JP2775269B2 - 眼屈折力測定装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は眼屈折力測定装置、特に小児から乳幼児に対
しても有用である眼屈折力測定装置に関するものであ
る。

［従来の技術］ 従来、眼屈折力測定装置としては、被検者の応答を基
に眼屈折力を測定する所謂自覚式検眼器、被検眼を他覚
的に測定する所謂オートレフラクトメータ等の装置が知
られている。

然し乍ら、この種の装置で乳幼児の測定を行なう場
合、乳幼児の協力を得られない為自覚式検眼器では測定
ができず、又一般のオートレフラクトメータでは被検眼
の位置を固定しなくてはならないが、乳幼児の場合被検
眼の位置の固定が難しく、即は極めて困難であるという
欠点を有していた。

これらの欠点を解消する為、ストロボ光で被検眼眼底
を照明し、被検眼の瞳孔での光束の状態をカメラで撮影
し、その結果から被検眼の眼屈折力を測定するいわゆる
フォトレフラクション方式の測定方法が提案されてい
る。

このフォトレフラクション方式の測定に於いては、被
検眼の光軸が少しずれても充分に測定をすることがで
き、被検眼を固定することが困難である乳幼児の眼屈折
力の測定には有用であるとされているものである。

［発明が解決しようとする課題］ 然し乍ら、ストロボを使用している為、非常に眩しく
この種の測定は被検者にとって苦痛なものであった。

更に、被検眼の視線を固定する手段がない為め、正確
な測定ができず、又、一般のカメラで撮影する為、撮影
されたフィルム面での像を解析し、この解析から眼屈折
力を算出しなくてはならず、測定結果を瞬時に得られな
いという欠点も有しているものである。

本発明は、上記実情に鑑みなしたものであり、瞬時に
高精度の測定結果を得ることができると共に被検者に苦
痛を与えることがない眼屈折力測定装置を提供しようと
するものである。

［課題を解決する為の手段］ 本発明は、被検眼眼底に不可視光の光源像を投影する
為の投影系と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置された受
光素子と、前記受光素子上に前記眼底からの光束を集光
する受光系と、前記眼底からの光束の一部を遮光するよ
うに該受光系の光路内に配置されるエッヂ状の遮光部材
と、注視目標からの光束を被検眼に向けて投光する注視
目標系とを有し、前記受光素子上に投影された光束の形
状又は光量分布状態を基に被検眼の屈折力を測定し得様
に構成したことを特徴とするものである。

［作用］ 注視目標系に視線を向けることにより視線が固定さ
れ、この状態で測定が行われ、又測定では被検眼の眼屈
折力の相違により、遮光部材による光束を遮光する状態
が異なってくる。この遮光の状態と眼屈折力とは対応
し、受光素子に投影された光束の状態、即ち形状、光量
分布を基に眼屈折力を測定できる。更に、測定光は不可
視光であるので測定は被検者が不感知のまま行われ、苦
痛を与えることがない。

［実 施 例］ 以下図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。

１は光源像を被検眼３の眼底７に投影する為の投影系
であり、２は眼底７により反射された光束10を受光する
為の受光系であり、13は注視目標からの可視光束を眼底
７に投光する為の注視目標系であり、前記投影系１及び
受光系２は被検眼３に対向して配置される。

前記投影系１は、赤外線等の不可視光を発する光源４
及び光源４からの光束11を被検眼３に向けて反射させる
為の第１のハーフミラー５から成り、該投影系１は光源
４からの光束11を瞳孔６を通して眼底７上に光源４の像
を形成する様に投影する。

前記受光系２は、対物レンズ８及び光電素子９から成
り、眼底７からの光束10は第１のハーフミラー５を透過
して光電素子９上に導かれる。

該光電素子９は、エリアCCD、撮像管或は２以上の光
電素子の集合体であり、光電素子９の光電面9aは対物レ
ンズ８に関して被検眼３の瞳孔６と共役位置に配置され
る。

前記受光系２の光路内には、被検眼３の眼屈折力が基
準ディオプター値の場合に光源像が形成される位置に、
対物レンズ８の光軸Ｏを境界として光束10の片側を遮光
する為のエッヂ状の遮光部材12を配置する。

前記注視目標系13は注視目標14と該注視目標14からの
光束18を被検眼眼底７に向けて投光結像させるレンズ15
と、該レンズ15からの光束18を投影系１の光軸に向かっ
て反射させる為のミラー16と、測定機の光軸上に配置さ
れ、且被検眼３と第１ハーフミラーとの間に設けられ、
該光束18の光軸を測定機の光軸と合致させ眼底７に投光
させる第２ハーフミラー17から成っている。

又、前記光電素子９には演算器19が接続され、該演算
器３は光電素子９の受光状態を演算し、その結果を表示
器20に出力する様になっている。

以下作用を説明する。

先ず、眼屈折力の測定は被検者に注視目標14を注視さ
せ、被検眼３の光軸を受光系２の光軸に合致させ該光軸
に固定した状態で行われる。

光源４より投光された不可視光は第１ハーフミラー５
で反射し、眼底７投影された後第１ハーフミラー５を通
過し、更に対物レンズ８によって光電面9a上に結像され
る。

この眼屈折力の測定中、被検者は光源４からの光を何
等感知することがなく、苦痛無く測定が行える。

次に、眼屈折力の測定について説明する。

第１図（Ａ）に示す様に、被検眼３が遮光部材12の後
方即ち光電素子９側に光源像が形成される様なディオプ
ター値（被検眼のディオプター値が基準ディオプター値
に比べて負のディオプター値）の場合には、対物レンズ
８に入射する光束10の下半分（斜線部分）が遮光され、
光電素子９の光電面9aには第２図（Ａ）に示す様な光軸
Ｏを中心とした下半円形状の光束が形成される。

一方、第１図（Ｂ）に示す様に、被検眼３が遮光部材
12上の光軸Ｏの点に光源像が形成される様なディオプタ
ー値（被検眼のディオプター値が基準ディオプター値）
の場合、光束10は遮光部材12によって遮られないので光
電面9aには第２図（Ｂ）に示す様な光軸Ｏを中心とした
円形状の光束が形成される。

又、第１図（Ｃ）に示す様に、被検眼３が遮光部材12
の前方に光源像が形成される様なディオプター値（被検
眼のディオプター値が基準ディオプター値より正の場
合）には、光電面9aには第２図（Ｃ）に示す様な光軸Ｏ
を中心とした上半円形状の光束が形成される。又、ディ
オプター値の大小により、光電面9aに形成される光束の
径が変化する。

光電素子９はこの光電面9aに形成される光束の形状及
び大きさを検出する為のものであり、前記演算器19は光
電素子９からの信号を基に、光電面9a上に形成される光
束の形状及び大きさを検出し、基準となるディオプター
値に対し被検眼の眼屈折力が正か負かを判断すると共に
その絶対値を演算し、演算結果を表示器20に出力し、表
示器20は求められた結果を表示する。

尚、前述の説明は、光源４が微小面積である場合につ
いてあるが、光源４がある大きさを持った発光面積を有
する場合でも、光電面9aに投影される光束は同様な傾斜
を示す。以下説明する。

光源４が発光面積を有する場合、一点に集束しない。
従って、遮光部材12で、光束10を遮った場合、第２図
（Ａ）（Ｃ）で示した様に完全に円を欠切した光束の形
状とならず、第２図（Ａ）（Ｃ）中２点鎖線で示す光束
を含んだものとなり、而もＸ軸方向に光量分布の変化す
るものとなる。

第３図（Ａ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部
材12の方向に光源像が形成される場合のＸ軸に沿った方
向での光束の光量分布を示すものであり、光量は下方か
ら上方に行くに従い漸次減少する。

第３図（Ｂ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部
材12上で光源像が形成される場合を示し、この場合の光
束の光量分布は均一となる。

第３図（Ｃ）は光源４がある発光面積を有し、遮光部
材12の前方に光源像が形成される場合を示し、この場合
の光束の光量分布は下方から上方に行くに従い漸次光量
が増加する。

而して、眼屈折力絶対値が大になるに従い、光量分布
の傾きは大きくなる。

光源４がある発光面積を有する場合には、前記演算器
19はこの光量分布の傾き角度を演算するもので、傾き角
度の正負で、基準ディオプター値に対する被検眼屈折力
の方向を判断し、且傾き角度の絶対値で眼屈折力の絶対
値を演算する。前記表示器20はこの演算結果を表示す
る。

尚、上記実施例では光束分離手段として第１のハーフ
ミラー５を使用したが、ビームスプリッター、偏光プリ
ズム等種々の光束分離手段を用い得ることは勿論であ
る。又、第２のハーフミラーの代わりにダイクロイック
ミラー（波長選択反射鏡）を用い可視光のみ反射させ、
不可視光を通過するようにすれば不可視光が無駄無く利
用できて経済的である。更に、不可視光として近赤外線
を用いれば眼球に対しての刺激が緩和される。更に又、
上記実施例中のミラー16を省略してもよく、或は第２の
ハーフミラー17を第１のハーフミラー５と遮光部材12と
の間に設けてもよいなど、本発明の要旨を逸脱しない範
囲で種々変更を加え得ることは言うまでもない。

［発明の効果］ 以上述べた如く本発明によれば、受光系は受光素子を
用いているので測定結果は瞬時に得られると共に被検者
に苦痛を与えることなく精度のよい測定ができるという
優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明の基本概略及び被検
眼のディオプター値の相違による光束の状態の相違を示
す説明図、第２図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は第１図（Ａ）
（Ｂ）（Ｃ）に対応する光電面の光束の状態を示す説明
図、第３図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は光源がある発光面積を
有する場合の光電面の光束の光量分布を示す図である。 １は投影系、２は受光系、３は被検眼、４は光源、５は
第１のハーフミラー、８は対物レンズ、９は光電素子、
13は注視目標系、14は注視目標、17は第２のハーフミラ
ーを示す。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被検眼眼底に不可視光の光源像を投影する
   為の投影系と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置された受
   光素子と、前記受光素子上に前記眼底からの光束を集光
   する受光系と、前記眼底からの光束の一部を遮光する様
   に該受光系の光路内に配置されるエッヂ状の遮光部材
   と、注視目標からの光束を被検眼に向けて投光する注視
   目標系とを有し、前記受光素子上に投影された光束の形
   状又は光量分布状態を基に被検眼の屈折力を測定し得る
   様に構成したことを特徴とする眼屈折力測定装置。
2. 【請求項２】前記エッヂ状の遮光部材は、被検眼の屈折
   力が所定値である場合に光源像が形成される位置に配置
   される請求項第１項記載の眼屈折力測定装置。
3. 【請求項３】前記エッヂ部材の遮光部材は、前記受光系
   の光軸を境界として遮光を行う請求項第１項又は請求項
   第２項記載の眼屈折力測定装置。