JPH02154733A - 眼屈折力測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は眼屈折力測定装置、特に小児から乳幼児に対し
ても有用である眼屈折力測定装置に関するものである。

［従来の技術］ 従来、眼屈折力測定装置としては、被検者の応答を基に
眼屈折力を測定する所謂自覚式検眼器、被検眼を他覚的
に測定する所謂オートレフラクトメータ等の装置が知ら
れている。

然し乍ら、この種の装置で乳幼児の測定を行なう場合、
乳幼児の協力を得られない為自覚式検眼器では測定がで
きず、又一般のオートレフラクトメータでは被検眼の位
置を固定しなくてはならないが、乳幼児の場合被検眼の
位置の固定が難しく、測定は極めて困難であるという欠
点を有していた。

これらの欠点を解消する為、ストロボ光で被検眼眼底を
照明し、被検眼の瞳孔での光束の状態をカメラで撮影し
、その結果から被検眼の眼屈折力を測定するいわゆるフ
オトレフラクション方式の測定方法が提案されている。

このフォトレフラクション方式の測定に於いては、被検
眼の光軸が少しずれても充分に測定をすることができ、
被検眼を固定することが囲器である乳幼児の眼屈折力の
測定には有用であるとされているものである。

［発明が解決しようとする課題］ 然し乍ら、ストロボを使用している為、非常に眩しくこ
の種の測定は被検者にとって苦痛なものであった。

更に、被検眼の視線を固定する手段がない為め、正確な
測定ができず、又、一般のカメラで撮影する為、撮影さ
れたフィルム面での像を解析し、この解析から眼屈折力
を算出しなくてはならず、測定結果を瞬時に得られない
という欠点も有しているものである。

本発明は、上記実情に鑑みなしたものであり、瞬時に高
精度の測定結果を得ることができると共に被検者に苦痛
を与えることがない眼屈折力測定装置を提供しようとす
るものである。

［課題を解決する為の手段］ 本発明は、被検眼眼底に不可視光の光源像を投影する為
の投影系と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素
子上に前記眼底からの光束を集光する為の受光系と、受
光系の光路内に配置され受光光束の一部を遮光する為の
遮光部材と、注視目標からの光束を被検眼に向けて投光
する注視目標系とを有し、前記受光素子上に投影された
光束の形状又は光量分布状態を基に被検眼の眼屈折力を
測定し得る様に構成したことを特徴とするものである。

［作　　用］ 注視目標系に視線を向けることにより視線が固定され、
この状態で測定が行われ、又測定では被検眼の眼屈折力
の相違により、遮光部材による光束を遮光する状態が異
なってくる４この遮光の状態と眼屈折力とは対応し、受
光素子に投影された光束の状態、即ち形状、光量分布を
基に眼屈折力を測定できる。更に、測定光は不可視光で
あるので測定は被検者が不感知のまま行われ、苦痛を与
えることがない。

［実　施　例］ 以下図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。

１は光源像を被検眼３の眼底７に投影する為の投影系で
あり、２は眼底７により反射された光束１０を受光する
為の受光系であり、１３は注視目標からの可視光束を眼
底７に投光する為の注視目標系であり、前記投影系１及
び受光系２は被検眼３に対向して配置される。

前記投影系１は、赤外線等の不可視光を発する光源４及
び光源４からの光束１１を被検眼３に向けて反射させる
為の第１のハーフミラ−５から成り、該投影系１は光源
４からの光束１１を瞳孔６を通して眼底７上に光源４の
像を形成する様に投影する。

前記受光系２は、対物レンズ８及び光電素子９から成り
、眼底７からの光束１０は第１のハーフミラ−５を透過
して光電素子９上に導かれる。

該光電素子９は、エリアＣＯＤ、撮像管或は２以上の光
電素子の集合体であり、光電素子９の光電面９ａは対物
レンズ８に関して被検眼３の瞳孔６と共役位置に配！さ
れる。

前記受光系２の光路内には、被検眼３の眼屈折力が基準
ディオグター値の場合に光源像が形成される位置に、対
物レンズ８の光軸０を境界として光束１０の片側を遮光
する為のエッチ状の遮光部材１２を配置する。

前記注視目標系１３は注視目標１４と該注視目標１４か
らの光束１８を被検眼眼底７に向けて投光結像させるレ
ンズ１５と、該レンズ１５からの光束１８を投影系１の
光軸に向かって反射させる為のミラー１６と、測定機の
光軸上に配置され、且被検眼３と第１ハーフミラ−との
間に設けられ、該光束１８の光軸を測定機の光軸と合致
させ眼底７に投光させる第２ハーフミラ−１７から成っ
ている。

又、前記光電素子９には演算器１９が接続され、該演算
器３は光な素子９の受光状態を演算し、その結果を表示
器２０に出力する様になっている。

以下作用を説明する。

先ず、眼屈折力の測定は被検者に注視目標１４を注視さ
せ、被検眼３の光軸を受光系２の光軸に合致させ該光軸
に固定した状態で行われる。

光源４より投光された不可視光は第１ハーフミラ−５で
反射し、眼底７投影された後第１ハーフミラ−５を通過
し、更に対物レンズ８によって光電面９ａ上に結像され
る。

この眼屈折力の測定中、被検者は光源４からの光を何等
感知することがなく、苦痛無く測定が行える。

次に、眼屈折力の測定について説明する。

第１図（＾）に示す様に、被検眼３が遮光部材１２の後
方即ち光電素子９側に光源像が形成される様なデイオプ
ター値（被検眼のデイオプター値が基準デイオプター値
に比べて負のデイ第１ター値）の場合には、対物レンズ
８に入射する光束１０の下半分（斜線部分）が遮光され
、光電素子９の光電面９ａには第２図（Ａ）に示す様な
光軸０を中心とした下半円形状の光束か形成される。

一方、第１図（Ｂ）に示す様に、被検眼３が遮光部材１
２上の光軸０の点に光源像が形成される様なデイオプタ
ー値（被検眼のデイ第１ター値が基準デイオプター値）
の場合、光束１０は遮光部材１２４ごよって遮られない
ので光電面９ａには第２図（Ｂ）に示す様な光軸Ｏを中
心としな円形状の光束が形成される。

又、第１図（Ｃ）に示す様に、被検眼３が遮光部材１２
の前方に光源像が形成される様なデイオプター値（被検
眼のデイオプター値が基準デイオプター値より正の場合
）には、光電面９ａには第２図（Ｃ）に示す様な光軸Ｏ
を中心とした上半円形状の光束が形成される。又、デイ
オプター値の大小により、光電面９ａに形成される光束
の径が変化する。

光電素子９はこの光電面９ａに形成される光束の形状及
び大きさを検出する為のものであり、前記演算器１９は
光電素子９からの信号を基に、光電面９ａ上に形成され
る光束の形状及び大きさを検出し、基準となるデイオプ
ター値に対し被検眼の眼屈折力が正か負かを判断すると
共にその絶対値を演算し、演算結果を表示器２０に出力
し、表示器２０は求められた結果を表示する。

尚、前述の説明は、光源４が微小面積である場合につい
であるが、光源４がある大きさを持った発光面積を有す
る場合でも、光電面９ａに投影される光束は同様な傾向
を示す、以下説明する。

光源４が発光面積を有する場合、−点に集束しない、従
って、遮光部材１２で、光束１０を遮った場合、第２図
（八）（Ｃ）で示した様に完全に円を欠切した光束の形
状とならず、第２図（Ａ）（Ｃ）中２点鎖線で示す光束
を含んだものとなり、而もＸ軸方向に光量分布の変化す
るものとなる。

第３図（Ａ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部材
１２の後方に光源像が形成される場合のＸ軸に沿った方
向での光束の光量分布を示すものであり、光量は下方か
ら上方に行くに従い漸次減少する。

第３図（Ｂ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部材
１２上で光源像が形成される場合を示し、この場合の光
束の光量分布は均一となる。

第３図（Ｃ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部材
１２の前方に光源像が形成される場合を示し、この場合
の光束の光量分布は下方から上方に行くに従い漸次光量
が増加する。

而して、眼屈折力絶対値が大になるに従い、光量分布の
傾きは大きくなる。

光源４がある発光面積を有する場合には、前記演算器１
９はこの光量分布の傾き角度を演算するもので、傾き角
度の正負で、基準デイオプター値に対する被検眼屈折力
の方向を判断し、且傾き角度の絶対値で眼屈折力の絶対
値を演算する。前記表示器２０はこの演算結果を表・示
する。

尚、上記実施例では光束分離手段として第１のハーフミ
ラ−５を使用したが、ビームスプリッタ−５漏光プリズ
ム等種々の光束分離手段を用い得ることは勿論である。

又、第２のハーフミラ−の代わりにダイクロイックミラ
ー（波長選択反射鏡）を用い可視光のみ反射させ、不可
視光を通過するようにすれば不可視光が無駄無く利用で
きて経済的である。更に、不可視光として近赤外線を用
いれば眼球に対しての刺激が緩和される。更に又、上記
実施例中のミラー１６を省略してらよく、或は第２のハ
ーフミラ−１７を第１のハーフミラ−５と遮光部材１２
との間に設けてもよいなど、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々変更を加え得ることは言うまでもない。

［発明の効果］ 以上述べた如く本発明によれば、受光系は受光素子を用
いているので測定結果は瞬時に得られると共に被検者に
苦痛を与えることなく精度のよい測定ができるという優
れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明の基本概略及び被検
眼のデイオプター値の相違による光束の状態の相違を示
す説明図、第２図（Ａ）　（Ｂ）　（Ｃ）は第１ＩＪ　
（Ａ）　（Ｂ）　（Ｃ）に対応する充電面の光束の状態
を示す説明図、第３図（＾）（Ｂ）（Ｃ）は光源がある
発光面積を有する場合の光電面の光束の光量分布を示す
図である。 １は投影系、２は受光系、３は被検眼、４は光源、５は
第１のハーフミラ−１８は対物レンズ、９は光電素子、
１３は注視目標系、１４は注視目標、１７は第２のハー
フミラ−を示す。 特　　許　　出　　願　　人 東京光学機械株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）被検眼眼底に不可視光の光源像を投影する為の投影
   系と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子上に
   前記眼底からの光束を集光する為の受光系と、受光系の
   光路内に配置され受光光束の一部を遮光する為の遮光部
   材と、注視目標からの光束を被検眼に向けて投光する注
   視目標系とを有し、前記受光素子上に投影された光束の
   形状又は光量分布状態を基に被検眼の眼屈折力を測定し
   得る様に構成したことを特徴とする眼屈折力測定装置。 ２）測定機光軸上に配置したダイクロイックミラーによ
   り注視目標からの光束を被検眼に向けて投光する様にし
   た請求項第１項記載の眼屈折力測定装置。