JPH02164809A - 新規ネイルエナメル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業−１１の利用分野］ 本発明は、新規ネイルエナメルに関するものであり、さ
らに詳しくは、指爪などに施して紫外光により発色Ｉ−
１暗所放置もしくは、可視光照射により消色するフォト
クロミック機能を有する新規ネイルエナメルに関する。

［従来の技術］ 従来、ネイルエナメルにフォトクロミック機能を付与す
る方法とし、て、高分子バインダー中にフォトクロミッ
ク材料を溶解する技術が特公昭５３−６２２２号公報に
示されている。

また、スピロピラン誘導体がビニル重合によって高分子
鎖中に化学的に結合されたフォトクロミックポリマーに
関する技術が特公昭５１−７４８９号公報、特公昭５１
−３０７１１−号公報および特公昭６３−３８０４４号
公報に開示されている。

「発明が解決しようとする課題］ しかしながら、特公昭５３−６２２２号公報の方法によ
ると、フォトクロミック材料が高分子バインダー中から
溶出したり、均一に分散しなかったり、或いは、溶媒揮
散によってフォトクロミック材料が結晶として析出する
などの問題があった。

また、特公昭５１−７４８９号公報等に記載されたフォ
トクロミックポリマーを用いたネイルエナメルは、初期
の紫外光による発色濃度は良好であるが、耐久性、特に
繰り返し発色性試験における耐光性の点で発色濃度の低
下が著しく、フォトクロミック性ネイルエナメルとして
問題であった。

本発明は、フォトクロミック材料が高分子バインダー中
から溶出するなどの問題がなく、かつ耐久性および耐光
性にすぐれた新規ネイルエナメルに関するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上記目的を達成するために下記の構成を有す
る。

すなわち、スピロオキサジン化合物を共重合成分として
含有してなるフォトクロミックポリマー被膜形成材およ
び溶媒とから少なくともなる新規ネイルエナメルに関す
るものである。

本発明におけるスピロオキサジン化合物を共重合成分と
して含有してなるフォトクロミックポリマーとは、重合
性不飽和官能基を有するスピロオキサジン化合物と他の
モノマーとの共重合により得られるフォトクロミック性
を有するポリマーである。かかるスピロオキサジン化合
物と他のモノマーとの共重合は、付加反応、ビニル重合
などの方法によって達成することが可能であるが、とく
に反応の容易さ、添加量コントロールの容易さなどの観
点からビニル基を有するビニル重合が好ましい。また、
ビニル重合としてはイオン重合、ラジカル重合、放射線
重合など、種々の方法が適用可能であるが、スピロオキ
サジン化合物の分解を防止するという意味から、とくに
、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ系ラジカル開
始剤によるラジカル重合が好ましく適用される。

本発明におけるフォトクロミック特性を付与するスピロ
オキサジン化合物としては、スピロオキサジン化合物で
あればいかなるものであってもよく、スピロナフトオキ
サジン、スピロベンゾオキサジンおよびスピロピリドベ
ンゾオキサジンなどが挙げられ、下記構造式で示される
基本骨格に重アクリロキシエチルー３，３−ジメチルイ
ンドリノスピロナフトオキサジン、１−（メタ）アクリ
ルアミドエチル−３，３−ジメチルインドリノスピロナ
フトオキサジン、１．　３．　３−トリメチル９′−（
メタ）アクリロキシインドリノスピロナフトオキサジン
、１，３，３−トリメチル−５＝（メタ）アクリロキシ
メチルインドリノスピロナフトオキサジン、１．　３．
　３−１リメチル９′−ビニルベンゾイロキシインドリ
ノスピロナフトオキサジン、１．　３．　３−トリメチ
ル−６′−メタクリロキシスピロ［インドリン−２，２
′［２Ｈ］−フェフテンスロ［９，１０−ｂ］（１，４
）オキサジン］、１−イソプロピル−３゜３．５−トリ
メチル−９′−メタクリロキシスピロ［ベンズ（ｇ）イ
ンドリン−２，３−−［３Ｈ］−ナフト［２，１−ｂ］
　　（１，４）オキサジン］、１−ベンジル−３，３−
ジメチル−９′−メタクリロキシスピロ［ベンズ（ｈ）
インドリン−２゜３”−［３Ｈ］　−ナフト［２，１−
ｂ］　　（１，４）オキサジン］、１−ベンジル−３，
３−ジメチル６′−メタクリロキシスピロ［ベンズ（ｇ
）インドリン−２，２”［フェナンス口［９，１０ｂ］
　　（１，４）オキサジン］、１．　３．　３．　４−
テトラメチル−６′−メタクリロキシスピロ［ベンズ（
ｈ）インドリン−２，２′−［２Ｈ］フエナンスロ［９
，１０−ｂ］　　（１，４）オキサジン］などが挙げら
れる。

また、これらの重合性不飽和官能基を有するフォトクロ
ミック化合物との共重合成分としては、同様にビニル基
を有するモノマーが好ましい。かかるモノマーの具体例
としては、スチレン、スチレン誘導体、（メタ）アクリ
ル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシ
アルキルエステル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アク
リルアミド、アルキル置換（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−置換マレイミド、無水マレイン酸、（メタ）アクリロ
ニトリル、メチルビニルケトン、酢酸ビニル、塩化ビニ
リデン、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、その他多官能（メタ）アクリル酸エ
ステル化合物等が挙げられる。

また、これらフォトクロミックポリマー中に含まれるス
ピロオキサジン化合物の含有量は、発色濃度およびコス
ト等の点から０．　５重量％がら５０重量％が好ましい
。

本発明における第２の成分である被膜形成材としては、
例えば、シェラツク、ダンマル、エレミ、サンダラック
等の天然樹脂類、アルキルド樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラール、ポリエステル、スルホンアミド樹
脂等の合成樹脂類、セルロースアセテートブチレート等
のセルロース誘導体類等の被膜形成性が良好で、付着力
、流動力、耐水力等にすぐれている公知のものを使用す
ることができる。

とくにセルロースアセテートやセルロースプロピオネー
トなどのセルロース誘導体が造膜性、膜強度の点から好
ましい。

また、フォトクロミックポリマーと被膜形成材との配合
割合は、フォトクロミックポリマーの種類および要求さ
れる発色濃度等によって異なるが、通常は重量部で５：
９５から９５，５の範囲が好ましく用いられる。すなわ
ち、フォトクロミックポリマーが５重量％未満の場合は
、ネイルエナメルの発色濃度が低くなり、目的とするフ
ォトクロミック効果が得られにくくなる。一方、９５重
量％を越えると指爪に対する密着性、耐摩擦性および光
沢などの特性が低下するという問題が生じ易い。

本発明における第３成分である溶媒は、フォトクロミッ
クポリマーおよび被膜形成材を溶解させることが主目的
ではあるが、その他マニキュア操作を容易にずべく加え
られ、乾燥、被膜形成の点で仕上りに大きな影響を及ぼ
すものである。

溶媒としては、一般には上記の特性を満足すべく前記被
膜形成材およびフォトクロミックポリマの溶媒である真
正溶剤と、前記被膜形成材の溶媒ではない潜在的溶剤と
を使用することができる。

上記の潜在的溶剤は真正溶剤と併用したとき真正溶剤の
強度を増す作用があるものである。

而して、上記の真正溶剤、潜在的溶剤としては特に制限
はなく、前記の被膜形成材およびフォトクロミックポリ
マーの種類等によって、例えば、アルコール系溶剤、エ
ステル系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤、エーテ
ル系溶剤等の公知の溶剤から任意に選択して使用するこ
とができる。

なお、本発明にがかるネイルエナメル組成物は、」二記
のような材料からなることを基本構成とするものである
が、本発明においてはその他、例えば、組成物が乾燥し
た後の被膜に弾力性を付与するための軟化剤、乾燥被膜
が爪の甲によく密着して剥離しにくくするための固着剤
、着色するための色素等を配合することができる。

−に記において軟化剤としては、例えば、ジブチルフタ
レートが粘度が高くて好ましいものであるが、その他、
トリブチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、ジオクチルフタレート、ジ
ブトキシエチルフタレート、シアミルフタレート、ベン
ジルベンゾエート、ブチルステアレート等の可塑剤を使
用することができる。

また、上記において固着剤としては、例えば、前記被膜
形成材としてのダンマル、エステルガム、サンダラック
等の樹脂類を使用することができる。

次にまた、上記において色素としては、例えば、赤、褐
色、黄色系の色素、その他等を使用することができ、具
体的には、赤、黄色レーキ色素、二酸化チタン、黄また
は赤色酸化鉄、ウルトラマリン青、酸化クロムなどをあ
げることができる。

さらに、ネイルエナメルの耐光性および着色濃度の向上
を目的に、フォトクロミックポリマーおよび被膜形成材
中に光安定剤および増感剤などを添加することも好まし
い。

本発明の新規ネイルエナメルにおいて、該エナメル中に
含まれるスピロオキサジン化合物含有フォトクロミック
ポリマーおよび被膜形成材などの固形分は、１０重量％
から３５重量％の範囲内で好ましく用いられる。

［実施例］ 以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。

実施例　１ メチルメタクリレート３５重量部、ｎ−ブチルメタクリ
レート５５重量部、１−（３−メチルベンジル）−３，
３−ジメチル−９′−メタクリロキシスピロ［インドリ
ン−２，３−−［３Ｈ］　−ナフト［２，１−ｂ］　　
（１，４）オキサジ２１１０重量部をアゾビスジメチル
バレロニトル０．５重量部を開始剤として、トルエン１
００重量部中で窒素雰囲気下で重合温度７０℃にて１０
時間重合させた。

次に、得られたこのフォトクロミックポリマー溶液２０
重量部、ＣＡＢ５５１−０．０１　（長潮産業■製、セ
ルロースアセテートブチレート）１０重量部をトルエン
１０重量部、酢酸ブチル２０重量部、酢酸エチル２０重
量部に溶解して新規ネイルエナメルを調整した。

このエナメルを指爪に塗布した被膜は、すぐれた光沢と
肉持感を有し、紫外光を照射すると６００ｎｍの最大吸
収波長を有する青色に発色した。

さらに、この塗布した被膜は、３日間の着用テストでも
良好な発色濃度を示し、指爪に対する密着性にもすぐれ
ていた。

実施例　２ メチルメタクリレート３５重量部、ｎ−ブチルメタクリ
レート５５重量部、１−（２，４−ジクロロメチルベン
ジル−５，６−ジクロロ−３，３ジメチル−９′−メタ
クリロキシスピロ［インドリン−２，３”　［３Ｈ］　
−ナフト［２，１６］　　（１，４）オキサジ２１１０
重量部をアゾビスジメチルバレロニトリル０．５重量部
を開始剤として、酢酸エチル１００重量部中で実施例１
と同様に重合を行った。

次に、得られたこのフォトクロミックポリマー溶液２０
重量部、ＣＡＢ３８１−２　（長潮産業■製、セルロー
スアセテートブチレート）１０重量部を酢酸エステル３
０重量部、酢酸ブチル４０重量部に溶解して新規ネイル
エナメルを調整した。

このエナメルを実施例１と同様に指爪に塗布した被膜は
、すぐれた光沢と肉持感があり、紫外光を照射すると５
７０ｍｍの最大吸収波長を持つ紫色に発色した。さらに
、この塗布した被膜は、３日間の着用テストでも良好な
発色濃度を示し、耐摩擦性および密着などにもすぐれて
いた。

［比較例］ ６′−ビニル−８′−二トロー１．３．３−トリメチル
インドリノベンゾスピロピラン　１ｇをスチレン　９ｇ
に溶解し、ベンゼン溶媒中でアゾビスイソブチロニトリ
ルを開始剤として重合温度７０℃にて１０時間重合させ
た。この共重合ポリマー溶液を指爪に塗布した被膜は、
紫外光を照射すると６１８　ｎｍの最大吸収波長を有す
る青色に発色するが、繰り返し発色後における発色濃度
の低下が大きくフォトクロミックマニキュアとしての実
用性に欠けるものであった。

［発明の効果コ 本発明の新規ネイルエナメルは、耐久性、耐光性にすぐ
れたスピロオキサジン化合物をポリマー中に共重合によ
り含有させたフォトクロミックポリマーを用いた点を特
徴としており、このため耐久性、耐光性に優れ、かつ被
膜形成材との相溶性、エナメル溶液の保存安定性にも良
好であるといった効果を有する。

さらに、該ネイルエナメルを通常のマニキュア操作で指
爪に施した被膜は、耐摩擦性および密着性にすぐれ、目
標とされる３日程度の着用テストでも良好な発色濃度を
示す。

また、フォトクロミック化合物がポリマーとして存在し
ているため、安全性にも有効なものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. スピロオキサジン化合物を共重合成分として含有してな
   るフォトクロミックポリマ、被膜形成材および溶媒とか
   ら少なくともなる新規ネイルエナメル。