JPH02205464A - 平面研削方法 - Google Patents
平面研削方法Info
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- JPH02205464A JPH02205464A JP2073789A JP2073789A JPH02205464A JP H02205464 A JPH02205464 A JP H02205464A JP 2073789 A JP2073789 A JP 2073789A JP 2073789 A JP2073789 A JP 2073789A JP H02205464 A JPH02205464 A JP H02205464A
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は平面研削方法に係シ、特に仕上面の平坦度を向
上させるための平面研削方法に関する。
上させるための平面研削方法に関する。
たとえば、シリコンウェハの表面を加工する装置として
特開昭58−34751号公報に開示されたものがある
。上記技術では、荒仕上用砥石と仕上用砥石との軌跡が
90度ずれるようにして研削することによシヘアクラッ
クの助長を少くかつ精度か安定に得られるようにしてい
る。
特開昭58−34751号公報に開示されたものがある
。上記技術では、荒仕上用砥石と仕上用砥石との軌跡が
90度ずれるようにして研削することによシヘアクラッ
クの助長を少くかつ精度か安定に得られるようにしてい
る。
しかしながら、砥石の切込速度を一定にしてシリコンク
エバを研削したとき、切込方向と平行に断面したときの
断面形状は底面に平行ではなく、中央部付近が高い弓形
状となる。このため、仕上用砥石の軌跡を荒仕上用砥石
の軌跡に対して90度ずらせても上記した弓形状を補正
しきれず、表面の平坦度を向上させることができないと
いう問題点があった。
エバを研削したとき、切込方向と平行に断面したときの
断面形状は底面に平行ではなく、中央部付近が高い弓形
状となる。このため、仕上用砥石の軌跡を荒仕上用砥石
の軌跡に対して90度ずらせても上記した弓形状を補正
しきれず、表面の平坦度を向上させることができないと
いう問題点があった。
本発明の目的は、上記した課題を解決し、平坦度のすぐ
れる平面研削方法を提供するにある。
れる平面研削方法を提供するにある。
砥石に加わる研削抵抗か略一定となるように砥石の切込
み速度を制御する。
み速度を制御する。
シリコンウェハの断面形状は底面と平行になる。
すなわち、シリコンウェハ表面の平坦度を向上させるこ
とができる。
とができる。
以下、本発明の一実施例をWJ1図ないし!3図を用い
て説明する。
て説明する。
第1図は本発明を適用した平面研削盤の平面図。
wJz図は側面図である。
同図において、1はベツド。2はテーブルで、円形のワ
ーク3を取付けるチャック4を載置し、ワーク3をコラ
ム5に対して位置決めする。なお、コラム5はベツド1
に固定された摺動面6上をX軸方向に移動自在である。
ーク3を取付けるチャック4を載置し、ワーク3をコラ
ム5に対して位置決めする。なお、コラム5はベツド1
に固定された摺動面6上をX軸方向に移動自在である。
7はモータで、ギヤボックス8を介してコラム5を移動
させる。9は主軸頭で、砥石10を回転自在に保持する
とともにコラム5の側面を上下方向に移動自在に支持さ
れている。11はモータで、ギヤボックス12を介して
主軸頭9を上下させる。なお、砥石10の中心とワーク
3の中心とはX軸と同軸になるようにしである。13は
コラム5の側面に固定されたセンサで、先端はX軸と直
角のY軸方向に移動する。
させる。9は主軸頭で、砥石10を回転自在に保持する
とともにコラム5の側面を上下方向に移動自在に支持さ
れている。11はモータで、ギヤボックス12を介して
主軸頭9を上下させる。なお、砥石10の中心とワーク
3の中心とはX軸と同軸になるようにしである。13は
コラム5の側面に固定されたセンサで、先端はX軸と直
角のY軸方向に移動する。
そして、図示しない制御回路はセンサ13の先端の移動
量に応じてモータ7の回転数すなわち、砥石10の切込
み速度を変えるようになっている。
量に応じてモータ7の回転数すなわち、砥石10の切込
み速度を変えるようになっている。
14はベツド1に移動可能に固定されたテンプレートで
・第3図(&)において実線で示すように、同一直線上
の線分AB%DEと曲線BCDとを合成した形状になっ
ている。さらに、砥石10をX軸と平行の矢印方向に移
動させたときの砥石10とワーク3との相対関係位置を
示す累3図(b)、(()を参照しながら、テンプレー
ト14について説明する。なお、ワーク3のX軸と平行
な軸心を0とする。同図において、 (1) 砥石10の先端がワーク3と接する位置が一
点鎖線で示す線分ABと平行な直線FG上の点Jである
。
・第3図(&)において実線で示すように、同一直線上
の線分AB%DEと曲線BCDとを合成した形状になっ
ている。さらに、砥石10をX軸と平行の矢印方向に移
動させたときの砥石10とワーク3との相対関係位置を
示す累3図(b)、(()を参照しながら、テンプレー
ト14について説明する。なお、ワーク3のX軸と平行
な軸心を0とする。同図において、 (1) 砥石10の先端がワーク3と接する位置が一
点鎖線で示す線分ABと平行な直線FG上の点Jである
。
(2) ワーク3の軸心Oと直角の直径をKLとする
とき、砥石10の弦かに、Lと重なるときの砥石10の
先端の位置に対応するのが曲線BCD上の点Cである。
とき、砥石10の弦かに、Lと重なるときの砥石10の
先端の位置に対応するのが曲線BCD上の点Cである。
(3)砥石10の先端がワーク3と離れる位置が直線F
G上の点Mである。すなわち、距離JMはワーク3の直
径に等しい。
G上の点Mである。すなわち、距離JMはワーク3の直
径に等しい。
(4) 砥石10とワーク3との任意の交点をP、Q
とするときの砥石10の先端の位置に対応する曲線JC
M(なお、曲線BCDは曲線JCMの一部である。)上
の点をSとする。そして、直線FGとの距離SHsが次
式(イ)を満足するように点Sを定める。
とするときの砥石10の先端の位置に対応する曲線JC
M(なお、曲線BCDは曲線JCMの一部である。)上
の点をSとする。そして、直線FGとの距離SHsが次
式(イ)を満足するように点Sを定める。
ただし、CH(!:点Cと直線FGとの距離(5)式(
イ)においてS Hs = 0.3 CHcとす、b曲
線JCM上の点をB%Dとして、軸心0と平行に線分A
B%DEを定める。なお、A、Eはテンプレート14の
端部である。
イ)においてS Hs = 0.3 CHcとす、b曲
線JCM上の点をB%Dとして、軸心0と平行に線分A
B%DEを定める。なお、A、Eはテンプレート14の
端部である。
以下、動作について説明する。なお、テンプレート14
は線分ABがX軸と平行になるようにベツドIK固定し
、モータ11によシ王軸頭9を移動させ、ワーク3に対
する砥石1oの高さを設定。
は線分ABがX軸と平行になるようにベツドIK固定し
、モータ11によシ王軸頭9を移動させ、ワーク3に対
する砥石1oの高さを設定。
しておく。
コラム5を所定の速度Uでテーブル2側に移動させる。
すなわち、砥石10を速度Uでワーク3に切込ませる。
すると、砥石10の移動に伴なってセンサ13の先端も
テンプレート14に倣って移動する。そして、砥石10
がワーク3に接する位置JからBtでの間は切込速度は
Uである。引続き砥石10が移動すると、センサ13の
先端は曲線BCDに倣ってY軸方向に移動し、モータ7
の回転数は式(イ)で示す比で低下し、点Cにおいて切
込速度は0.3Uとなる。従って、この間、砥石10の
弧PQが単位時間に移動する量すなわち、砥石10かワ
ーク3を単位時間に研削する量は常に0.3 Uで一定
となシ、ワーク3が均質な材料であれば研削抵抗も略一
定となる。そして、点Cを越えると再び切込速度は増加
し、位置りにおいて速度Uに戻シ、位置Mで加工を終了
する。
テンプレート14に倣って移動する。そして、砥石10
がワーク3に接する位置JからBtでの間は切込速度は
Uである。引続き砥石10が移動すると、センサ13の
先端は曲線BCDに倣ってY軸方向に移動し、モータ7
の回転数は式(イ)で示す比で低下し、点Cにおいて切
込速度は0.3Uとなる。従って、この間、砥石10の
弧PQが単位時間に移動する量すなわち、砥石10かワ
ーク3を単位時間に研削する量は常に0.3 Uで一定
となシ、ワーク3が均質な材料であれば研削抵抗も略一
定となる。そして、点Cを越えると再び切込速度は増加
し、位置りにおいて速度Uに戻シ、位置Mで加工を終了
する。
なお、本実施例においては、JBおよびDM。
間を一定速度Uで加工するようにしている。この間に砥
石10がワーク3を加工する範囲は、砥石10とワーク
3との径の比によシ異なるが、たとえば砥石10の径が
300頭で、ワーク3の径が15011mであるとき、
全体の1.3チに過ぎず、実用上何ら差支えない値であ
る。また、曲線BCDの形状は差支えない穆度に変形し
てもよい。さらに、上記した式(イ)をNC装置に入力
しておき3、砥石とワークの相対位置とを確認しながら
切込み速度を変えるようにすれば、テンプレートを作ら
なくてもよいことは言うまでもない。
石10がワーク3を加工する範囲は、砥石10とワーク
3との径の比によシ異なるが、たとえば砥石10の径が
300頭で、ワーク3の径が15011mであるとき、
全体の1.3チに過ぎず、実用上何ら差支えない値であ
る。また、曲線BCDの形状は差支えない穆度に変形し
てもよい。さらに、上記した式(イ)をNC装置に入力
しておき3、砥石とワークの相対位置とを確認しながら
切込み速度を変えるようにすれば、テンプレートを作ら
なくてもよいことは言うまでもない。
以上詳述したように9本発明によれば、砥石がなプ、ワ
ークの平坦度を向上させることかできるという効果があ
る。
ークの平坦度を向上させることかできるという効果があ
る。
第1図は本発明を適用した一実施例を示す平面。
研削盤の平面図。第2図は側面図、i@3図は具体。
例であるテンプレートの構成を説明するための図である
。 3・・・ワーク、 7・・・モータ、 10・・・
砥石。 13・・・センサ、 14・・・テンプレート。 第2図
。 3・・・ワーク、 7・・・モータ、 10・・・
砥石。 13・・・センサ、 14・・・テンプレート。 第2図
Claims (1)
- 1、研削面積が変化するワークを研削する平面研削方法
において、研削抵抗が略一定となるように砥石の切込み
速度を制御することを特徴とする平面研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073789A JPH02205464A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 平面研削方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073789A JPH02205464A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 平面研削方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02205464A true JPH02205464A (ja) | 1990-08-15 |
Family
ID=12035509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2073789A Pending JPH02205464A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 平面研削方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02205464A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010149232A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Asahi-Seiki Mfg Co Ltd | ばね端面研削装置 |
-
1989
- 1989-02-01 JP JP2073789A patent/JPH02205464A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010149232A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Asahi-Seiki Mfg Co Ltd | ばね端面研削装置 |
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