JP2633949B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、厚膜印刷法あるいは薄膜形成法により磁気
ヘッドを製造する方法に関する。

（従来の技術） 磁気ヘッドを小形化するため、導体膜や絶縁膜あるい
は磁性膜を積層することにより磁気ヘッドを製造する方
法が提案されている（特開昭50−517113号公報）。この
従来の方法は、コイルを複数巻とするため、コイルの形
成工程において、磁性膜の両側の絶縁膜に複数の穴を設
けてその穴に導体を積層することにより、上下のコイル
形成用線状導体膜を接続する部分を形成している。

（発明が解決すべき課題） しかしこの従来の磁気ヘッドの製造方法によれば、コ
イルを複数巻とするために絶縁膜に設けた穴に導体膜を
積層しなければならないので、巻数を増やす場合、その
穴の断面積が非常に狭くなり、そのため、コイルの抵抗
が大となる。またこのため、コイル巻数および小形化に
制限を受けることになる。また、コイル断線が生じやす
く、歩留りが悪くなる。

本発明は、上記の問題点に鑑み、コイルの多数巻が実
現でき、小形化が達成できると共に、歩留りが向上でき
る磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） この目的を達成するため、本発明による磁気ヘッドの
製造方法は、巻線部Ａと、ギャップＧを介して対向する
磁路Ｂ、Ｃと、巻線部Ａの両端と前記磁路Ｂ、Ｃとを連
絡する磁路Ｄ、Ｅとからなるコアの前記巻線部Ａに、１
個以上の螺旋状コイルＬを巻装して構成され、かつ絶縁
体ＦによりコアとコイルＬとを一体に被覆した磁気ヘッ
ドを、下記の工程によって製造することを特徴とする。

磁路Ｄとその周囲の絶縁体Ｆをそれぞれ磁性膜と絶縁
膜により形成する工程；巻線部Ａ、磁路Ｂを磁性膜によ
り形成すると共に、コイルＬを、ハーフコイル導体膜の
形成、ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜
により被覆することにより形成する工程；前記磁路Ｂと
なる磁性膜上に絶縁膜を積層してギャップＧを形成する
工程；巻線部Ａ、磁路Ｃを磁性膜により形成すると共
に、コイルＬを、ハーフコイル導体膜の形成、ハーフコ
イル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜により被覆する
ことにより形成する工程；磁路Ｅとその周囲の絶縁体Ｆ
をそれぞれ磁性膜と絶縁膜により形成する工程。

また、本発明は、前記コイルとして、螺旋状コイルの
みならず、渦巻状コイルを形成する場合も含まれる。

（作用） 本発明の方法によれば、磁性膜の周囲に、ハーフコイ
ル導体膜と絶縁膜とを、ハーフコイルの一端部を順次接
続しながら積層することにより螺旋状コイルが形成され
る。また、前記ハーフコイル導体膜の代わりに、渦巻状
コイルを形成する場合は、導体膜を１層ごとに形成し、
必要に応じて上下の層のコイルを接続する。

（実施例） 第１図は本発明による磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を示す工程図であり、符号（１）〜（17）の左欄は各
工程において形成される膜を示し、右欄は各工程におい
て形成される内部構造の透視図である。最終工程（17）
において得られる磁気ヘッドは、巻線部Ａと、ギャップ
Ｇを介して対向する磁路Ｂ、Ｃと、巻線部Ａの両端と磁
路Ｂ、Ｃとを連絡する磁路Ｄ、Ｅとからなるコアの前記
巻線部Ａに、１個以上のコイルＬを巻装して構成され、
かつ絶縁体ＦによりコアとコイルＬとを一体に被覆して
なるものであり、製造工程を以下に説明する。第１図の
（１）〜（17）において、導体膜には多数の点を付して
示し、絶縁膜あるいは磁性膜の現工程において形成され
た部分には斜線を付して示す。

まず、（１）に示すように、図示しない台板上に厚膜
印刷法、または蒸着、スパッタリング等の薄膜形成技術
により、ガラス等でなる第１の絶縁膜a1と、フェライト
等でなる第１の磁性膜b1（磁路Ｄの部分）を形成する。
なお、厚膜印刷法によりこれらの膜a1、b1（以下に記載
する膜も同様）を形成する場合は、数回ないし数十回の
膜材料の塗布によって所望の厚さの膜を形成する。

次に（２）に示すように、第１の磁性膜b1上の前端側
（ギャップ形成側）に第２の磁性膜b2（磁路Ｂ形成部
分）を形成し、第１の磁性膜b1上の後端側に第３の磁性
膜b3（巻線部Ａ形成部分）を形成する。

次に（３）に示すように、第１の絶縁膜a1上に、Ag、
Pd、Ag−Pd、Ni、Cu等の金属でなる外部接続部分を有す
るハーフコイル導体膜c1をその一部が第３の磁性膜b3の
周囲に一部を巻回するように形成する。

次に（４）に示すように、前記第２、第３の磁性膜b
2、b3およびハーフコイル導体膜c1の内端部を残して、
第１の絶縁膜a1の半面を覆うように、第２の絶縁膜a2を
形成する。また、この第２の絶縁膜a2の工程の後または
前に、第２、第３の磁性膜b2、b3をさらに積層して形成
する。

次に（５）に示すように、第３の磁性膜b3の周囲に、
前記ハーフコイル導体膜c1の内端に一端が重なり、かつ
先端が前記第２の絶縁膜a2上に到るように片側ハーフコ
イル導体膜c2を形成する。

次に（６）に示すように、前記第２、第３の磁性膜b
2、b3および片側ハーフコイル導体膜c2の先端部を残し
て、前記第２の絶縁膜a2により覆われない残りの半面を
覆うように、第３の絶縁膜a3を形成する。また、この第
３の絶縁膜a3形成工程の後または前に、第２、第３の磁
性膜b2、b3をさらに形成する。

次に（７）に示すように、第３の磁性膜b3の周囲に、
片側ハーフコイル導体膜c2の先端部に一端が重なり、か
つ先端が前記第３の絶縁膜a3上に到るように他側ハーフ
コイル導体膜c3を形成する。

次に（８）に示すように、第３の磁性膜b3および前記
他側ハーフコイル導体膜c3の先端部を残して、前記第３
の絶縁膜a3により覆われない残りの半面および第２の磁
性膜b2の半面を覆うように、第４の絶縁膜a4を形成す
る。

次に（９）に示すように、第３の磁性膜b3の周囲に、
（８）の工程により形成された他側ハーフコイル導体膜
c3の先端部に一端が重なり、かつ先端が前記第４の絶縁
膜a4上に到るように片側ハーフコイル導体膜c2を形成す
る。

次に（10）に示すように、第３の磁性膜b3および他側
ハーフコイル導体膜c2の先端部を残して、前記第４の絶
縁膜a4により覆われない残りの部分および第２の磁性膜
b2の残りの半面を覆うように、第５の絶縁膜a5を形成す
ることにより、前記第４の絶縁膜a4および第５の絶縁膜
a4によりギャップＧの半面ずつを形成する。

なお、（８）の工程で第４の絶縁膜a4により第２の磁
性膜b2の全体を覆うことによってギャップＧを形成する
か、あるいは（10）の工程で第５の絶縁膜a5により第２
の磁性膜b2の全体を覆うことによってギャップＧを形成
するようにしても良く、さらに（８）と（10）の工程の
双方でギャップ膜を形成するようにしても良い。

次に（11）に示すように、絶縁膜a4、a5により形成さ
れたギャップ膜上に、磁路Ｃとなる第２の磁性膜b2を形
成すると同時に、第３の磁性膜b3上に第３の磁性膜b3を
形成すると共に、他側ハーフコイル導体膜c3を形成す
る。

次に（12）〜（14）に示すように、さらに前記同様に
前記ハーフコイル導体膜c2の形成、第２、第３の絶縁膜
a2、a3の形成、第２、第３の磁性膜b2、b3の形成と行な
い、巻線部Ａ、磁路Ｃ、コイルＬおよび絶縁体Ｆを成長
させる。

次に（15）に示すように、外部接続部を有するハーフ
コイル導体膜c4を形成し、（16）に示すように、第２、
第３の磁性膜b2、b3の形成、その周囲の絶縁膜a6の形成
を行ない、次に（17）に示すように、磁路Ｃと巻線部Ａ
とを接続する磁路Ｅとなる磁性膜b4と、その周囲の絶縁
膜a7とを形成する。

次に第２図に示すように、前記外部接続部を有するハ
ーフコイル導体膜c1、c4が外面に露出した部分に端子と
なる導体膜Ｈを形成し、厚膜印刷法による場合は、材料
に応じた温度で焼結することにより、磁気ヘッドが完成
する。

上記の説明は、１つの磁気ヘッドを製造する例につい
て示したが、製造能率を上げるため、実際には多数の磁
気ヘッドとなる部分を同時に形成し、切断することによ
り、同時に複数個の磁気ヘッドを得るのであり、切断ピ
ッチを変えることにより、第３図に示すように、例えば
ステレオ用の２個一体型の磁気ヘッド、あるいは第４図
に示すように、２チャンネルステレオ用の４個一体型の
磁気ヘッドを得ることができる。勿論本発明の磁気ヘッ
ドは、音響用のみに用いられるものではない。

また、第１図において、外部接続部を有するハーフコ
イル導体膜c1、c4として、それぞれ複数個形成すること
により、巻線部Ａに巻くコイルＬとして、１個のみでな
く複数個のコイルを形成することが可能である。

第５図は本発明の他の実施例であり、コイルとして渦
巻状コイルL1〜L4を形成するものである。

第５図において、（１）、（２）は第１図の場合と同
様に磁路Ｄの全部と磁路Ｂおよび巻線部Ａの各一部を形
成する工程である。これらの工程の後、（３）に示すよ
うに、第１の絶縁膜a1上に第３の磁性膜b3の周囲に巻回
するように渦巻状コイルL1となるコイル導体膜l1を、そ
の外周端部が第１の絶縁膜a1の後辺に到り、端子Ｈとの
接続が可能となるように形成する。

次に（４）に示すように、前記第２、第３の磁性膜b
2、b3および渦巻状コイル導体膜l1の内端部ないしはそ
の周囲の窓部分d1を残して、第１の絶縁膜a1の全面を覆
うように、第２の絶縁膜a2を形成する。また、この第２
の絶縁膜a2の工程の後または前に、第２、第３の磁性膜
b2、b3をさらに積層して形成する。

次に（５）に示すように、第３の磁性膜b3の周囲に、
渦巻状コイル導体膜l2を、その内端が前記渦巻状コイル
導体膜l1の内端に窓部分d1を介して重なり、かつ、外周
端が第２の絶縁膜a2の後辺に到るように形成する。

次に（６）に示すように、第３の磁性膜b3を残して、
第２の磁性膜b2を含む他の全面を覆うように第３の絶縁
膜a3を形成する。この絶縁膜3aの一部がギャップＧを形
成する膜となる。

次に（７）に示すように、第３の絶縁膜a3により形成
されたギャップ膜上に、磁路Ｃとなる第２の磁性膜b2を
形成すると同時に、第３の磁性膜b3上に第３の磁性膜b3
をさらに重ねて巻線部Ａの形成を進行させる。

次に（８）に示すように、渦巻状コイルL3となる渦巻
状コイル導体膜l3を形成する。

次に（９）に示すように、前記第２、第３の磁性膜b
2、b3および渦巻状コイル導体膜l2の内端部ないしはそ
の周囲の窓部分d2を残して、第３の絶縁膜a3の全面を覆
うように、第４の絶縁膜a4を形成する。また、この第４
の絶縁膜a4の工程の後または前に、第２、第３の磁性膜
b2、b3をさらに積層して形成する。

次に（10）に示すように、第３の磁性膜b3の周囲に、
渦巻状コイル導体膜l4を、その内端が前記渦巻状コイル
導体膜l3の内端に窓部分d2を介して重なり、かつ、外周
端が第４の絶縁膜a4の後辺に到るように形成する。

次に（11）に示すように、前記第２、第３の磁性膜b
2、b3をさらに形成すると共に、これらを残して、第４
の絶縁膜a4の全面を覆うように、第５の絶縁膜a5を形成
する。

次に（12）に示すように、磁路Ｃと巻線部Ａとを接続
する磁路Ｅとなる第４の磁性膜b4と、その周囲の第６の
絶縁膜a6とを形成する。

このような工程を経て、第６図に示すように、端子Ｈ
を各コイル膜l1〜l4に接続して形成し、焼結することに
より、幅ｈの小さな磁気ヘッドを製造することができ
る。

（発明の効果） 請求項１においては、巻線部を形成する磁性膜の周囲
にハーフコイル導体膜と絶縁膜とを交互に形成すること
によって螺旋状コイルを形成するようにしたので、コイ
ルの各部が膜によって形成されることにより、断面積が
確保されると共に、コイル巻数を多くすることができ、
同時に小形化が達成できる。また、コイルが導体膜によ
り形成されるので、断線が生じにくく、歩留りが向上す
る。

請求項２においては、コイルを渦巻状に形成したの
で、コイル巻数をさらに多くすることができ、さらに小
形化が達成できる。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明による磁気ヘッドの製造方法のの一実施
例を示す工程図、第２図ないし第４図は本発明により製
造される磁気ヘッドを示す斜視図、第５図は本発明の他
の実施例を示す工程図、第６図は該実施例により製造さ
れる磁気ヘッドを示す斜視図である。 A:巻線部、Ｂ〜E:磁路、F:絶縁体、G:ギャップ、H:端
子、L:螺旋状コイル、L1〜L4:渦巻状コイル、a1〜a6:絶
縁膜、b1〜b4:磁性膜、c1〜c4:ハーフコイル導体膜、d
1、d2:窓、l1〜l4:渦巻状コイル導体膜

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】巻線部Ａと、ギャップＧを介して対向する
   磁路Ｂ、Ｃと、巻線部Ａの両端と前記磁路Ｂ、Ｃとを連
   絡する磁路Ｄ、Ｅとからなるコアの前記巻線部Ａに、１
   個以上のコイルＬを巻装して構成され、かつ絶縁体Ｆに
   よりコアとコイルＬとを一体に被覆した磁気ヘッドを、
   下記の工程によって製造する磁気ヘッドの製造方法。 磁路Ｄとその周囲の絶縁体Ｆをそれぞれ磁性膜と絶縁膜
   により形成する工程；巻線部Ａ、磁路Ｂを磁性膜により
   形成すると共に、コイルＬを、ハーフコイル導体膜の形
   成、ハーフコイル導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜に
   より被覆することにより形成する工程；前記磁路Ｂとな
   る磁性膜上に絶縁膜を積層してギャップＧを形成する工
   程；巻線部Ａ、磁路Ｃを磁性膜により形成すると共に、
   コイルＬを、ハーフコイル導体膜の形成、ハーフコイル
   導体膜を一部残して半面ずつ絶縁膜により被覆すること
   により形成する工程；磁路Ｅとその周囲の絶縁体Ｆをそ
   れぞれ磁性膜と絶縁膜により形成する工程。
2. 【請求項２】前記コイルとして、渦巻状コイルを形成す
   る請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。