数巻とするために絶縁膜に設けた穴に導体膜を積
層しなければならないので、巻数を増やす場合、その穴
の断面積が非常に狭くなD、そのため、コイルの抵抗が
大となる。またこのため、コイル巻数および小形化に制
限を受けることになる。また、コイル断線が生しやすく
、歩留りが悪くなる。
ルを複数巻とするために絶縁膜に設けた穴に導体膜を積
層しなければならないので、巻数を増やす場合、その穴
の断面積が非常に狭くなD、そのため、コイルの抵抗が
大となる。またこのため、コイル巻数および小形化に制
限を受けることになる。また、コイル断線が生しやすく
、歩留りが悪くなる。
本発明は、上記の問題点に鑑み、コイルの多数巻が実現
でき、小形化が達成できると共に、歩留りが向上できる
磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
でき、小形化が達成できると共に、歩留りが向上できる
磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
この目的を達成するため、本発明による磁気ヘッドの製
造方法は、巻線部Aと、ギャップGを介して対向する磁
路B、Cと、巻線部Aの両端と前記磁路B、Cとを連絡
する磁路D、Eとからなるコアの前記巻線部Aに、1個
以上の螺旋状コイルLを巻装して構成され、かつ絶縁体
FによりコアとコイルLとを一体に被覆した磁気ヘッド
を、下記の工程によって製造することを特徴とする。
造方法は、巻線部Aと、ギャップGを介して対向する磁
路B、Cと、巻線部Aの両端と前記磁路B、Cとを連絡
する磁路D、Eとからなるコアの前記巻線部Aに、1個
以上の螺旋状コイルLを巻装して構成され、かつ絶縁体
FによりコアとコイルLとを一体に被覆した磁気ヘッド
を、下記の工程によって製造することを特徴とする。
磁路りとその周囲の絶縁体Fをそれぞれ磁性膜と絶縁膜
により形成する工程;巻線部A、 ai路Bを磁性膜に
より形成すると共に、0イルLな、ハーフコイル導体膜
の形成、ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁
膜により被覆することにより形成する工程;前記磁路B
となる磁性膜上に絶縁膜を積層してギャップGを形成す
る工程:巻線部A、磁路Cを磁性膜により形成すると共
に、コイルLを、ハーフコイル導体膜の形成。
により形成する工程;巻線部A、 ai路Bを磁性膜に
より形成すると共に、0イルLな、ハーフコイル導体膜
の形成、ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁
膜により被覆することにより形成する工程;前記磁路B
となる磁性膜上に絶縁膜を積層してギャップGを形成す
る工程:巻線部A、磁路Cを磁性膜により形成すると共
に、コイルLを、ハーフコイル導体膜の形成。
ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜により
被覆することにより形成する工程;磁路Eとその周囲の
絶縁体Fをそれぞれ磁性膜と絶縁膜により形成する工程
。
被覆することにより形成する工程;磁路Eとその周囲の
絶縁体Fをそれぞれ磁性膜と絶縁膜により形成する工程
。
また、本発明は、前記コイルとして、螺旋状コイルのみ
なら、ず、渦巻状コイルを形成する場合も含まれる。
なら、ず、渦巻状コイルを形成する場合も含まれる。
(作用)
本発明の方法によれば、磁性膜の周囲に、ハーフコイル
導体膜と絶縁膜とを、ハーフコイルの一端部を順次接続
しながら積層することにより螺旋状コイルが形成される
。また、前記ハーフコイル導体膜の代わりに、渦巻状コ
イルを形成する場合は、導体膜を1層ごとに形成し、必
要に応じて上下の層のコイルを接続する。
導体膜と絶縁膜とを、ハーフコイルの一端部を順次接続
しながら積層することにより螺旋状コイルが形成される
。また、前記ハーフコイル導体膜の代わりに、渦巻状コ
イルを形成する場合は、導体膜を1層ごとに形成し、必
要に応じて上下の層のコイルを接続する。
(実施例)
第1図は本発明による磁気ヘッドの製造方法の一実施例
を示す工程図であD、符号(1)〜(17)の左横は各
工程において形成される膜を示し、右欄は各工程におい
て形成される内部構造の透視図である。最終工程(17
)において得られる磁気ヘッドは、巻線部Aと、ギャッ
プGを介して対向する磁路B、Cと、巻線部Aの両端と
磁路B、Cとを連絡する磁路D、Eとからなるコアの前
記巻線部Aに、1個以上のコイルLを巻装して構成され
、かつ絶縁体FによりコアとコイルLとを一体に被覆し
てなるものであD、製造工程を以下に説明する。第1図
の(,1)〜(17)において、導体膜には多数の点を
付して示し、絶縁膜あるいは磁性膜の現工程において形
成された部分には斜線を付して示す。
を示す工程図であD、符号(1)〜(17)の左横は各
工程において形成される膜を示し、右欄は各工程におい
て形成される内部構造の透視図である。最終工程(17
)において得られる磁気ヘッドは、巻線部Aと、ギャッ
プGを介して対向する磁路B、Cと、巻線部Aの両端と
磁路B、Cとを連絡する磁路D、Eとからなるコアの前
記巻線部Aに、1個以上のコイルLを巻装して構成され
、かつ絶縁体FによりコアとコイルLとを一体に被覆し
てなるものであD、製造工程を以下に説明する。第1図
の(,1)〜(17)において、導体膜には多数の点を
付して示し、絶縁膜あるいは磁性膜の現工程において形
成された部分には斜線を付して示す。
まず、(1)に示すように1図示しない合板上に厚膜印
刷法、または蒸着、スパッタリンク等の薄膜形成技術に
よD、ガラス等でなる第1の絶縁膜a1と、フェライト
等でなる第1の磁性膜b1(磁路りの部分)を形成する
。なお、厚膜印刷法によりこれらのMat、bl(以下
に記載する膜も同様)を形成する場合は、数回ないし数
千回の膜材料の塗布によって所望の厚さの膜を形成する
。
刷法、または蒸着、スパッタリンク等の薄膜形成技術に
よD、ガラス等でなる第1の絶縁膜a1と、フェライト
等でなる第1の磁性膜b1(磁路りの部分)を形成する
。なお、厚膜印刷法によりこれらのMat、bl(以下
に記載する膜も同様)を形成する場合は、数回ないし数
千回の膜材料の塗布によって所望の厚さの膜を形成する
。
次に(2)に示すように、第1の磁性膜bl上の前端側
(ギャップ形成側)に第2の磁性膜b2(磁路B形成部
分)を形成し、第1の磁性膜bl上の後端側に第3の磁
性膜b3(@線部A形成部分)を形成する。
(ギャップ形成側)に第2の磁性膜b2(磁路B形成部
分)を形成し、第1の磁性膜bl上の後端側に第3の磁
性膜b3(@線部A形成部分)を形成する。
次に(コ)に示すように、第1の絶縁11al上に、
Ag、 Pd、^g−Pd、 Ni、 Cu等の金属で
なる外部接続部分を有するハーフコイル導体11icl
をその一部が第3の磁性膜b3の周囲に一部を巻回する
ように形成する。
Ag、 Pd、^g−Pd、 Ni、 Cu等の金属で
なる外部接続部分を有するハーフコイル導体11icl
をその一部が第3の磁性膜b3の周囲に一部を巻回する
ように形成する。
次に(4)に示すように、前記第2、第3の磁性膜b2
、b3およびハーフコイル導体膜clの内端部を残して
、第1の絶縁膜alの半面を覆うように、第2の絶縁膜
a2を形成する。また、この第2の絶縁膜a2の工程の
後または前に、第2、第3の磁性膜b2、b3をさらに
積層して形成する。
、b3およびハーフコイル導体膜clの内端部を残して
、第1の絶縁膜alの半面を覆うように、第2の絶縁膜
a2を形成する。また、この第2の絶縁膜a2の工程の
後または前に、第2、第3の磁性膜b2、b3をさらに
積層して形成する。
次に(5)に示すように、第3の磁性膜b3の周囲に、
前記ハーフコイル導体膜C1の内端に一端か重なD、か
つ先端が前記第2の絶縁1jj a 2上に到るように
片側ハーフコイル導体膜C2を形成する。
前記ハーフコイル導体膜C1の内端に一端か重なD、か
つ先端が前記第2の絶縁1jj a 2上に到るように
片側ハーフコイル導体膜C2を形成する。
次に(6)に示すように、前記第2、第3の磁性膜b2
.b3および片側ハーフコイル導体膜C2の先端部を残
して、前記第2の絶縁膜a2により覆われない残りの半
面を覆うように、第3の絶縁膜a3を形成する。また、
この第3の絶縁[a3形成工程の後または前に、第2、
第3の磁性膜b2、b3をさらに形成する。
.b3および片側ハーフコイル導体膜C2の先端部を残
して、前記第2の絶縁膜a2により覆われない残りの半
面を覆うように、第3の絶縁膜a3を形成する。また、
この第3の絶縁[a3形成工程の後または前に、第2、
第3の磁性膜b2、b3をさらに形成する。
次に(7)に示すように、第3の磁性膜b3の周囲に5
片側ハーフコイル導体膜c2の先端部に一端が重なD、
かつ先端か前記第3の絶縁膜a3上に到るように他側ハ
ーフコイル導体1IIC3を形成する。
片側ハーフコイル導体膜c2の先端部に一端が重なD、
かつ先端か前記第3の絶縁膜a3上に到るように他側ハ
ーフコイル導体1IIC3を形成する。
次に(8)に示すように、第3の磁性膜b3および前記
他側ハーフコイル導体膜C3の先端部を残して、前記第
3の絶縁膜a3により覆われない残りの半面および第2
の磁性[b2の半面を覆うように、第4の絶縁膜a4を
形成する。
他側ハーフコイル導体膜C3の先端部を残して、前記第
3の絶縁膜a3により覆われない残りの半面および第2
の磁性[b2の半面を覆うように、第4の絶縁膜a4を
形成する。
次に(9)に示すように、第3の磁性膜b3の周囲に、
(8)の工程により形成された他側ハーフコイル導体膜
c3の先端部に一端が重なD、かつ先端が前記第4の絶
縁膜a4上に到るように片側ハーフコイル導体膜c2を
形成する。
(8)の工程により形成された他側ハーフコイル導体膜
c3の先端部に一端が重なD、かつ先端が前記第4の絶
縁膜a4上に到るように片側ハーフコイル導体膜c2を
形成する。
次に(10)に示すように、第3の磁性膜b3および他
側ハーフコイル導体膜C2の先端部を残して、前記第4
の絶縁膜a4により覆われない残りの部分および第2の
磁性[b2の残りの半面を覆うように、第5の絶1&膜
a5を形成することによD、前記第4の絶縁膜a4およ
び第5の絶縁膜a4によりギャップGの半面ずつを形成
する。
側ハーフコイル導体膜C2の先端部を残して、前記第4
の絶縁膜a4により覆われない残りの部分および第2の
磁性[b2の残りの半面を覆うように、第5の絶1&膜
a5を形成することによD、前記第4の絶縁膜a4およ
び第5の絶縁膜a4によりギャップGの半面ずつを形成
する。
なお、(8)の工程で第4の絶縁膜a4により第2の磁
性膜b2の全体を覆うことによってギャップGを形成す
るか、あるいは(10)の工程で第5の絶縁膜a5によ
り第2の磁性膜b2の全体を覆うことによってギャップ
Gを形成するようにしても良く、さらに(8)と(【0
)の工程の双方でギャップ膜を形成するようにしても良
い。
性膜b2の全体を覆うことによってギャップGを形成す
るか、あるいは(10)の工程で第5の絶縁膜a5によ
り第2の磁性膜b2の全体を覆うことによってギャップ
Gを形成するようにしても良く、さらに(8)と(【0
)の工程の双方でギャップ膜を形成するようにしても良
い。
次に(11)に示すように、絶縁膜a4、a5により形
成されたギャップ膜上に、磁路Cとなる第2の磁性膜b
2を形成すると同時に、第3の磁性膜b3上に第3の磁
性膜b3を形成すると共に、他側ハーフコイル導体膜c
3を形成する。
成されたギャップ膜上に、磁路Cとなる第2の磁性膜b
2を形成すると同時に、第3の磁性膜b3上に第3の磁
性膜b3を形成すると共に、他側ハーフコイル導体膜c
3を形成する。
次に(12)〜(14)に示すように、さらに前記同様
に前記ハーフコイル導体膜C2の形成、第2、第3の絶
縁膜a2.a3の形成、第2、第3の磁性膜b2、b3
の形成と行ない、巻線部A、磁路C、コイルLおよび絶
縁体Fを成長させる。
に前記ハーフコイル導体膜C2の形成、第2、第3の絶
縁膜a2.a3の形成、第2、第3の磁性膜b2、b3
の形成と行ない、巻線部A、磁路C、コイルLおよび絶
縁体Fを成長させる。
次に(15)に示すように、外部接続部を有するハーフ
コイル導体膜c4を形成し、(16)に示すように、第
2、第3の磁性II!!b2、b3の形成、その周囲の
絶縁膜a6の形成を行ない2次に(17)に示すように
、磁路Cと巻線部Aとを接続する磁路Eとなる磁性膜b
4と、その周囲の絶縁[a7とを形成する。
コイル導体膜c4を形成し、(16)に示すように、第
2、第3の磁性II!!b2、b3の形成、その周囲の
絶縁膜a6の形成を行ない2次に(17)に示すように
、磁路Cと巻線部Aとを接続する磁路Eとなる磁性膜b
4と、その周囲の絶縁[a7とを形成する。
次に第2図に示すように、前記外部接続部を有するハー
フコイル導体膜c1、c4が外面に露出した部分に端子
となる導体膜Hを形成し、厚膜印刷法による場合は、材
料に応じた温度で焼結することによD、磁気ヘッドが完
成する。
フコイル導体膜c1、c4が外面に露出した部分に端子
となる導体膜Hを形成し、厚膜印刷法による場合は、材
料に応じた温度で焼結することによD、磁気ヘッドが完
成する。
上記の説明は、1つの磁気ヘッドを製造する例について
示したが、製造能率を上げるため、実際には多数の磁気
ヘッドとなる部分を同時に形成し、切断することによD
、同時に複数個の磁気ヘッドを得るのであD、切断ピッ
チを変えることによD、第3図に示すように、例えばス
テレオ用の2個一体型の磁気ヘッド、あるいは第4図に
示すように、2チヤンネルステレオ用の4個一体型の磁
気ヘッドを得ること“ができる、勿論本発明の磁気ヘッ
ドは、音響用のみに用いられるものてはない。
示したが、製造能率を上げるため、実際には多数の磁気
ヘッドとなる部分を同時に形成し、切断することによD
、同時に複数個の磁気ヘッドを得るのであD、切断ピッ
チを変えることによD、第3図に示すように、例えばス
テレオ用の2個一体型の磁気ヘッド、あるいは第4図に
示すように、2チヤンネルステレオ用の4個一体型の磁
気ヘッドを得ること“ができる、勿論本発明の磁気ヘッ
ドは、音響用のみに用いられるものてはない。
また、第1図において、外部接続部を堝するハーフコイ
ル導体111C1,c4として、それぞれ複数個形成す
ることによD、巻線部Aに巻くコイルLとして、1個の
みでなく複数個のコイルを形成することが可能である。
ル導体111C1,c4として、それぞれ複数個形成す
ることによD、巻線部Aに巻くコイルLとして、1個の
みでなく複数個のコイルを形成することが可能である。
185図は本発明の他の実施例であD、コイルとして渦
巻状コイルし1〜L4を形成するものである。
巻状コイルし1〜L4を形成するものである。
第5図において、(1) 、 (2)は第1図の場合と
同様に磁路りの全部と磁路Bおよび巻線部Aの各−iを
形成する工程である。これらの工程の後、(3)に示す
ように、第1の絶縁膜al上に第3の磁性[b3の周囲
に巻回するように渦巻状コイルLlとなるコイル導体)
Iliiを、その外周端部が第1の絶縁膜a1の後辺に
到D、端子Hとの接続が可能となるように形成する。
同様に磁路りの全部と磁路Bおよび巻線部Aの各−iを
形成する工程である。これらの工程の後、(3)に示す
ように、第1の絶縁膜al上に第3の磁性[b3の周囲
に巻回するように渦巻状コイルLlとなるコイル導体)
Iliiを、その外周端部が第1の絶縁膜a1の後辺に
到D、端子Hとの接続が可能となるように形成する。
次に(4)に示すように、前記第2.第3の磁性膜b2
、b3および渦巻状コイル導体膜交lの内端部ないしは
その周囲の窓部分diを残して、第1の絶縁II!1I
alの全面を覆うように、第2の絶縁膜a2を形成する
。また、この第2の絶縁膜a2の工程の後または前に。
、b3および渦巻状コイル導体膜交lの内端部ないしは
その周囲の窓部分diを残して、第1の絶縁II!1I
alの全面を覆うように、第2の絶縁膜a2を形成する
。また、この第2の絶縁膜a2の工程の後または前に。
、第2、第3の磁性膜b2、b3をさらに積層して形成
する。
する。
次に(5)に示すように、第3の磁性膜b3の周囲に、
渦巻状コイル導体g12を、その内端が前記渦巻状コイ
ル導体膜交1の内端に窓部分d1を介して重なD、かつ
、外周端が第2の絶縁膜a2の後辺に到るように形成す
る。
渦巻状コイル導体g12を、その内端が前記渦巻状コイ
ル導体膜交1の内端に窓部分d1を介して重なD、かつ
、外周端が第2の絶縁膜a2の後辺に到るように形成す
る。
次に(6)に示すように、第3の磁性gb3を残して、
第2の磁性膜b2を含む他の全面を覆うように第3の絶
縁膜a3を形成する。この絶縁膜3aの一部がギャップ
Gを形成する膜となる。
第2の磁性膜b2を含む他の全面を覆うように第3の絶
縁膜a3を形成する。この絶縁膜3aの一部がギャップ
Gを形成する膜となる。
次に(7)に示すように、第3の絶縁l!a3により形
成されたギャップ膜上に、磁路Cとなる第2の磁性膜b
2を形成すると同時に、第3の磁性膜b3上に第3の磁
性膜b3をさらに重ねて巻線部Aの形成を進行させる。
成されたギャップ膜上に、磁路Cとなる第2の磁性膜b
2を形成すると同時に、第3の磁性膜b3上に第3の磁
性膜b3をさらに重ねて巻線部Aの形成を進行させる。
次に(8)に示すように、渦巻状コイルL3となる渦巻
状コイル導体膜交3を形成する。
状コイル導体膜交3を形成する。
次に(9)に示すように、前記第2、第3の磁性膜b2
、b3および渦巻状コイル導体膜交2の内端部なりしは
その周囲の窓部分d2を残して、第3の絶縁Jila3
の全面を覆うように、第4の絶縁膜a4を形成す、る、
また、この第4の絶縁膜a4の工程の後または前に、第
2.第3の磁性膜b2、b3をさらに積層して形成する
。
、b3および渦巻状コイル導体膜交2の内端部なりしは
その周囲の窓部分d2を残して、第3の絶縁Jila3
の全面を覆うように、第4の絶縁膜a4を形成す、る、
また、この第4の絶縁膜a4の工程の後または前に、第
2.第3の磁性膜b2、b3をさらに積層して形成する
。
次に(10)に示すように、第3の磁性膜b3の周囲に
、渦巻状コイル導体膜i4を、その内端が前記渦巻状コ
イル導体膜交3の内端に窓部分d2を介して重なD、か
つ、外周端が第4の絶縁膜a4の後辺に到るように形成
する。
、渦巻状コイル導体膜i4を、その内端が前記渦巻状コ
イル導体膜交3の内端に窓部分d2を介して重なD、か
つ、外周端が第4の絶縁膜a4の後辺に到るように形成
する。
次に(li)に示すように、前記第2、第3の磁性膜b
2.・b3をさらに形成すると共に、これらを歿して、
!s4の絶縁[a4の全面を覆うように、第5の絶縁1
1a5を形成する。
2.・b3をさらに形成すると共に、これらを歿して、
!s4の絶縁[a4の全面を覆うように、第5の絶縁1
1a5を形成する。
次に(12)に示すように、磁路Cと巻線部Aとを接続
する磁路Eとなる第4の磁性膜b4と、その周囲のfs
6の絶縁11a6とを形成する。
する磁路Eとなる第4の磁性膜b4と、その周囲のfs
6の絶縁11a6とを形成する。
このような工程を経て、第6図に示すように。
端子Hな各コイル脱党1〜髪4に接続して形成し、焼結
することによD、#Ihの小さな磁気ヘッドを製造する
ことができる。
することによD、#Ihの小さな磁気ヘッドを製造する
ことができる。
(発明の効果)
“請求項1においては、巻線部を形成する磁性膜の周囲
にハーフコイル導体膜と絶縁膜とを交互に形成すること
によって螺旋状コイルを形成するようにしたので、コイ
ルの各部が膜によって形成されることによD、断面積が
確保されると共に、コイル巻数を多くすることができ、
同時に小形化が達成できる。また、コイルか導体膜によ
り形成されるので、断線が生じにくく、歩留りが向上す
る。
にハーフコイル導体膜と絶縁膜とを交互に形成すること
によって螺旋状コイルを形成するようにしたので、コイ
ルの各部が膜によって形成されることによD、断面積が
確保されると共に、コイル巻数を多くすることができ、
同時に小形化が達成できる。また、コイルか導体膜によ
り形成されるので、断線が生じにくく、歩留りが向上す
る。
請求項2においては、コイルを渦巻状に形成したので、
コイル巻数をさらに多くすることができ、さらに小形化
が・達成できる。
コイル巻数をさらに多くすることができ、さらに小形化
が・達成できる。
第1図は本発明による磁気ヘッドの製造方法のの一実施
例を示す工程図、第2図ないし第4図は本発明により製
造される磁気ヘッドを示す斜視図、第5図は本発明の他
の実施例を示す工程図、第6図は該実施例により製造さ
れる磁気ヘッドを示す斜視図である。 A:巻線部、B〜E:磁路、F:絶縁体、G:ギャップ
、H:端子、L:螺旋状コイル、L1〜L4:渦巻状コ
イル、al〜a6:絶縁膜、b1〜b4:磁性膜、C1
〜C4・ハーフコイル導体膜、dl、d2:窓、見1〜
文4:渦巻状コイル導体膜
例を示す工程図、第2図ないし第4図は本発明により製
造される磁気ヘッドを示す斜視図、第5図は本発明の他
の実施例を示す工程図、第6図は該実施例により製造さ
れる磁気ヘッドを示す斜視図である。 A:巻線部、B〜E:磁路、F:絶縁体、G:ギャップ
、H:端子、L:螺旋状コイル、L1〜L4:渦巻状コ
イル、al〜a6:絶縁膜、b1〜b4:磁性膜、C1
〜C4・ハーフコイル導体膜、dl、d2:窓、見1〜
文4:渦巻状コイル導体膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、巻線部Aと、ギャップGを介して対向する磁路B、
Cと、巻線部Aの両端と前記磁路B、Cとを連絡する磁
路D、Eとからなるコアの前記巻線部Aに、1個以上の
コイルLを巻装して構成され、かつ絶縁体Fによりコア
とコイルLとを一体に被覆した磁気ヘッドを、下記の工
程によって製造する磁気ヘッドの製造方法。 磁路Dとその周囲の絶縁体Fをそれぞれ磁性膜と絶縁膜
により形成する工程;巻線部A、磁路Bを磁性膜により
形成すると共に、コイルLを、ハーフコイル導体膜の形
成、ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜に
より被覆することにより形成する工程;前記磁路Bとな
る磁性膜上に絶縁膜を積層してギャップGを形成する工
程;巻線部A、磁路Cを磁性膜により形成すると共に、
コイルLを、ハーフコイル導体膜の形成、ハーフコイル
導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜により被覆すること
により形成する工程;磁路Eとその周囲の絶縁体Fをそ
れぞれ磁性膜と絶縁膜により形成する工程。 2、前記コイルとして、渦巻状コイルを形成する請求項
1記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4386689A JP2633949B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4386689A JP2633949B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02223005A true JPH02223005A (ja) | 1990-09-05 |
JP2633949B2 JP2633949B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=12675622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4386689A Expired - Fee Related JP2633949B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2633949B2 (ja) |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4386689A patent/JP2633949B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2633949B2 (ja) | 1997-07-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |