JPH0427159A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH0427159A
JPH0427159A JP13226790A JP13226790A JPH0427159A JP H0427159 A JPH0427159 A JP H0427159A JP 13226790 A JP13226790 A JP 13226790A JP 13226790 A JP13226790 A JP 13226790A JP H0427159 A JPH0427159 A JP H0427159A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stopper
region
interconnection
bipolar transistor
nmos
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13226790A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirofumi Terasawa
宏文 寺澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP13226790A priority Critical patent/JPH0427159A/ja
Publication of JPH0427159A publication Critical patent/JPH0427159A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1 本発明は、MOSFETとバイポーラトランジスタが同
一基板上に混在するゲートアレイLSIに関するもので
、特に高速で高集積のゲートアレイLSIに関するもの
である。
[発明の概要] 本発明は、同一基板上にMOSFETとバイポーラトラ
ンジスタが混在するゲートアレイLSIの入出力兼用セ
ルにおいて、NMOS領域とバイポーラトランジスタ領
域を分離し、NMO5はP型ウェル電位を固定電位に接
続するためのストッパーで囲み、バイポーラトランジス
タは基板電位を固定電位に接続するためのストッパーで
囲み、それぞれのストッパーを固定電位に接続するため
の電源配線を基板上で絶縁することにより、バイポーラ
トランジスタのスイッチング電流によるノイズが、電源
配線及びストッパーを介してNMO8に影響を及ぼさな
いようにし、MOSFETで構成された部分の回路の高
速化を実現するものである。
〔従来の技術1 従来のBICMOSゲートアレイLSIの入出力兼用セ
ルでは、第2図のようなトランジスタの配置が一般的に
用いられている0図のように、従来はNMO3Iとバイ
ポーラトランジスタ2がセルの中に混在している。スト
ッパー7は、ストッパー領域と第−層配線を接続するた
めのコンタクトホール3(以下コンタクトと称す)によ
り第−層配線5に接続され、第−層配線5は、第−層配
線と第二層配線を接続するためのコンタクトホール4(
以下ホールと称す)により第二層配線6に接続されてい
る。ストッパー7は、基板電位の変動によるNMO5及
びバイポーラトランジスタの特性劣化を防ぐ目的で設け
られている。
[発明が解決しようとする課題1 しかし、従来の技術ではバイポーラトランジスタとNM
O3のストッパー領域及び電源配線が分離されていない
ため、バイポーラ!・ランジスタのスイッチング時に過
渡的に大きな電流が流れると、NMOSストッパーと電
源の電位を変動させる事になり、MOSFETで構成さ
れた回路の遅延時間を増大させ、LSI全体の高速化を
妨げるという問題があった。
そこで1本発明は、上述の問題点を解決するものであり
その目的とするところは、より高速なりICMOSゲー
トアレイLSIを提供するところにある。
[課題を解決するための手段] 本発明のBICMOSゲートアレイLSIの入出力兼用
セルでは、NMOS領域とバイポーラトランジスタ領域
とを分離し、NMOS領域はP型ウェル電位を固定電位
に接続するためのストッパーに囲まれ、バイポーラトラ
ンジスタ領域は半導体基板の電位を固定電位に接続する
ためのストッパーで囲まれ、前記各ストッパー領域を各
固定電位に接続するための電源配線が、基板上で絶縁さ
れていることを特徴とする。
[実 施 例] 以下に本発明の一実施例を説明する。
第1図は、本発明の一実施例なるBICMOSゲートア
レイLSIの入出力兼用セルの一部分を示す平面パター
ン図である。NMO3lとバイポーラトランジスタ2は
、それぞれの領域に分離されNMO3Iは、P型ウェル
電位を固定電位に接続するだめのP型ストッパー9に囲
まれ、バイポーラトランジスタP型ストッパー8に囲ま
れている。図に示すとおり、ストッパー8とストッパー
9は分離されており、ストッパー8はコンタクト3を介
して第−層配線5に接続され第−層配線5はホール4を
介して、固定電位を供給する電源配線である第二層配線
lOに接続されている。ストッパー9はコンタクト3を
介して第−層配線5に接続され第−層配線5はホール4
を介して、固定電位を供給する電源配線である第二層配
線11に接続されている。第二層配線lOはバイポーラ
トランジスタ領域専用電源配線であり、第二層配線11
は、MO3FET@域専用電源配線である。
この二つの電源配線は、基板上で絶縁されている。
第2図のような構造をとることで、バイポーラトランジ
スタのスイッチング電流によるノイズは、第二の固定電
位を変動させることはなく、従ってストッパー9の電位
も変動しないため、NMO8の基板電位の変動、電源電
位の変動によるスイツチングスピードの劣化を防止出来
る。
〔発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、次のような効果が得
られる。
MOSFETとバイポーラトランジスタが同一基板上に
形成されているゲートアレイLSIの入出力セルにおい
て、バイポーラトランジスタのスイッチング電流による
ノイズが、NMO3の電源電位及び基板電位を変動させ
ることを防ぎ、スイッチングスピードの劣化を防止でき
るため、MOSFETで構成される回路の高速化が実現
できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示すB I CMOSゲ
ートアレイLSIの入出力兼用セルの一部分を示す平面
パターン図である。 第2図は、従来のBICMOSゲートアレイLSIの入
出力兼用セルの一部分を示す平面パターン図である。 10 ・ MOS バイポーラトランジスタ コンタクト ホール 第−層配線 MOSFETfii域とバイポーラトランジスタ領域の
電源配線として共通 に使用される第二層配線 ウェル電位及び基板電位を固定電位 に接続するためのストッパー領域 基板電位を固定電位に接続するため のストッパー領域 バイポーラトランジスタ領域で電源 配線に使用される第二層配線 ・MO3FET領域で電源配線に使用 される第二層配線 以上 笛70

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(MOSFE
    T)とバイポーラトランジスタが同一半導体基板上に形
    成されているゲートアレイLSI(BICMOSゲート
    アレイLSI)の入出力兼用セルにおいて、前記入出力
    兼用セルが、Nチャンネル絶縁ゲート型電界効果型トラ
    ンジスタ(NMOS)だけを配置する領域とバイポーラ
    トランジスタだけを配置する領域を有していることを特
    徴とする半導体装置。
  2. (2)前記Nチャンネル絶縁ゲート型電界効果トランジ
    スタ(NMOS)だけを配置する領域が、Nチャンネル
    絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(NMOS)のP型
    ウェル電位を固定電位に接続するためのストッパー領域
    に囲まれており、前記バイポーラトランジスタだけを配
    置する領域が、半導体基板の電位を固定電位に接続する
    ためのストッパーに囲まれていることを特徴とする請求
    項1記載の半導体装置。
  3. (3)前記Nチャンネル絶縁ゲート型電界効果トランジ
    スタ(NMOS)を囲むストッパー領域を固定電位に接
    続するための電源配線と、前記バイポーラトランジスタ
    領域を囲むストッパー領域を、固定電位に接続するため
    の電源配線とが基板上で絶縁されていることを特徴とす
    る請求項2記載の半導体装置。
JP13226790A 1990-05-22 1990-05-22 半導体装置 Pending JPH0427159A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5714784A (en) * 1995-10-19 1998-02-03 Winbond Electronics Corporation Electrostatic discharge protection device
US7743751B2 (en) 2007-12-27 2010-06-29 Denso Corporation Fuel feed apparatus
US9249264B2 (en) 2007-12-21 2016-02-02 Envont Llc Hybrid vehicle systems

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5714784A (en) * 1995-10-19 1998-02-03 Winbond Electronics Corporation Electrostatic discharge protection device
US9249264B2 (en) 2007-12-21 2016-02-02 Envont Llc Hybrid vehicle systems
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