JPH02222563A - 混成集積回路 - Google Patents
混成集積回路Info
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- JPH02222563A JPH02222563A JP4454789A JP4454789A JPH02222563A JP H02222563 A JPH02222563 A JP H02222563A JP 4454789 A JP4454789 A JP 4454789A JP 4454789 A JP4454789 A JP 4454789A JP H02222563 A JPH02222563 A JP H02222563A
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 abstract description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
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- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機配線基板上に半導体チップを搭載した混成
集積回路に関する。
集積回路に関する。
従来、この種の混成集積回路は、例えば第3図に示すよ
うに、ガラスエポキシ基板1上に半導体チップ5をAg
ペースト4でグイボンディングした後、Au線6による
ワイヤポンディングを行ないプリコート樹脂12等で封
止した構造となっていた。
うに、ガラスエポキシ基板1上に半導体チップ5をAg
ペースト4でグイボンディングした後、Au線6による
ワイヤポンディングを行ないプリコート樹脂12等で封
止した構造となっていた。
上述した従来の混成集積回路は、ガラスエポキシ基板自
身の吸湿性が高いため、高温高温バイアス試験などの耐
湿性試験でセラミック基板を用いた混成集積回路に比べ
がなり劣るという欠点がある。
身の吸湿性が高いため、高温高温バイアス試験などの耐
湿性試験でセラミック基板を用いた混成集積回路に比べ
がなり劣るという欠点がある。
本発明の混成集積回路は、半導体チップを接続した有機
配線基板が外部引出電極を有するセラミック基板上に搭
載され、前記有機配線基板側の電極と前記外部引出電極
とが電気的に接続され、前記有機配線基板の外側をセラ
ミックで覆い封止したことを特徴とする。
配線基板が外部引出電極を有するセラミック基板上に搭
載され、前記有機配線基板側の電極と前記外部引出電極
とが電気的に接続され、前記有機配線基板の外側をセラ
ミックで覆い封止したことを特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。ガラスエポ
キシ多層配線基板1上に半導体チップ5をAgペースト
4でダイポンディングを行う。次に、外部引出し電極7
を形成したセラミック基板2上に前記のガラスエポキシ
多層基板1をシリコン樹脂8で接着し、半導体チップ5
.ガラスエポキシ多層基板の電極3及び外部引出し電極
7の相互間をAu線6で公知のワイヤポンディング法に
より接続する。次に、シール樹脂10を塗布したセラミ
ックキャップ9を被せて窒素雰囲気中で150℃〜17
0℃の温度で2〜3時間加熱し封止する。更に、外部端
子11を取付は半田付けを行なう。こうして得られた混
成集積回路は、温度85℃湿度85%印加電圧5vの高
温高湿バイアス試験で100OHをクリアする事が可能
となり従来構造に比べ耐湿性が格段に向上した。
キシ多層配線基板1上に半導体チップ5をAgペースト
4でダイポンディングを行う。次に、外部引出し電極7
を形成したセラミック基板2上に前記のガラスエポキシ
多層基板1をシリコン樹脂8で接着し、半導体チップ5
.ガラスエポキシ多層基板の電極3及び外部引出し電極
7の相互間をAu線6で公知のワイヤポンディング法に
より接続する。次に、シール樹脂10を塗布したセラミ
ックキャップ9を被せて窒素雰囲気中で150℃〜17
0℃の温度で2〜3時間加熱し封止する。更に、外部端
子11を取付は半田付けを行なう。こうして得られた混
成集積回路は、温度85℃湿度85%印加電圧5vの高
温高湿バイアス試験で100OHをクリアする事が可能
となり従来構造に比べ耐湿性が格段に向上した。
第2図は本発明の他の実施例の断面図である。
4層〜6層からなるガラスエポキシ多層配線基板lに半
導体チップ5を搭載しAu線6をワイヤポンディングし
プリフート樹脂12を塗布し加熱硬化する。次に前記基
板と引出し電極7を設けたセラミック基板2をリフロー
法によりはんだ13で接続する。以降該−実施例と同様
にセラミックキャップ封止を行ない外部端子を取付けて
成る。
導体チップ5を搭載しAu線6をワイヤポンディングし
プリフート樹脂12を塗布し加熱硬化する。次に前記基
板と引出し電極7を設けたセラミック基板2をリフロー
法によりはんだ13で接続する。以降該−実施例と同様
にセラミックキャップ封止を行ない外部端子を取付けて
成る。
この実施例ではガラスエポキシ多層基板に搭載された半
導体チップが樹脂コートされているので組立作業での取
扱いが容易となり作業能率が向上するという利点がある
。又、はんだによる電気的接続と同時に基板との接着も
兼ねる効果も有する。
導体チップが樹脂コートされているので組立作業での取
扱いが容易となり作業能率が向上するという利点がある
。又、はんだによる電気的接続と同時に基板との接着も
兼ねる効果も有する。
以上説明したように本発明は、半導体チップが接続され
たガラスエポキシ多層基板をセラミック基板及びセラミ
ックキャップで封止する事により、特に耐湿性が改善さ
れ高信頼性の混成集積回路が得られる。
たガラスエポキシ多層基板をセラミック基板及びセラミ
ックキャップで封止する事により、特に耐湿性が改善さ
れ高信頼性の混成集積回路が得られる。
第1図及び第2図はそれぞれ本発明の混成集積回路の一
実施例及び他の実施例の断面図、第3図は従来の混成集
積回路の断面図である。 1・・・・・・ガラスエポキシ多層配線基板、2・・・
・・・セラミック基板、3・・・・・・電極、4・・・
・・・Agペースト、5・・・・・・半導体チップ、6
・・・・・・Au線、7・・・・・・外部引出し電極、
8・・・・・・シリコン樹脂、9・・・・・・セラミッ
クキャップ、10・・・・・・シール樹脂、11・・・
・・・外部端子、12・・・・・・プリコート樹脂、1
3・・・・・・はんだ。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1図 第3図
実施例及び他の実施例の断面図、第3図は従来の混成集
積回路の断面図である。 1・・・・・・ガラスエポキシ多層配線基板、2・・・
・・・セラミック基板、3・・・・・・電極、4・・・
・・・Agペースト、5・・・・・・半導体チップ、6
・・・・・・Au線、7・・・・・・外部引出し電極、
8・・・・・・シリコン樹脂、9・・・・・・セラミッ
クキャップ、10・・・・・・シール樹脂、11・・・
・・・外部端子、12・・・・・・プリコート樹脂、1
3・・・・・・はんだ。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1図 第3図
Claims (1)
- 半導体チップを接続した有機配線基板が外部引出し電
極を有するセラミック基板に搭載され、前記有機配線基
板側の電極と前記外部引出し電極とが電気的に接続され
、前記有機配線基板の外側をセラミックキャップで覆い
封止したことを特徴とする混成集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4454789A JPH02222563A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 混成集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4454789A JPH02222563A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 混成集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02222563A true JPH02222563A (ja) | 1990-09-05 |
Family
ID=12694526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4454789A Pending JPH02222563A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 混成集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02222563A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08503423A (ja) * | 1992-11-23 | 1996-04-16 | ギューリング,ヨーク | 交換可能な切削チップを備えたドリル |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4454789A patent/JPH02222563A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08503423A (ja) * | 1992-11-23 | 1996-04-16 | ギューリング,ヨーク | 交換可能な切削チップを備えたドリル |
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