JPH0218960A - 相補型クロックドナンド回路 - Google Patents
相補型クロックドナンド回路Info
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- JPH0218960A JPH0218960A JP63169847A JP16984788A JPH0218960A JP H0218960 A JPH0218960 A JP H0218960A JP 63169847 A JP63169847 A JP 63169847A JP 16984788 A JP16984788 A JP 16984788A JP H0218960 A JPH0218960 A JP H0218960A
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- Japan
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- transistor
- mosfet
- circuit
- input
- gate
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- 230000000295 complement effect Effects 0.000 title claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路化されたクロックドナンド回路
に関する。
に関する。
第3図はクロックドナンド回路の従来例の回路図である
。
。
本従来例は、ソースが電源■αに接続され、ゲートにデ
ジタル信@AおよびBがそれぞれ入力されるPMOSト
ランジスタ■1および第2と、このPMOSトランジス
タT1.第2の共通ドレインとグランド(GND)との
間にソース・ドレイン経路が直列接続されたNMO8ト
ランジスタT5.T6.T3.T4とで構成され、NM
OSMOSトランジスタT5の接続点から出力(10を
得るものである。トランジスタT5のゲートにはクロッ
ク信号φが入力され、トランジスタT6のゲートには逆
相のクロック信号φが入力され、トランジスタT3のゲ
ートにはデジタル信号Aが入力され、トランジスタT4
のゲートにはデジタル信号Bが入力されている。
ジタル信@AおよびBがそれぞれ入力されるPMOSト
ランジスタ■1および第2と、このPMOSトランジス
タT1.第2の共通ドレインとグランド(GND)との
間にソース・ドレイン経路が直列接続されたNMO8ト
ランジスタT5.T6.T3.T4とで構成され、NM
OSMOSトランジスタT5の接続点から出力(10を
得るものである。トランジスタT5のゲートにはクロッ
ク信号φが入力され、トランジスタT6のゲートには逆
相のクロック信号φが入力され、トランジスタT3のゲ
ートにはデジタル信号Aが入力され、トランジスタT4
のゲートにはデジタル信号Bが入力されている。
次に、回路動作を説明する。
クロック信号φがローレベル(0)のとぎ(すなわち、
φがハイレベルのとき〉は、PMOSMOSトランジス
タT5NMOSトランジスタ第6は共にオフし、デジタ
ル信号A、Bのレベルに関係なく、出力Oはハイインピ
ーダンス状態となる。
φがハイレベルのとき〉は、PMOSMOSトランジス
タT5NMOSトランジスタ第6は共にオフし、デジタ
ル信号A、Bのレベルに関係なく、出力Oはハイインピ
ーダンス状態となる。
クロック信号φがハイレベルとなると、PMOSMOS
トランジスタT5OI−ランジスタT6が共にオンし、
このとき、デジタル信号A、Bが共にハイレベルである
とNMO8トランジスタT3゜第4が共にオンし、出力
0はローレベルとなり、それ以外の組合せのときはPM
OSトランジスタT1あるいは−「2がオンし、出力○
はハイレベルとなる。表1は本従来例の真理値表である
。
トランジスタT5OI−ランジスタT6が共にオンし、
このとき、デジタル信号A、Bが共にハイレベルである
とNMO8トランジスタT3゜第4が共にオンし、出力
0はローレベルとなり、それ以外の組合せのときはPM
OSトランジスタT1あるいは−「2がオンし、出力○
はハイレベルとなる。表1は本従来例の真理値表である
。
第4図は第3図の回路を半導体集積回路化した場合のレ
イアウトパターンを示す図である。
イアウトパターンを示す図である。
第4図において、第3図と対応する部分には、第3図中
に記載されている各部の符号を付加し、対応関係を明確
化しである。各トランジスタのグー1−電極(図中、多
数の点が付与されている部分)は、例えば、ポリシリコ
ンからなり、配線20は、例えばアルミニウムからなっ
ている。配線20とトランジスタのソースあるいはドレ
インとは、コンタクトホール19を介して接続されてい
る。
に記載されている各部の符号を付加し、対応関係を明確
化しである。各トランジスタのグー1−電極(図中、多
数の点が付与されている部分)は、例えば、ポリシリコ
ンからなり、配線20は、例えばアルミニウムからなっ
ている。配線20とトランジスタのソースあるいはドレ
インとは、コンタクトホール19を介して接続されてい
る。
上述した従来の相補型クロックドナンド回路は、IC化
した場合、第4図に示されるように、Pチャンネルトラ
ンジスタT1と第2との共通ドレイン電極11とPチャ
ンネルトランジスタT5のソース電極13とが離れて位
置しているため、これらの電極間を接続するためには1
個のコンタクトホール19と配線20が余分に必要とな
り、また、出力Oの取り出しのために、トランジスタT
5のドレイン電極14にコンタクトホール19が1個余
分に必要となり、PMOSトランジスタT1゜第2.7
5により構成される論理回路では、占有面積が増大し、
また、パターンが複雑化するため寄生容山の増大によっ
て電気的特性が悪化するという欠点がある。
した場合、第4図に示されるように、Pチャンネルトラ
ンジスタT1と第2との共通ドレイン電極11とPチャ
ンネルトランジスタT5のソース電極13とが離れて位
置しているため、これらの電極間を接続するためには1
個のコンタクトホール19と配線20が余分に必要とな
り、また、出力Oの取り出しのために、トランジスタT
5のドレイン電極14にコンタクトホール19が1個余
分に必要となり、PMOSトランジスタT1゜第2.7
5により構成される論理回路では、占有面積が増大し、
また、パターンが複雑化するため寄生容山の増大によっ
て電気的特性が悪化するという欠点がある。
本発明の相補型クロックドナンド回路は、ソースが第1
の動作電位点に接続され、グー1〜に第1のデジタル信
号が入力される第1導電型の第1のHOS FETと、 ソースが前記第1の803 FETのドレインに接続さ
れ、ゲートにクロック信号が入力される第1導電型の第
2のHOS FETと、 ソースが前記第1の動作電位点に接続され、ゲートに第
2のデジタル信号が人力される第1導電型の第3のHO
S FETと、 ソースが前記第3のHOS FETのドレインに接続さ
れ、ゲートに前記クロック信号が入力される第1導電型
の第4のHOS FETとを有し、前記第2のHOS
FETのドレインと前記第4のHOS FETのトレイ
ンとが共通接続されており、さらに、該第2のMOS
FETのドレインおよび第4の803 FETのドレイ
ンの共通接続点と第2の動作電位点との間にソース・ド
レイン経路が直列に接続された、第2導電型の第5.第
6および第7のMOS FETを有し、該第5のMOS
FETのゲートには前記クロック信号とは逆相のクロ
ック信号が入力され、前記第6および第7の803 F
ETのゲートのいずれか一方には前記第1のデジタル信
号が入力され、他方には前記第2のデジタル信号が入力
されるように構成されている。
の動作電位点に接続され、グー1〜に第1のデジタル信
号が入力される第1導電型の第1のHOS FETと、 ソースが前記第1の803 FETのドレインに接続さ
れ、ゲートにクロック信号が入力される第1導電型の第
2のHOS FETと、 ソースが前記第1の動作電位点に接続され、ゲートに第
2のデジタル信号が人力される第1導電型の第3のHO
S FETと、 ソースが前記第3のHOS FETのドレインに接続さ
れ、ゲートに前記クロック信号が入力される第1導電型
の第4のHOS FETとを有し、前記第2のHOS
FETのドレインと前記第4のHOS FETのトレイ
ンとが共通接続されており、さらに、該第2のMOS
FETのドレインおよび第4の803 FETのドレイ
ンの共通接続点と第2の動作電位点との間にソース・ド
レイン経路が直列に接続された、第2導電型の第5.第
6および第7のMOS FETを有し、該第5のMOS
FETのゲートには前記クロック信号とは逆相のクロ
ック信号が入力され、前記第6および第7の803 F
ETのゲートのいずれか一方には前記第1のデジタル信
号が入力され、他方には前記第2のデジタル信号が入力
されるように構成されている。
Pチャンネル型トランジスタの並列−直列接続部を論理
的に等価な、直列−並列接続構成に変えることにより、
各トランジスタのソース、ドレイン電極の共用化が図れ
、さらに、各トランジスタ間の接続のための配線および
」ンタク[・ホールを減少でき、これにより、占有面積
の削減、スイッチング速度の向上を図ることができる。
的に等価な、直列−並列接続構成に変えることにより、
各トランジスタのソース、ドレイン電極の共用化が図れ
、さらに、各トランジスタ間の接続のための配線および
」ンタク[・ホールを減少でき、これにより、占有面積
の削減、スイッチング速度の向上を図ることができる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の相補型クロックドナンド回路の一実施
例の回路図、第2図は本実施例をIC化した際のレイア
ウトパターンを示す図である。
例の回路図、第2図は本実施例をIC化した際のレイア
ウトパターンを示す図である。
本実施例は、PMO81〜MOSトランジスタる回路部
分において、PMOSトランジスタT7を新たに付加し
てφクロック信号が入力されるトランジスタを2つに分
け、かつA信号ゲート入力トランジスター1とφクロッ
ク信号ゲート入力トランジスタT5を直列に接続し、一
方のB信号ゲート入力トランジスター2とφクロック信
号ゲート入力トランジスタT7とを直列接続にし、この
2つの直列回路を並列に接続したものである。本実施例
は、φクロック信号が入力されるMOSトランジスタの
位置が変わっただけであり、論理的には従来例と等価で
あることは明白である。
分において、PMOSトランジスタT7を新たに付加し
てφクロック信号が入力されるトランジスタを2つに分
け、かつA信号ゲート入力トランジスター1とφクロッ
ク信号ゲート入力トランジスタT5を直列に接続し、一
方のB信号ゲート入力トランジスター2とφクロック信
号ゲート入力トランジスタT7とを直列接続にし、この
2つの直列回路を並列に接続したものである。本実施例
は、φクロック信号が入力されるMOSトランジスタの
位置が変わっただけであり、論理的には従来例と等価で
あることは明白である。
従来例では、IC化した場合、φクロック信号ゲート入
力トランジスタT5と、デジタル信号A。
力トランジスタT5と、デジタル信号A。
Bが入力されるトランジスタT1.T2とは、ソース、
ドレイン電極を共用することができず、各トランジスタ
ごとにソース、ドレイン電極を有していたが、本実施例
では、第2図に示されるように、φクロック信号が入力
されるトランジスタT5、T7とデジタル信号A、Bが
入力されるトランジスターr1.T2とが各々直列接続
されているため、ソース、ドレイン電極を共用すること
ができる。これにより、コンタクトホール数を減少でき
、また、余分なトランジスタ間の配線をなくすことがで
きる。以上、2人力クロツクドナンド回路の例をあげて
説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、3
人力以上のクロックドナンド回路にも同様に適用可能で
ある。
ドレイン電極を共用することができず、各トランジスタ
ごとにソース、ドレイン電極を有していたが、本実施例
では、第2図に示されるように、φクロック信号が入力
されるトランジスタT5、T7とデジタル信号A、Bが
入力されるトランジスターr1.T2とが各々直列接続
されているため、ソース、ドレイン電極を共用すること
ができる。これにより、コンタクトホール数を減少でき
、また、余分なトランジスタ間の配線をなくすことがで
きる。以上、2人力クロツクドナンド回路の例をあげて
説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、3
人力以上のクロックドナンド回路にも同様に適用可能で
ある。
以上説明したように本発明は、半導体集積回路における
り[1ツクドナンド回路の回路構成を変えることにより
、回路の占有面積を減少させて集積度を向上し、低コス
トLSIを作ることができるという効果がある。さらに
、パターン形状が簡単化されてコンタクトホールおよび
拡散層の面積が減少し、これにより寄生容量の低減を図
れ、高速スイッチング速度が可能となるという効果があ
る。
り[1ツクドナンド回路の回路構成を変えることにより
、回路の占有面積を減少させて集積度を向上し、低コス
トLSIを作ることができるという効果がある。さらに
、パターン形状が簡単化されてコンタクトホールおよび
拡散層の面積が減少し、これにより寄生容量の低減を図
れ、高速スイッチング速度が可能となるという効果があ
る。
第1図は本発明の相補型クロックドナンド回路の一実施
例の回路図、第2図は第1図の回路をIC化した場合の
レイアラl−パターンを示す図、第3図は従来例の回路
図、第4図は第3図の従来回路をIC化した場合のレイ
アラ1−パターンを示す図である。 A、B・・・デジタルゲート入力信号、φ・・・クロッ
ク信号、 φ・・・クロック逆相信号、 0・・・トランジスタ出力、 Vcc・・・電源、 GND・・・接地、T
1.T2.T5.T7・・・Pチャンネル型トランジス
タ、 T3.T4.T6・・・Nチャンネル型トランジスタ、 1〜18・・・各トランジスタのソースあるいはドレイ
ン電極、 19・・・コンタクトホール、20・・・配線。
例の回路図、第2図は第1図の回路をIC化した場合の
レイアラl−パターンを示す図、第3図は従来例の回路
図、第4図は第3図の従来回路をIC化した場合のレイ
アラ1−パターンを示す図である。 A、B・・・デジタルゲート入力信号、φ・・・クロッ
ク信号、 φ・・・クロック逆相信号、 0・・・トランジスタ出力、 Vcc・・・電源、 GND・・・接地、T
1.T2.T5.T7・・・Pチャンネル型トランジス
タ、 T3.T4.T6・・・Nチャンネル型トランジスタ、 1〜18・・・各トランジスタのソースあるいはドレイ
ン電極、 19・・・コンタクトホール、20・・・配線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ソースが第1の動作電位点に接続され、ゲートに第
1のデジタル信号が入力される第1導電型の第1のMO
SFETと、 ソースが前記第1のMOSFETのドレインに接続され
、ゲートにクロック信号が入力される第1導電型の第2
のMOSFETと、 ソースが前記第1の動作電位点に接続され、ゲートに第
2のデジタル信号が入力される第1導電型の第3のMO
SFETと、 ソースが前記第3のMOSFETのドレインに接続され
、ゲートに前記クロック信号が入力される第1導電型の
第4のMOSFETとを有し、 前記第2のMOSFETのドレインと前記第4のMOS
FETのドレインとが共通接続されており、さらに、該
第2のMOSFETのドレインおよび第4のMOSFE
Tのドレインの共通接続点と第2の動作電位点との間に
ソース・ドレイン経路が直列に接続された、第2導電型
の第5、第6および第7のMOSFETを有し、該第5
のMOSFETのゲートには前記クロック信号とは逆相
のクロック信号が入力され、前記第6および第7のMO
SFETのゲートのいずれか一方には前記第1のデジタ
ル信号が入力され、他方には前記第2のデジタル信号が
入力されるように構成されている相補型クロックドナン
ド回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63169847A JP2852051B2 (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 相補型クロックドナンド回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63169847A JP2852051B2 (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 相補型クロックドナンド回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0218960A true JPH0218960A (ja) | 1990-01-23 |
| JP2852051B2 JP2852051B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=15894037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63169847A Expired - Fee Related JP2852051B2 (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 相補型クロックドナンド回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2852051B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5119731A (en) * | 1989-10-24 | 1992-06-09 | Jean Muller International | Station on a railway or other line, situated on a viaduct |
| US5973377A (en) * | 1995-12-28 | 1999-10-26 | Nec Corporation | Semiconductor device having FETs with shared source and drain regions |
| JP2005227529A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Nec Corp | アクティブマトリクス型半導体装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100024A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-19 | Toshiba Corp | マスタスライス型半導体集積回路 |
| JPS6211321A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Cmos論理ゲ−ト |
-
1988
- 1988-07-06 JP JP63169847A patent/JP2852051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100024A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-19 | Toshiba Corp | マスタスライス型半導体集積回路 |
| JPS6211321A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Cmos論理ゲ−ト |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5119731A (en) * | 1989-10-24 | 1992-06-09 | Jean Muller International | Station on a railway or other line, situated on a viaduct |
| US5973377A (en) * | 1995-12-28 | 1999-10-26 | Nec Corporation | Semiconductor device having FETs with shared source and drain regions |
| JP2005227529A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Nec Corp | アクティブマトリクス型半導体装置 |
| US8264476B2 (en) | 2004-02-13 | 2012-09-11 | Nlt Technologies, Ltd. | Active matrix type semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2852051B2 (ja) | 1999-01-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |