JP2817792B2

JP2817792B2 - 眼屈折力測定装置

Info

Publication number: JP2817792B2
Application number: JP1074186A
Authority: JP
Inventors: 憲行永井; 康文福間; 昭男梅田; 靖久石倉
Original assignee: Topcon Corp
Current assignee: Topcon Corp
Priority date: 1989-03-27
Filing date: 1989-03-27
Publication date: 1998-10-30
Anticipated expiration: 2013-10-30
Also published as: JPH02252433A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は眼屈折力測定装置、特に小児から乳幼児に対
しても有用である眼屈折力測定装置に関するものであ
る。

［従来の技術］従来、眼屈折力測定装置としては、被検者の応答を基
に眼屈折力を測定する所謂自覚式検眼器、被検眼を他覚
的に測定する所謂オートレフラクトメータ等の装置が知
られている。

然し乍ら、この種の装置で乳幼児の測定を行なう場
合、乳幼児の協力を得られない為自覚式検眼器では測定
ができず、又一般のオートレフラクトメータでは被検眼
の位置を固定しなくてはならないが、乳幼児の場合被検
眼の位置の固定が難しく、測定は極めて困難であるとい
う欠点を有していた。

これらの欠点を解決する為、ストロボ光で被検眼眼底
を照明し、被検眼の瞳孔での光束の状態をカメラで撮影
し、その結果から被検眼の眼屈折力を測定するいわゆる
フォトレフラクション方式の測定方法が提案されてい
る。

このフォトレフラクション方式の測定に於いては、被
検眼の光軸が少しずれても充分に測定することができ、
被検眼を固定することが困難である乳幼児の眼屈折力の
測定には有用であるとされているものである。

然し乍ら、斯かるフォトレフラクション方式の眼屈折
力測定装置では、カメラの光軸に対し、斜め方向からス
トロボ光源により照明し、その時の瞳孔像を単に撮影す
るだけであり、光源の位置により測定できないディオプ
ター値があり、又測定可能な範囲が狭いという問題を有
している。

そこで本出願人は、先の特願昭63−238505号に於い
て、如何なるディオプター値でも測定が可能で且瞬時に
測定結果を得ることができる眼屈折力測定装置を提案し
た。

該眼屈折力測定装置については後で詳述するが、該眼
屈折力測定装置では被検眼眼底に光源像を投影し、眼底
で反射される光源からの光束の一部を遮ぎり、遮ぎった
光束を受光素子で受け、その光束の光量分布状態を基に
眼屈折力を測定しようとするものである。ところが、該
眼屈折力測定装置に限らず斯かる光源からの光束を被検
眼眼底に投影し、眼底からの反射光束を基に眼屈折力を
測定する場合、角膜の反射である輝点が前記反射光束に
含れ、この輝点が眼屈折力の測定結果に影響を及ぼす。

従って、前記輝点を除去することが精度のよい測定結
果を得られることとなる。

従来、輝点を除去するのに眼底からの反射光束と角膜
の反射である輝点とは位相が異なることに着目して偏光
板を用いて輝点光量を低減させることが行われていた。

［発明が解決しようとする課題］然し、偏光板を用いて輝点光量を低減させる方法で
は、どうしても眼底からの反射光束の光量を減ぜられて
しまい、測定で得られるS/N比が小さくなり、充分効果
的な輝点除去方法であるとはいえなかった。

本発明は、斯かる実情に鑑み、反射光束の光量を減ず
ることなく、容易に輝点を除去しようとするものであ
る。

［課題を解決するための手段］本発明は、被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系
と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子と、該
受光素子上に眼底からの光束を集光する為の受光系と、
前記眼底からの光束の一部を遮光する様に該受光系の光
路内に配置されるエッヂ状の遮光部材と、前記受光素子
に投影される光束の光量分布状態に基づき被検眼の眼屈
折力を演算する演算部とを備えた眼屈折力測定装置に於
いて、前記受光素子の映像信号からの被検眼角膜反射に
よって生ずる輝点像を除去する演算処理部を有すること
を特徴とした眼屈折力測定装置に係るものであり、又被
検眼眼底に光源像を投影する為の投影系と、被検眼瞳孔
と略共役位置に配置した受光素子と、該受光素子上に眼
底からの光束を集光する為の受光系と、前記眼底からの
光束の一部を遮光する様に該受光系の光路内に配置され
るエッヂ状の遮光部材と、前記受光素子に投影される光
束の光量分布状態に基づき被検眼の眼屈折力を演算する
演算部とを備えた眼屈折力測定装置に於いて、前記受光
素子の映像を記憶するフレームメモリと、該フレームメ
モリの記憶データを基に輝点除去の演算をする演算処理
部とを少なくとも具備し、前記受光素子の映像の輝点を
通過する線上の光量分布を求め、該光量分布より突出し
て光量が増大する部分を消去することを特徴とした眼屈
折力測定装置に係るものであり、更に又被検眼眼底に光
源像を投影する為の投影系と、被検眼瞳孔と略共役位置
に配置した受光素子と、該受光素子上に眼底からの光束
を集光する為の受光系と、前記眼底からの光束の一部を
遮光する様に該受光系の光路内に配置されるエッヂ状の
遮光部材と、前記受光素子に投影される光束の光量分布
状態に基づき被検眼の眼屈折力を演算する演算部とを備
えた眼屈折力測定装置に於いて、前記受光素子の映像を
記憶するフレームメモリと、該フレームメモリの記憶デ
ータを基に輝点除去の演算をする演算処理部とを少なく
とも具備し、受光素子の映像について所要の領域に関
し、前記エッヂと平行な方向に走査し、各走査線での光
量分布を求め、各走査線での光量分布について突出して
光量が増大する部分を消去し、この消去した部分は直線
により近似させた修正光量分布により修正映像を作成
し、該修正映像を前記受光素子の映像に置換することを
特徴とする眼屈折力測定装置に係るものである。

［作用］輝点を通過する走査線の光量分布に於いて、光量が突
出して増大する部分が輝点による影響であるので、突出
する部分を消去すれば輝点の影響を除去した測定データ
が得られる。又、エッヂと平行な方向の走査線について
の光量分布は、瞳孔部分に関しては殆ど均一であり、こ
の方向の各走査線についての光量分布より突出して光量
が増大する部分を消去し、直線で近似すれば輝点の影響
を除去した修正映像が得られる。

［実施例］以下図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。

先ず、先の出願に於いて提案した眼屈折装置について
説明する。

第１図に於いて、１は光源像を被検眼３の眼底７に投
影する為の投影系であり、２は眼底７により反射された
光束10を受光する為の受光系であり、投影系１及び受光
系２は被検眼３に対向して配置される。

前記投影系１は、光源４及び光源４からの光束11を被
検眼３に向けて反射させる為のハーフミラー５から成
り、該投影系１は光源４からの光束11を瞳孔６を通して
眼底７上に光源４の像を形成する様に投影するもので、
被検眼３の眼屈折力が基準ディオプター値（基準屈折
力）の場合に眼底７上に光源４の像が合焦されるように
光源４と被検眼３との距離が設定されている。

前記受光系２は、対物レンズ８及び受光素子９から成
り、眼底７からの光束10はハーフミラー５を透過して受
光素子９上に導かれる。

該受光素子９は、エリアCCD、撮像管或はこれらの２
以上の集合体であり、受光素子９の受光面9aは対物レン
ズ８に関して被検眼３の瞳孔６と共役位置に配置され
る。

前記受光系２の光路内には、ハーフミラー５に関して
光源４は共役な位置に対物レンズ８の光軸Ｏを境界とし
て光束10の片側を遮光する為のエッジ状の遮光部材12を
配置する。

又、前記受光素子９には演算器13が接続され、該演算
器13は受光素子９の受光状態、光量分布よりディオプタ
ー値を演算し、その結果を表示器14に出力する様になっ
ている。

次に上記構成の眼屈折力測定装置に於ける眼屈折力測
定は下記の如く行われる。

第２図（Ａ）に示す様に、被検眼３のディオプター値
が基準ディオプター値に比べて負のディオプター値の場
合には、光源４の像は眼底７の前方で結像され、この光
束により照明された眼底７上の内、光軸上の１点で反射
された光束10を考えると、この光束10は遮光部材12の前
方、即ち被検眼３側で集光され、対物レンズ８により受
光素子９上に投影される光束の上半分（斜線部分）が遮
光される。一方、第２図（Ｂ）に示す様に、被検眼のデ
ィオプター値が基準ディオプター値の場合には、光束10
は遮光部材12上に集光されるもので、光束10は遮光部材
12によって遮られない。

又、第２図（Ｃ）に示す様に、被検眼３のディオプタ
ー値が基準ディオプター値より正の場合には、光源４の
像は眼底７の後方で結像するように投影され、前述と同
様に眼底７で反射された光束10は遮光部材12の後方、即
ち受光素子９側で集光され、受光素子９上に投影される
光束10は第２図（Ａ）とは逆の部分の光束（図中では上
半分）が遮光される。

而して、受光面9aに投影される光束は基準ディオプタ
ー値に対して被検眼３のディオプター値の大小、正負に
よって光量分布状態が変化し、この光量分布状態を基に
ディオプター値が求められる。

受光素子９はこの受光面9aに形成される光束の光量分
布を検出する為のものであり、前記演算器13は受光素子
９からの信号を基に、受光面9a上に形成される光束の光
量分布を検出し、基準となるディオプター値に対し被検
眼の眼屈折力が正か負かを判断すると共にその絶対値を
演算し、演算結果を表示器14に出力し、表示器14は求め
られた結果を表示する。

尚、上記実施例では光束分離手段としてハーフミラー
を使用したが、ビームスプリッター、偏光プリズム等種
々の光束分離手段を用いることは勿論である。

又、第３図（Ａ）〜（Ｅ）に於いて、受光面9aに形成
される光束の光量分布状態を説明する。

尚、第３図（Ａ）〜（Ｅ）に於いて説明を簡略化する
為、光源４の光軸と受光系の光軸とを合致させ且遮光部
材12と対物レンズ８とを一致させている。この為、光源
４と対物レンズ８とは同一位置で重ね合わせて示してお
り、遮光部材12は省略して示している。

第３図（Ａ）〜（Ｅ）は被検眼の屈折力Ｄが基準屈折
力D₀に対し負の場合を示しており、以下の説明は眼底か
ら反射光束は全て対物レンズ８によって受光面9a上に投
影されるものとする。

光源４と被検眼瞳孔６との距離をｌに設定しこの光源
の像が眼底に合焦する被検眼の屈折力を基準屈折力D₀と
するとである。

第３図（Ａ）は被検眼の屈折力がＤ（＜D₀）の場合
の、光軸に対し直角方向にＬの長さを有するスリット状
の光源４の軸上の一点S₀からの投影光束を示すもので、
点S₀の像は一旦、S₀′に結像され、被検眼眼底７には、
ぼけた像として投影される。D₀−Ｄが大きくなるに従い
投影される領域7aは広くなる。

第３図（Ｂ）は受光系２、及び、被検眼眼底７からの
反射光束の状態を示すものである。

第３図（Ｂ）に示す様に、被検眼眼底７上の投影領域
の端部の点I_-nからの光束を考えると、この点の像I_-n′
は被検眼瞳孔からｌ′の距離の位置に結像され、この光
束は対物レンズ８を介して被検眼瞳孔６と共役位置に配
置した受光素子９上に投影される。尚、このｌ′と被検
眼の屈折力Ｄの関係式は下記の通りである。

一方、この眼底上の一点から発した光束のエッヂ上で
の広がり幅Δは被検眼の瞳径をｕとすると、第３図
（Ｂ）から明らかな様に、であり、第（１）式、第（２）式よりとなり、被検眼３の屈折力Ｄと基準屈折力D₀との差が大
になるに従い遮光部材12上の広がりは大きくなる。

次に、受光素子９上での光束の広がりについて述べ
る。受光素子９は、被検眼３の屈折力に関係なく常に、
対物レンズ８に関して被検眼瞳孔と共役に配置されてお
り、被検眼瞳孔６の径をｕ、対物レンズ８の倍率をβと
すると、受光素子９上ではβｕの径の領域（被検眼の屈
折力に影響を受けない）に光束が投影される。

又、光軸に対して前記I_-nと対称な点I_nからの光束も
同様に被検眼瞳孔６からｌ′の位置に像I_n′を結像した
後、受光素子９上の同じ領域βｕに投影される。光源４
を点光源として、遮光部材12が無いものとした時、これ
ら眼底７からの各点I_-n、…I₀、…I_n、からの光束の積
分が受光素子９上の光量分布を決めるものである。

ここで、受光素子９上での光量分布について考察する
ため、受光素子９上の光束投影位置の端部位置P_-n、す
なわち、光軸を中心とした座標位置−βu/2に入射する
光束を考えると、この位置に入射する光束は第３図
（Ｃ）での斜線Ａの範囲の光束に限られることとなる。
又、同様に、光軸に対して、前記のP_-n位置と対称な位
置P_nに入射する光束を考えると斜線Ａ′範囲の光束に限
られることになる。してみると、被検眼瞳孔６からのｌ
の距離（光源４と共役位置）の位置に光軸の一方の光束
Ａ′を遮断するエッヂ状の遮光部材12を配置すると受光
素子９上のP_-nの位置に入射する光束は遮光部材12によ
り遮断されず、このP_-nの位置から上方の位置にいくに
従って光束は徐々に遮光され、中心P₀位置で光束の半分
が遮光され、P_nの位置になると全ての光束が遮断される
こととなるものである。従って、エッヂ状の遮光部材12
により受光素子９上には上方に行くにしたがって暗くな
り、P_nの点で光量が０となる一定傾斜の光量分布となる
ものである。

以上の第３図（Ａ）〜（Ｃ）では、光源４の光軸上の
一点から発する光束のみを示したが、光源４の端部の一
点S_-n（光源の大きさをＬとすると−L/2の座標位置の
点）からの光束を考えると第３図（Ｄ）に示すようにな
る。この点S_-nからの光束は、第３図（Ｄ）に示す被検
眼眼底７上のI_-n点からI_n点の領域に投影され、このI_-n
点、I_n点からの反射光は、前述と同様に被検眼瞳孔６か
らｌ′の距離の位置でI_n′、I_n′の像を結像した後、受
光素子９上のβｕの径の領域に投影されるものである。
ここで、光源４の端部の点S_-nから発する光束のうち、
受光素子９上の光束投影の端部位置P_-nに入射する光束
は第３図（Ｄ）のＢの斜線領域の光束となるものであ
る。

又、前記S_-nの点と対称な光源４の一点S_nからの光束
を考え、そのうち受光素子９上のP_-nの点に入射する光
束を考えると第３図（Ｅ）のＣの斜線領域の光束とな
る。この様に、光源４がある大きさを有するものとして
考えた場合、受光素子９上の一点の光量は、光源４の各
点からの光束の総和として考えなければならない。

第４図（Ａ）は、この考え方に基づき、受光素子９上
のP_-nの位置に入射する各光束を重ね合わせて示したも
のであり、光源上のS_-nの位置から発する光束のうちP_-n
の位置に入射する光束はＢの領域であり（第３図（Ｄ）
参照）、光源上での位置が上方に行くにしたがってその
光束も上方に移動し、軸上の光源位置S₀ではＡの領域の
光束となり（第３図（Ｃ）参照）、光源上でのS_nの位置
ではＣの領域の光束となる（第３図（Ｅ）参照）。従っ
て、受光素子９上のP_-nの点での光量は、これらの光束
の総和として考えられる。

ここで、被検眼瞳孔６からｌの距離の位置に遮光部材
12を配置した時の受光素子９上の点P_-nの光量を示す模
式図を第４図（Ｂ）に示す。第４図（Ｂ）は光源上の位
置が変化するにしたがって遮光部材12により光束がどの
様に遮光されるかを示すものである。第４図（Ｂ）の横
軸は光源上の座標位置、縦軸は光量を示すものであり、
光源上での各点からの光束を考えると、座標位置の−L/
2（Ｌは光源の大きさ）点から０点までの光束は遮光部
材12により遮光されず、座標位置の０点を過ぎると徐々
に遮光され、Δ（前述の光束の広がり）の位置で全ての
光束が遮断される事になるものである。ここで遮光され
ない場合の光源上の各点からの光量をｋとして光源上で
の各点からの光量の寄与を示したものが第４図（Ｂ）で
あり、斜線部の面積が受光素子上のP_-nの点の光量値に
対応するものである。この面積値Ｔは下記のようにな
る。

同様にして、受光素子上での他の点についても考察す
る。第５図（Ａ）は受光素子上での中心点P₀に入射する
光束を第４図（Ａ）と同様に示したものであり、光源上
のS_-nの点からの光束の内P₀の点に入射する光束はB₀の
斜線領域、光源上の中心S₀の点からはA₀の斜線領域、光
源上のS_nの点からの光束はC₀の斜線領域の光束となるも
のであり、受光素子９の中心に入射する光量は第５図
（Ｂ）の斜線領域の面積T₀に対応することになる。すな
わち、光源の各点からの受光素子の中心点に入射する光
束を考えると、光源上の座標位置−L/2の位置から−Δ/
2の位置までは光束は遮光されず、−Δ/2位置を過ぎる
と徐々に光束が遮られΔ/2の位置で全ての光束が遮断さ
れることになり、この面積値を前述と同様に計算すると
下記値になる。

同様にして、受光素子上での点P_nに入射する光束の状
態、及びこの点での光量値を第６図（Ａ）、第６図
（Ｂ）に示す。第６図（Ａ）において、光源上のS_-nの
点からの光束の内P_nの点に入射する光束はＢ′の斜線領
域、光源上の中心S₀の点からはＡ″の斜線領域、光源上
のP_-nの点からの光束はＣ″の斜線領域の光束として示
す。この場合には、第６図（Ｂ）に示すように、光源の
各点から受光素子のP_nの点に入射する光束を考えると、
光源上の−L/2の位置から−Δの位置までは光束は遮光
されず、−Δ位置を過ぎると徐々に光束が遮られ、０の
位置で全ての光束が遮断されることになり、この面積値
を計算すると下記値になる。

これらの式（４）、（５）、（６）の結果からわかる
ように、受光素子９上の光量値は下方から上方にいくに
したがって、光量値は徐々に低くなるものであり、その
受光素子上での光量分布を図示すると第７図に示すよう
に直線的に変化する。

前述の説明に於いては、眼底の一点から発する光束を
考えた場合の遮光部材12上での広がり幅Δが光源の大き
さＬの1/2より小さな場合を想定して説明を行ったもの
である。

然し乍らの場合、即ち基準ディオプター値D₀に対する被検眼のデ
ィオプター値の偏差ΔＤが所定量以上の場合には、第10
図に示すような直線変化は示さない。これを第４図ない
し第６図にしたがって説明を行う。前述のようにの場合には、第４図（Ｂ）、第５図（Ｂ）、第６図
（Ｂ）はそれぞれ第11図、第12図、第13図、に示す様に
なり、この光量変化は第７図に示す様な直線変化を示さ
ないことになる。

次に、第２図（Ｂ）で示す被検眼の屈折力が基準値で
ある場合、第２図（Ｃ）で示す被検眼の屈折力が基準値
より正の場合も、前記したと同様に受光素子９上の光量
分布を考察することができ、その場合被検眼の屈折力が
基準値である場合は、第８図に示す如く、均一分布、被
検眼の屈折力が正の場合は第７図で示したものと逆な分
布状態となる。

上記した光量分布の傾斜がディオプター値（屈折力）
をそして、傾斜の方向がディオプター値の正負を表わ
す。以下第10図を参照して説明する。

光量分布の傾きをと定義すると、前記した光束の広がりΔ、即ちボケ量Δは、前記
（４）式より、よって（７）式より而して、（９）式は基準ディオプター値D₀に対する被
検眼のディオプター値の偏差ΔＤとが比例していることを示している。従って、光量分布よ
りを求めることにより被検眼のディオプター値を求めるこ
とが可能となる。

上述の如く、眼底から反射される光束の光量分布から
被検眼のディオプター値を求めることができるが、上述
した光量分布には輝点の影響を無視しており、輝点の影
響を考慮した場合、光量分布の状態は輝点部分の光量が
突出して大きい第14図の如くなる。本発明ではこの輝点
部分の光量を除去し、次に光量分布の状態から傾斜を求
めようとするものである。

第15図は本発明の一実施例の概略を示すブロック図で
ある。図中、15は前記した眼屈折力測定装置の光学系、
９は受光素子、13は演算器、14は表示装置、16は受光素
子９の映像及び演算処理部の結果を記憶するフレームメ
モリ、17は演算処理部、18はフレームメモリ16、演算処
理部17の同期指令、シーケンス指令を行う制御部であ
る。

以下、第16図〜第20図を参照して該実施例を説明す
る。

先ず被検眼者の、両眼を含む範囲を受光素子９によっ
て撮像し、この映像をフレームメモリ16に取込み記憶す
る。又、この映像は両眼がそれぞれ所定のエリア例えば
右眼が（X₁;Y₁）に含まれる様に撮像されている。第17
図（Ｂ）は（X₁;Y₁）のエリアを拡大したものである。

前記フレームメモリ16のエリア（X₁;Y₁）部分の光量
最大な点即ち電位が最大な点を調べる。

エリア（X₁;Y₁）での電位最大な点が求められれば、
これが輝点であり、該輝点のフレームメモリ16中のビッ
トの位置から輝点の位置が求められる。

輝点が求められると、第18図（Ｂ）の如く該輝点を中
心とする輝点近傍の検知エリア（X_s;Y_s）が設定され
る。エッヂと平行なＸ方向の走査線で検知エリア（X_s;Y
_s）の境界線と交差する点ａ点、ｂ点の光量を求め、こ
のａ点、ｂ点を直線で近似する。このａ点、ｂ点を結ん
だ直線が前記検知エリア（X_s;Y_s）でのＸ方向の走査線
に於ける輝点の影響を除去した光量分布を示すものであ
る（第18図（Ｃ）参照、尚図中δで示す光量分布は瞳孔
部分をＸ方向に走査して得られる光量分布曲線を示
す）。

而してａ点,b点間の近似直線の式はＬ＝｛（L_b−L_a）/X₃｝×Ｘ−L_a …（10）となる。

ここで、エッヂと平行な方向に走査するととしたの
は、エッヂと平行な方向では光束の状態が対称であり、
理想的に輝点部分を除き光量分布は均一と考えられるの
で、直線で近似した場合の誤差も少ないからである。

斯かる走査を検知エリア（X_s;Y_s）全域に亘って行
い、検知エリア（X_s;Y_s）について輝点の影響を除去し
た修正値を求める。前記フレームメモリ16の検知エリア
（X_s;Y_s）部分についての記憶値を前記修正値に置換
し、この修正値に置換したものを新たに修正映像として
フレームメモリ16に記憶する。

次に、検知エリアを瞳を充分に含む（X₂;Y₂）に拡大
し（第19図（Ｂ））、前記修正映像について該検知エリ
ア（X_s;Y_s）をＹ方向（前記エッヂと直角な方向）に走
査して、走査した線上での光量分布を求める。このＹ方
向の走査線、特に輝点を通る走査線での光量分布γ（第
19図（Ｃ））が前記第10図で示した光量分布に相当し、
ディオプター値算出の基となるものである。更に、該光
量分布では当然瞳孔部分の光量が大きく、瞳孔部分を外
れると光量が低下する。この低下位置の点m,nを光量分
布γについて微分する等の手法で求めれば、両点m,n,の
座標から瞳孔径Ｕが得られる。

更に、前記光量分布γの瞳孔部分の傾斜を求めること
により、前記（９）式より被検眼のディオプター値を求
めることが可能となる。

尚、光量分布γより傾斜を求めるについては、種々考
えられるが、例えば第20図に示す如く、最小二乗近似に
より直線を求め、この直線の傾きを求める等が挙げられ
る。

［発明の効果］以上述べた如く本発明によれば、測定光束の全体光量
を減ずることなく、測定光束より輝点の影響を完全に消
去することが可能であり、測定精度を大幅に向上させ得
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が実施される眼屈折力測定装置の基本概
略図、第２図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は被検眼のディオプタ
ー値の相違による光束の状態の相違を示す説明図、第３
図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）は受光及び被検眼眼
底からの反射光束の状態を示す説明図、第４図（Ａ）、
第５図（Ａ）、第６図（Ａ）は受光素子に到達する光源
各点の反射光束の状態を示す説明図、第４図（Ｂ）、第
５図（Ｂ）、第６図（Ｂ）は遮光部材によって遮られた
場合の各光束の光量変化を示す説明図、第７図、第８
図、第９図はディオプター値に対応した受光面での光量
分布状態を示す説明図、第10図は光量分布状態よりディ
オプター値を求める場合の説明図、第11図、第12図、第
13図は遮光部材上での広がり幅Δが光源の1/2の大きさ
より大きな場合の遮光部材によって遮光された場合の各
光束の光量変化を示す説明図、第14図は実際の光量分布
を示す線図、第15図は本発明の一実施例を示すブロック
図、第16図は該実施例に於けるフローチャート、第17図
（Ａ）は前記眼屈折力測定装置の撮像画面の図、第17図
（Ｂ）は被検眼部分を拡大した図、第18図（Ａ）は第17
図（Ｂ）と同様被検眼部分の拡大図、第18図（Ｂ）は輝
点を含む範囲を示す図、第18図（Ｃ）は輝点を通過する
エッヂに対して平行な走査線の光量分布図、第19図
（Ａ）は第17図（Ｂ）と同様被検眼部分の拡大図、第19
図（Ｂ）は瞳孔を含む走査領域を示す図、第19図（Ｃ）
はエッヂに対して直角方向の走査線の光量分布を示す
図、第20図は光量分布より傾斜を近似により求める場合
を示す説明図である。１は投影系、２は受光系、３は被検眼、４は光源、５は
ハーフミラー、８は対物レンズ、９は受光素子、13は演
算器、14は表示装置、16はフレームメモリ、17は演算処
理部、18は制御部を示す。

フロントページの続き (72)発明者石倉靖久東京都板橋区蓮沼町75番１号東京光学機械株式会社内 (56)参考文献光学Ｖｏｌ．18，Ｎｏ．10，ＰＰ. 545〜546 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) A61B 3/103

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系
と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子と、該
受光素子上に眼底からの光束を集光する為の受光系と、
前記眼底からの光束の一部を遮光する様に該受光系の光
路内に配置されるエッヂ状の遮光部材と、前記受光素子
に投影される光束の光量分布状態に基づき被検眼の眼屈
折力を演算する演算部とを備えた眼屈折力測定装置に於
いて、前記受光素子の映像信号から被検眼角膜反射によ
って生ずる輝点像を除去する演算処理部を有することを
特徴とした眼屈折力測定装置。
【請求項２】被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系
と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子と、該
受光素子上に眼底からの光束を集光する為の受光系と、
前記眼底からの光束の一部を遮光する様に該受光系の光
路内に配置されるエッヂ状の遮光部材と、前記受光素子
に投影される光束の光量分布状態に基づき被検眼の眼屈
折力を演算する演算部とを備えた眼屈折力測定装置に於
いて、前記受光素子の映像を記憶するフレームメモリ
と、該フレームメモリの記憶データを基に輝点除去の演
算をする演算処理部とを少なくとも具備し、前記受光素
子の映像の輝点を通過する線上の光量分布を求め、該光
量分布より突出して光量が増大する部分を消去する様構
成したことを特徴とした眼屈折力測定装置。
【請求項３】被検眼眼底に光源像を投影する為の投影系
と、被検眼瞳孔と略共役位置に配置した受光素子と、該
受光素子上に眼底からの光束を集光する為の受光系と、
前記眼底からの光束の一部を遮光する様に該受光系の光
路内に配置されるエッヂ状の遮光部材と、前記受光素子
に投影される光束の光量分布状態に基づき被検眼の眼屈
折力を演算する演算部とを備えた眼屈折力測定装置に於
いて、前記受光素子の映像を記憶するフレームメモリ
と、該フレームメモリの記憶データを基に輝点除去の演
算する演算処理部とを少なくとも具備し、受光素子の映
像について所要の領域に関し、前記エッヂと平行な方向
に走査し、各走査線での光量分布を求め、各走査線での
光量分布について突出して光量が増大する部分を消去
し、この消去した部分は直接により近似させた修正光量
分布により修正映像を作成し、該修正映像を前記受光素
子の映像に置換する様構成したことを特徴とする眼屈折
力測定装置。