JPH02208635A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH02208635A JPH02208635A JP2894989A JP2894989A JPH02208635A JP H02208635 A JPH02208635 A JP H02208635A JP 2894989 A JP2894989 A JP 2894989A JP 2894989 A JP2894989 A JP 2894989A JP H02208635 A JPH02208635 A JP H02208635A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous
- polycrystalline
- active matrix
- active
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、とりわけ、アクティブ液晶
表示パネルのアクティブ・パネル部の半導体装置構成に
関する。
表示パネルのアクティブ・パネル部の半導体装置構成に
関する。
°【従来の技術〕
従来、アクティブ液晶表示パネルのアクティブ・パネル
部の半導体装置構成としては、ガラス基板上にアモルフ
ァス5iTFTから成るアクティブ・マトリックス部を
形成し、周辺ドライバーは外付けする方式や、ガラス基
板上に多結晶SiTFTから成るアクティブ争マトリッ
クス部と周辺ドライバー部を形成する方式があった。−
〔発明が解決しようとする課題〕 しかし、上記従来技術によると、ガラス基板上にアモル
ファス5iTFTから成るアクティブ・マトリックス部
を形成し、周辺ドライバーを外付けする方式では、コス
ト高になると共に周辺ドライバーをアモルファス5iT
FTで同一ガラス基板上に形成すると、動作速度が遅い
と云う課題があり、ガラス基板上に多結晶5iTFTか
ら成るアクティブ・マトリックス部と周辺ドライバー部
を形成する方式では、コスト低減にはない周辺ドライバ
ーの動作速度も速くなるが、アクティブ・マトリックス
部に欠陥が入り易くなり歩留りが低下し、かえってコス
ト高になると云う課題があった。
部の半導体装置構成としては、ガラス基板上にアモルフ
ァス5iTFTから成るアクティブ・マトリックス部を
形成し、周辺ドライバーは外付けする方式や、ガラス基
板上に多結晶SiTFTから成るアクティブ争マトリッ
クス部と周辺ドライバー部を形成する方式があった。−
〔発明が解決しようとする課題〕 しかし、上記従来技術によると、ガラス基板上にアモル
ファス5iTFTから成るアクティブ・マトリックス部
を形成し、周辺ドライバーを外付けする方式では、コス
ト高になると共に周辺ドライバーをアモルファス5iT
FTで同一ガラス基板上に形成すると、動作速度が遅い
と云う課題があり、ガラス基板上に多結晶5iTFTか
ら成るアクティブ・マトリックス部と周辺ドライバー部
を形成する方式では、コスト低減にはない周辺ドライバ
ーの動作速度も速くなるが、アクティブ・マトリックス
部に欠陥が入り易くなり歩留りが低下し、かえってコス
ト高になると云う課題があった。
本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、ガラス基板
上に、高歩留り、且つ低コストで、周辺ドライバー部の
動作速度の速い、アクティブ液晶表示パネルのアクティ
ブ・パネル部の新らしい半導体装置構成を提供する事を
目的とする。
上に、高歩留り、且つ低コストで、周辺ドライバー部の
動作速度の速い、アクティブ液晶表示パネルのアクティ
ブ・パネル部の新らしい半導体装置構成を提供する事を
目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、半導体装置に関
し、ガラス基板上にはアモルファス5iTFTから成る
アクティブ・マトリックス部を形成すると共に、多結晶
5iTFTから成る周辺ドライバー部を形成する手段を
とる。
し、ガラス基板上にはアモルファス5iTFTから成る
アクティブ・マトリックス部を形成すると共に、多結晶
5iTFTから成る周辺ドライバー部を形成する手段を
とる。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図は本発明の一実施例を示すアクティブ液晶表示パ
ネルのアクティブ・パネル部のTPT回路配置を示すブ
ロック・レイアウト図である。すなわち、−枚の無アル
カリ白板ガラス等から成る耐熱性のガラス基板1の表面
には、アモルファスSi膜が形成され、該アモルファス
Si膜を用いて、アモルファスS 1TFTアクテイブ
・マトリックス部2がMIS型FET回路構成等で形成
され、該アモルファス5iTFTアクテイブ・マトリッ
クス部2の周辺に前記、アモルファスSi膜を多結晶S
i化して、該多結晶Si膜を用いた。
ネルのアクティブ・パネル部のTPT回路配置を示すブ
ロック・レイアウト図である。すなわち、−枚の無アル
カリ白板ガラス等から成る耐熱性のガラス基板1の表面
には、アモルファスSi膜が形成され、該アモルファス
Si膜を用いて、アモルファスS 1TFTアクテイブ
・マトリックス部2がMIS型FET回路構成等で形成
され、該アモルファス5iTFTアクテイブ・マトリッ
クス部2の周辺に前記、アモルファスSi膜を多結晶S
i化して、該多結晶Si膜を用いた。
多結晶5iTFTXドライバー部3、及び多結晶5iT
FTYドライバー部4がMIS型FET等でC−MIS
FET、あるいは単チャネルMISFET回路構成等で
形成して成る。これ等ドライバー回路構成にはデコーダ
回路あるいはシフト・レジスタ回路と共に、クロック発
生回路等が含まれても良く、入力信号5は外付は回路か
らの入力信号であっても良い。尚、多結晶5iTFTド
ライバー用の多結晶Si膜は、アモルファスSi膜を部
分的にレーザー・アニールやランプ・アニルする事によ
り得る事が出来、液晶はアモルファス5iTFTアクテ
ィブマトリックス部2の表面に他のガラス基板が貼り合
わされて封入され、ドライバー部には配されないことと
なる。更に、ドライバー部は、アモルファス5iTFT
アクテイブ・マトリックス部2の周辺の他の2辺にも配
されても良いことは云うまでもない。
FTYドライバー部4がMIS型FET等でC−MIS
FET、あるいは単チャネルMISFET回路構成等で
形成して成る。これ等ドライバー回路構成にはデコーダ
回路あるいはシフト・レジスタ回路と共に、クロック発
生回路等が含まれても良く、入力信号5は外付は回路か
らの入力信号であっても良い。尚、多結晶5iTFTド
ライバー用の多結晶Si膜は、アモルファスSi膜を部
分的にレーザー・アニールやランプ・アニルする事によ
り得る事が出来、液晶はアモルファス5iTFTアクテ
ィブマトリックス部2の表面に他のガラス基板が貼り合
わされて封入され、ドライバー部には配されないことと
なる。更に、ドライバー部は、アモルファス5iTFT
アクテイブ・マトリックス部2の周辺の他の2辺にも配
されても良いことは云うまでもない。
本発明により、ガラス基板上に高歩留りでかつ低コスト
で、周辺ドライバー部の動作速度の速いアクティブ液晶
表示パネルのアクティブ・パネル部を提供する事ができ
る効果がある。
で、周辺ドライバー部の動作速度の速いアクティブ液晶
表示パネルのアクティブ・パネル部を提供する事ができ
る効果がある。
第1図は、本発明の一実施例を示すアクティブ液晶表示
パネルのアクティブ・パネル部のTPT回路配置を示す
ブロック・レイアウト図である。 1・・・ガラス基板 2・・・アモルファス5iTFTアクテイブ・マトリッ
クス部 3・・・多結晶S 1TFTXドライバー部4・・・多
結晶5iTFTYドライバー部5・・・入力信号 第1図 以上
パネルのアクティブ・パネル部のTPT回路配置を示す
ブロック・レイアウト図である。 1・・・ガラス基板 2・・・アモルファス5iTFTアクテイブ・マトリッ
クス部 3・・・多結晶S 1TFTXドライバー部4・・・多
結晶5iTFTYドライバー部5・・・入力信号 第1図 以上
Claims (1)
- ガラス基板上にはアモルファスSiTFTから成るアク
ティブ・マトリックス部が形成されて成ると共に、多結
晶SiTFTから成る周辺ドライバー部が形成されて成
る事を特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2894989A JPH02208635A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2894989A JPH02208635A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02208635A true JPH02208635A (ja) | 1990-08-20 |
Family
ID=12262660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2894989A Pending JPH02208635A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02208635A (ja) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04242725A (ja) * | 1990-12-25 | 1992-08-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH04260023A (ja) * | 1991-02-15 | 1992-09-16 | Nec Corp | 液晶表示装置 |
JPH05232506A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
US5294811A (en) * | 1990-11-30 | 1994-03-15 | Hitachi, Ltd. | Thin film semiconductor device having inverted stagger structure, and device having such semiconductor device |
US5569936A (en) * | 1993-03-12 | 1996-10-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device employing crystallization catalyst |
US5604360A (en) * | 1992-12-04 | 1997-02-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including a plurality of thin film transistors at least some of which have a crystalline silicon film crystal-grown substantially in parallel to the surface of a substrate for the transistor |
US5614426A (en) * | 1993-08-10 | 1997-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device having different orientations of crystal channel growth |
US5614733A (en) * | 1993-03-12 | 1997-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Inc. | Semiconductor device having crystalline thin film transistors |
US6124155A (en) * | 1991-06-19 | 2000-09-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
JP2000299470A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-10-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
JP2001338877A (ja) * | 2001-03-30 | 2001-12-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置の作製方法 |
US6475840B1 (en) * | 1993-06-12 | 2002-11-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US6613613B2 (en) | 1994-08-31 | 2003-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film type monolithic semiconductor device |
US6875628B1 (en) | 1993-05-26 | 2005-04-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and fabrication method of the same |
JP2005527856A (ja) * | 2002-05-28 | 2005-09-15 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 非晶質シリコン薄膜トランジスタ−液晶表示装置及びそれの製造方法 |
US7186601B2 (en) | 1994-08-26 | 2007-03-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of fabricating a semiconductor device utilizing a catalyst material solution |
US7449376B2 (en) | 2001-11-28 | 2008-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device |
WO2009013873A1 (ja) * | 2007-07-20 | 2009-01-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | 積層膜の製造方法、半導体装置の製造方法、半導体装置および表示装置 |
US9097953B2 (en) | 1999-02-12 | 2015-08-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, and method of forming the same |
-
1989
- 1989-02-08 JP JP2894989A patent/JPH02208635A/ja active Pending
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5294811A (en) * | 1990-11-30 | 1994-03-15 | Hitachi, Ltd. | Thin film semiconductor device having inverted stagger structure, and device having such semiconductor device |
JPH04242725A (ja) * | 1990-12-25 | 1992-08-31 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH04260023A (ja) * | 1991-02-15 | 1992-09-16 | Nec Corp | 液晶表示装置 |
US6166399A (en) * | 1991-06-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix device including thin film transistors |
US6847064B2 (en) | 1991-06-19 | 2005-01-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having a thin film transistor |
US6797548B2 (en) | 1991-06-19 | 2004-09-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Inc. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
US6756258B2 (en) | 1991-06-19 | 2004-06-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device |
US6335213B1 (en) | 1991-06-19 | 2002-01-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
US6124155A (en) * | 1991-06-19 | 2000-09-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro-optical device and thin film transistor and method for forming the same |
JPH05232506A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
US5604360A (en) * | 1992-12-04 | 1997-02-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including a plurality of thin film transistors at least some of which have a crystalline silicon film crystal-grown substantially in parallel to the surface of a substrate for the transistor |
US6642073B1 (en) | 1993-03-12 | 2003-11-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor circuit and method of fabricating the same |
US5614733A (en) * | 1993-03-12 | 1997-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Inc. | Semiconductor device having crystalline thin film transistors |
US5569936A (en) * | 1993-03-12 | 1996-10-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device employing crystallization catalyst |
US5595923A (en) * | 1993-03-12 | 1997-01-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of forming a thin film transistor |
US6875628B1 (en) | 1993-05-26 | 2005-04-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and fabrication method of the same |
US6475840B1 (en) * | 1993-06-12 | 2002-11-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US5614426A (en) * | 1993-08-10 | 1997-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device having different orientations of crystal channel growth |
US7186601B2 (en) | 1994-08-26 | 2007-03-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of fabricating a semiconductor device utilizing a catalyst material solution |
US6613613B2 (en) | 1994-08-31 | 2003-09-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film type monolithic semiconductor device |
JP2000299470A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-10-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
US9097953B2 (en) | 1999-02-12 | 2015-08-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, and method of forming the same |
JP2001338877A (ja) * | 2001-03-30 | 2001-12-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置の作製方法 |
US7449376B2 (en) | 2001-11-28 | 2008-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device |
JP2005527856A (ja) * | 2002-05-28 | 2005-09-15 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 非晶質シリコン薄膜トランジスタ−液晶表示装置及びそれの製造方法 |
WO2009013873A1 (ja) * | 2007-07-20 | 2009-01-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | 積層膜の製造方法、半導体装置の製造方法、半導体装置および表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02208635A (ja) | 半導体装置 | |
TW373104B (en) | Active matrix display | |
TW200717817A (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
KR970016722A (ko) | 반도체장치 및 이것을 사용한 액정표시장치 | |
TW359856B (en) | Active matrix display device and its manufacture | |
WO2016206143A1 (zh) | 基于ltps的传输门多路复用电路及液晶显示面板 | |
JPH065465B2 (ja) | 液晶表示装置の封止構造 | |
CA2355067A1 (en) | Metastability insensitive integrated thin film multiplexer | |
WO2020019427A1 (zh) | 能够改善Mura现象的异形显示面板及显示装置 | |
WO2020037723A1 (zh) | 显示面板及显示装置 | |
JP2893433B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20010009044A (ko) | 액정표시장치용 신호연결부재 및 이에 장착된 드라이브 아이씨 | |
JPH0818062A (ja) | スイッチング回路及びこの回路を有する表示装置 | |
JPH0418525A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
TWI253621B (en) | A display with system on panel (SOP) design | |
WO2020206801A1 (zh) | 一种感光器件、 tft 阵列基板及其显示面板 | |
WO2019205341A1 (zh) | 阵列基板及显示面板 | |
KR0163902B1 (ko) | 박막트랜지스터 액정디스플레이 | |
WO2020037738A1 (zh) | 阵列基板及显示面板 | |
JPH0213316B2 (ja) | ||
KR950009797B1 (ko) | 바텀 게이트를 구비한 fid 폴리 실리콘 tft | |
JPH07199215A (ja) | 表示装置及び液晶ディスプレイ | |
JPH02223912A (ja) | アクテイブマトリクス液晶デイスプレイの形成方法およびその駆動方法 | |
JPS63202719A (ja) | 薄膜トランジスタマトリクス | |
KR20040061433A (ko) | 액정표시장치 |