JPH02163377A - 仕込・取出室 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、基板に薄膜を形成したり、あるいは基板上
の薄膜を微細加工する真空処理室に連接される仕込室や
取出室等の仕込・取出室に関するものである。

（従来の技術） インライン式真空処理装置では、一般に、基板に薄膜を
形成したり、あるいは基板上の薄膜を微細加工する真空
処理室の入口側に基板の仕込室が連接され、また出口側
に基板の取出室が連接されている。

従来の仕込室や取出室の仕込・取出室は、第１０図〜第
１３図に示されている。これら図において、仕込・取出
室の真空室１の室壁には、両側に基板２を着脱自在に取
付けた縦型π板ホルダ３を搬入させる搬入口４と、基板
ホルダ３を搬出させる搬出口５とが設けられ、搬入口４
には、例えば、シリンダ６、ラック７、歯車８、回転軸
９等よりなる開閉機構１０によって開閉させられる大口
弁１１が着座するようになっており、また搬出口５には
、例えば、シリンダ１２、ラック１３、歯車１４、回転
軸１５等よりなる開閉機構１６によって開閉させられる
出口弁１７が着座するようになっている。真空室１の室
内には搬送機構１８が配設され、その搬送機構１８は、
例えば、回転駆動機（図示せず）によって回転させられ
る回転軸２０に固定されたビニオン２１と、このビニオ
ン２１と歯合するラック２２と、このラック２２との間
でバネ（図示せず）で弾圧され、かつラック２２ととも
に移動する、基板ホルダ３を固定する基板ホルダ固定台
２３と、この基板ホルダ固定台２３の前部及び後部にそ
れぞれ取付けられた一対の滑車２４と、この一対の滑車
２４の走行する平行に一対のレール２５とからなってい
る。真空室１の室壁となる天板にはガス導入口２６が設
けられ、また室壁となる水平な底板には真空排気口２７
が設けられている。

そして、第１３図に示すように真空室１のガス導入口２
６には、カス導入開閉弁２８とガス流ｈ１調整弁２９と
を備えたガス導入配管３０か接続され、真空室１の真空
排気口２７には、排気開閉弁３１と排気速度調整弁３２
とをとを備えた真空排気配管３３が接続されている。

しかしながら、従来の仕込・取出室は、真空室１内にお
いて、真空室１内の気流の流れを調整する手段が設けら
れていなかった。

（発明が解決しようとする課題） 従来の仕込・取出室は、上記のように真空室ｌ内におい
て、真空室１内の気流の流れを調整する手段が設けられ
ていなかったため、ガス導入配管２９よりガスを真空室
ｌ内に導入して、真空室１内を大気圧に戻すときにや、
反対に、真空排気配管３２より真空室１内を真空排気す
るときに、真空室ｌ内で気流の乱れが生じ、真空室１内
のダストが攪拌され、基板２にダストが付着する問題か
あった。そこで、このダストの付着を防止するために、
真空室１内の気流の流れに乱れが生じないように、ゆっ
くりと大気圧に戻したり、あるいはゆっくりと真空室１
内、を真空排気すれば、その排気時間が長時間になる問
題があった。更に、水平な底板に真空排気口２７を設け
ていたため、真空室１内を真空排気するときには、真空
排気口２７の入口近傍の空間において、渦が発生し、そ
の渦によって、真空排気口２７の入口近傍の空間で気流
の乱れがおこる問題があった。

次の第１表は、約１０００ｊ？の容積の真空室１内を真
空排気したとき、５インチウェハーの表面に付着した径
０．５μ以上のダストの量を示してｔする。

第」−表 この発明は、従来の問題を解決して、真空排気や大気圧
への戻しをゆっくりと行なわなくても、基板に付着する
ダストの量を少なくすることのできる仕込・取出室を提
供することを目的としている。

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、この発明は、上記のような
構成をした仕込・取出室において、基板ホルダの基板を
着脱自在に取付けた側に、基板ホルダと所定の間隔をも
って配設した整流板と、基板及び基板ホルダの表面に沿
ってガスを流すために、ガスを噴出して、基板ホルダと
整流板との間の空間に噴出したガスを流すガス噴出口付
ガス導入管とを備えたことを特徴とするものである。

（作用） この発明において、ガス噴出口付ガス導入管より噴出さ
れたガスは、基板ホルダと整流板との間の空間で、基板
及び基板ホルダの表面に沿ってガスが流れる。そのため
、真空排気口より真空排気しているときや、真空室内に
ガスを導入して真空室内を大気圧に戻すときに、真空室
内で気流の乱れがあったとしても、整流板と対向した基
板の表面は、常に、ガス噴出口付ガス導入管より噴出さ
れたガスにより、真空排気口方向に整流された流れが形
成され、基板の表面における気流の乱れが防止される。

また、真空室内を真空排気する真空ＩＪＦ気ポンプを大
容量のものにすれば、気流の乱れが防止するために多量
のガスを流しても、排気時間が長くなることがなくなる
。

（実施例） 以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。

基板の仕込室は、基板に薄膜を形成したり、あるいは基
板上の薄膜を微細加工する真空処理室の入口側に連接さ
れ、また基板の取出室は、真空処理室の出口側に連接さ
れる。

そこで、この発明の第１実施例である仕込室や取出室の
仕込・取出室は第１図〜第５図に示されている。これら
の図に示される符号のうち、従来の仕込・取出室を示す
第１Ｏ図〜第１３図の符号と同符号のものは、従来のも
のと同等につき、その説明を省略するが、この発明の第
１実施例では、従来のものと違って、真空室１の一方の
室壁の上下にはブラケット５１８１．５１ａ、が取付け
られ、そのブラケット５１ａ、、　５　ｔｉｌｔには石
英ガラスでできた整流板５２ａが縦に固定されている。

そのため、整流板５２ａは、縦型基板ホルダ３の基板２
を着脱自在に取付けた側に、縦型基板ホルダ３と所定の
間隔をもって配設されている。また、真空室１の他方の
室壁の上下には、ブラケット５１ｂ、、５１ｂ、が取付
けられ、そのブラケット５１ｂ。

５１ｂ、には石英ガラスでできた整流板５２ｂが縦に固
定されている。そのため、整流板５２ｂは、縦型基板ホ
ルダ３の基板２を着脱自在に取付けた側に、縦型基板ホ
ルダ３と所定の間隔をもって配設されている。そして、
整流板５２ａ、５２ｂは縦型基板ホルダ３を挟んで、平
行な一対の整流板を形成している。真空室ｌの天板には
ブラケット５３が取付けられ、このブラケット５３には
ガス導入管５４が、縦型基板ホルダ３の上端の上方に位
置するように固定されている。ガス導入管５４は、縦型
基板ホルダ３の上端向き、即ち下向きにガスを噴出する
複数のガス噴出口（図示せず）をもっている。したがっ
て、ガス導入管５４のガス噴出口より噴出されたガスは
、縦型基板ホルダ３と整流板５２ａとの間の空間、及び
縦型基板ホルダ３と整流板５２ｂとの間の空間を上部よ
り下方に向かって、基板２及び縦型基板ホルダ３の表面
に沿って流れ、そして、上記空間の下部より流出し、真
空排気口２７より排気される。真空排気口２７は室壁と
なる傾斜した底板１ａの最下部に設けられている。なお
、ガス導入管５４は、真空室ｌの外において、ガス導入
開閉弁５５と、ガス流量調整弁５６とを備えている。ま
た、真空排気管３２に接続されている真空排気ポンプ（
図示せず）は、従来の技術で使用されてきた真空排気ポ
ンプの２倍以上の排気速度をもっている。

この第１実施例では、上記のようにガス導入管５４のガ
ス噴出口より噴出されたガスが、縦型基板ホルダ３と整
流板５２ａとの間の空間、及び縦型基板ホルダ３と整流
板５２ｂとの間の空間を上部より下方に向かって、基板
２及び縦型基板ホルダ３の表面に沿って流れるため、真
空排気口２７より真空室ｌ内を真空排気するときには、
基板２と整流板５２ａ　　５２ｂとの間において、常に
、ガスは乱れを生ぜず、整流となっており、基板２の表
面に付着するダストの量が非常に少なくなる。

又、ガス導入口２６より真空室１内にガスを導入して、
真空室１内を急激に真空から大気圧に戻すときも、ガス
導入管５４のガス噴出口より噴出されたガスは、基板２
と整流板５２ａ　　５２ｂとの間において、常に、乱れ
を生じることなく、整流となって流れるため、基板２の
表面にはダストが付着しずらくなる。更に、真空排気口
２７が室壁となる傾斜した底板１ａの最下部に設けられ
ているため、真空排気時、ガスは傾斜した底板１ａに沿
って流れ、真空排気口２７の入口近傍の空間において、
渦が発生しなくなり、気流の乱れがなくなる。

次に、第２表は、第１表と同様に、約１０００１の容積
の真空室ｌ内を真空排気したとき、５インチウェハーの
表面に付着した径０．５μ以上のダストの量を示してい
る。

第」し表 第１表と第２表とを比較すると、この発明の第１実施例
によれば、ゆるやかな排気を行なわなくても、基板の表
面へのダストの付着を防止できることがわかる。

なお、第１実施例を示す図において、５８．５９は基板
２等を加熱するランプヒータ、６０はガス導入管５４の
回りに配設された笠である。

次に、第６図〜第９図はこの発明の第２実施例を示して
いる。第２実施例は、整流板５２ａ　５２ｂが金属製で
ある点と、基板２等を加熱するランプヒータがない点と
において、第１実施例と相違しているが、その他の点は
第１実施例と同様につき、その説明を省略する。

ところで、上記第１及び第２実施例は縦型基板ホルダ３
を使用しているが、これに限定されることなく、横型基
板ホルダを使用してもよい。その場合には、平行な一対
の整流板も横になると共に、ガス導入管のガス噴出口よ
り噴出されるガスも横向きとなる。また、上記第１及び
第２実施例のガガス導入管のガス噴出口は多数の穴より
できているが、穴の代りに、スリット状であってもよい
。

更に、上記第１及び第２実施例は縦型基板ホルダ゛３の
両側にそれぞれ基板２を着脱自在に取付けてているため
、縦型基板ホルダ３の両側に整流板５２ａ１５２ｂを配
設しているが、これに限定されることなく、基板を着脱
自在に取付けている側が基板ホルダの片側だけであれば
、基板ホルダの片側だけに整流板を、基板ホルダと所定
の間隔をおいて配設してもよい。基板ホルダの片側だけ
に整流板を配設するのは、縦型基板ホルダに限らず、横
型基板ホルダの場合も同様である。

（発明の効果） この発明は、上記のような構成をし、ガス噴出口付ガス
導入管より噴出されたガスは、基板ホルダと整流板との
間の空間で、基板及び基板ボルダの表面に沿ってガスが
流れる。そのため、真空排気口より真空排気していると
きや、真空室内にガスを導入して真空室内を大気圧に戻
すときに、真空室内で気流の乱れがあったとしても、整
流板と対向した基板の表面は、常に、ガス噴出口付ガス
導入管より噴出されたガスにより、真空排気口方向に整
流された流れが形成され、基板の表面における気流の乱
れが防止される。そのため、真空排気や大気圧に戻すの
をゆっくりとしなくても、基板の表面に付着するダスト
の量が少なくなる等の効果をもっている。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図はこの発明の第１実施例を示しており、
第１図は縦断面図、第２図は第１図のＩｌ線で切断した
断面図、第３図は一部切欠横断面図、第４図は左側面図
、第５図は説明図である。 第６図〜第９図はこの発明の第２実施例を示しており、
第６図は縦断面図、第７図は第６図の■■線で切断した
断面図、第８図は一部切欠横断面図、第９図は右側面図
である。第１０図〜第１３図は従来の仕込・取出室を示
しており、第１０図は縦断面図、第１１図は第１０図の
■−■線で切断した断面図、第１２図は一部切欠横断面
図、第１３図は説明図である。 図中 １・・・・・・・・真空室 １ａ・・・・・・・・底板（傾斜した室壁）２・・・・
・・・・基板 ３・・・・・・・・基板ホルダ 】８・・・・・・・・搬送機構 ２７・・・・・・・・真空排気口 ５２ａ　・・・・・・・整流板 ５２ｂ　・・・・・・・整流板 ５４・・・・・・・・ガス導入管 特許出願人　日本真空技術株式会社 第５図 第８図 第 ２図 第９図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板を着脱自在に取付けた基板ホルダを搬送する搬
   送機構を室内に備え、真空排気口より室内を真空排気し
   たり、あるいは真空排気された室内に気体を導入して、
   室内を大気圧に戻す仕込・取出室において、上記基板ホ
   ルダの基板を着脱自在に取付けた側に、上記基板ホルダ
   と所定の間隔をもって配設した整流板と、上記基板及び
   基板ホルダの表面に沿ってガスを流すために、ガスを噴
   出して、上記基板ホルダと整流板との間の空間に噴出し
   たガスを流すガス噴出口付ガス導入管とを備えたことを
   特徴とする仕込・取出室。 ２、上記基板ホルダの両側に上記整流板を配設している
   ことを特徴とする請求項１記載の仕込・取出室。 ３、仕込・取出室の一部の室壁を傾斜させ、この傾斜し
   た室壁に上記真空排気口を設けたことを特徴とする請求
   項１又は２記載の仕込・取出室。