JPH02145568A - ビスフタルイミド類の製造法 - Google Patents
ビスフタルイミド類の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ビスフタルイミド類の製造法に関する。本発
明のビスフタルイミド類は、高分子化合物の難燃剤とし
て、あるいは耐熱性高分子の原料として有用な化合物で
ある。
明のビスフタルイミド類は、高分子化合物の難燃剤とし
て、あるいは耐熱性高分子の原料として有用な化合物で
ある。
(従来の技術)
従来、無水フタル酸化合物とジアミン化合物を反応させ
ビスフタルイミド化合物を製造する方法に於いては、反
応溶媒として、非プロトン性極性溶媒または水と共沸能
を持つ炭化水素溶媒の単独系を用いる反応(U、S、P
at、4,374゜220)、または非プロトン性極性
溶媒と水と共沸能を持つ炭化水素溶媒の混合溶媒系にお
いて、非プロトン性極性溶媒の比率が55体積%以上と
高い系での製法が知られている(特開昭 63−122
668号公報)。
ビスフタルイミド化合物を製造する方法に於いては、反
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高い系での製法が知られている(特開昭 63−122
668号公報)。
(発明が解決しようとする問題点)
非プロトン性極性溶媒単独系で反応を行った場合は、反
応が進行するに従い生成する水を反応系外へ除去できな
いため、収率が著しく低いといった問題があった。
応が進行するに従い生成する水を反応系外へ除去できな
いため、収率が著しく低いといった問題があった。
また、水と共沸能を持つ炭化水素溶媒単独系で反応を行
った場合には、原料によっては反応溶媒への溶解度が低
いため反応が均一系の反応にならず、スラリーの状態で
反応させるため未反応の原料が残り易く、得られる結晶
の純度が低下する等の問題があった。
った場合には、原料によっては反応溶媒への溶解度が低
いため反応が均一系の反応にならず、スラリーの状態で
反応させるため未反応の原料が残り易く、得られる結晶
の純度が低下する等の問題があった。
さらに、非プロトン性極性溶媒と水と共沸能を持つ−a
機溶媒の混合溶媒系において、非プロトン性極性溶媒の
比率が高い系を反応溶媒として用いた場合には、生成し
た反応中間体のアミド化合物の反応溶剤に対する溶解度
が高いため、次の分子内環化イミド化反応以外に、分子
間のアミド化反応等の副反応が起こりやすいため収率は
6096台と低く、工業的製法としては必ずしも満足す
るものではなかった。
機溶媒の混合溶媒系において、非プロトン性極性溶媒の
比率が高い系を反応溶媒として用いた場合には、生成し
た反応中間体のアミド化合物の反応溶剤に対する溶解度
が高いため、次の分子内環化イミド化反応以外に、分子
間のアミド化反応等の副反応が起こりやすいため収率は
6096台と低く、工業的製法としては必ずしも満足す
るものではなかった。
(発明を解決する為の手段)
本発明者ら上記事情に鑑み、ビスフタルイミド化合物を
工業的に容易で、かっ高収率で得る製造法について鋭意
検討した結果、溶媒として非プロトン性極性溶媒と、水
と共沸能を持つ炭化水素溶媒との混合溶媒系で、非プロ
トン性極性溶媒の比率か少ない場合に意外にも、分子間
のアミド化反応等の副反応が抑制され、著しく高い収率
を与えることを見出だし本発明に到達した。すなわち本
発明は無水フタル酸化合物とジアミン化合物を反応させ
ビスフタルイミド類化合9を製造する方法に於いて、溶
媒として非プロトン性極性溶媒と、水と共沸能を持つ炭
化水素溶媒との混合溶媒でその混合比率が体積比で3:
97〜30 : 70からなる溶媒中で反応することを
特徴とするビスフタルイミド類の製造法に関する。
工業的に容易で、かっ高収率で得る製造法について鋭意
検討した結果、溶媒として非プロトン性極性溶媒と、水
と共沸能を持つ炭化水素溶媒との混合溶媒系で、非プロ
トン性極性溶媒の比率か少ない場合に意外にも、分子間
のアミド化反応等の副反応が抑制され、著しく高い収率
を与えることを見出だし本発明に到達した。すなわち本
発明は無水フタル酸化合物とジアミン化合物を反応させ
ビスフタルイミド類化合9を製造する方法に於いて、溶
媒として非プロトン性極性溶媒と、水と共沸能を持つ炭
化水素溶媒との混合溶媒でその混合比率が体積比で3:
97〜30 : 70からなる溶媒中で反応することを
特徴とするビスフタルイミド類の製造法に関する。
本発明において用いられる無水フタル酸化合物の具体例
をあげると、無水フタル酸、3−ブロモ無水フタル酸、
4−ブロモ無水フタル酸、3,4−ジブロモ無水フタル
酸、3,5−ジブロモ無水フタル酸、4,5−ジブロモ
無水フタル酸、3゜4.5−トリブロモ無水フタル酸、
3,4,5゜6、−テトラブロモ無水フタル酸、3−ク
ロル無水フタル酸、4−クロル無水フタル酸、3.4−
ジクロル無水フタル酸、3.5−ジクロル無水フタル酸
、4,5−ジクロル無水フタル酸、3.4゜5−トリク
ロル無水フタル酸、3,4,5,6゜−テトラクロル無
水フタル酸、3−ヒドロキシ無水フタル酸、4−ヒドロ
キシ無水フタル酸、3゜4−ジヒドロキシ無水フタル酸
、3,5−ジヒドロキシ無水フタル酸、4,5−ジヒド
ロキシ無水フタル酸等があげられるがこれに限定される
ものではない。
をあげると、無水フタル酸、3−ブロモ無水フタル酸、
4−ブロモ無水フタル酸、3,4−ジブロモ無水フタル
酸、3,5−ジブロモ無水フタル酸、4,5−ジブロモ
無水フタル酸、3゜4.5−トリブロモ無水フタル酸、
3,4,5゜6、−テトラブロモ無水フタル酸、3−ク
ロル無水フタル酸、4−クロル無水フタル酸、3.4−
ジクロル無水フタル酸、3.5−ジクロル無水フタル酸
、4,5−ジクロル無水フタル酸、3.4゜5−トリク
ロル無水フタル酸、3,4,5,6゜−テトラクロル無
水フタル酸、3−ヒドロキシ無水フタル酸、4−ヒドロ
キシ無水フタル酸、3゜4−ジヒドロキシ無水フタル酸
、3,5−ジヒドロキシ無水フタル酸、4,5−ジヒド
ロキシ無水フタル酸等があげられるがこれに限定される
ものではない。
本発明において用いられるジアミンとしては、0−フェ
ニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニ
レンジアミン、4.t”−ジアミノジフェニルプロパン
、4.4−−ジアミノジフェニルエタン、4.4−−ジ
アミノジフェニルメタン、4.4”−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、4.4′−ジアミノジフェニルスルホン
、4,4−ジアミノジフェニルエーテル、3.3−−ジ
アミノジフェニルエタン、3.3=−ジアミノジフェニ
ルメタン、3.3−−ジアミノジフェニルスルフィド、
3.3−−ジアミノジフェニルスルホン、3.3”−ジ
アミノジフェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレ
ン、3.3−−ジメチルベンジジン、2.2−−ジメチ
ルベンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、2.
2−5゜5゛−テトラクロロベンジジン、2.4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(p−β−
アミノt−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−
メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン、1,5−ジア
ミノ−4−イソプロピルベンゼン、1.2−ビス(3−
アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレンジアミン、
p−キシリレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、
2.6−ジアミノトルエン、ビス(4−アミノシクロヘ
キシル)メタン、3−メチルへブタメチレンジアミン、
3−メチルへブタメチレンジアミン、44−ジメチルへ
ブタメチレンジアミン、2,2−ジメチルプロピレンジ
アミン、2.11−ドデカジアミン、オクタメチレンジ
アミン、3−メトキシへキサメチレンジアミン、2.5
−ジメチルへキサメチレンジアミン、2,5−ジメチル
へブタメチレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジ
アミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1.4−シ
クロヘキサジアミン、4.4”−ジアミノ−3,3′−
ジメチルジシクロヘキシル、1.12−オクタデカンジ
アミン、ビス(3−アミノプロピル)スルフィド、N−
メチル−ビス(3−アミノプロピル)アミン、エチレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジ
アミン、4゜4′−ジアミノベンゾフェノン、ノナメチ
レンジアミン、デカメチレンジアミン、ビス(3−アミ
ノプロピル)テトラメチルシロキサン、ビス(4−アミ
ノブチル)テトラメチルジシロキサンの芳香族アミン、
脂肪族アミン及びシロキサン系アミン等が挙げられるが
、これに限定されるものではない。
ニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニ
レンジアミン、4.t”−ジアミノジフェニルプロパン
、4.4−−ジアミノジフェニルエタン、4.4−−ジ
アミノジフェニルメタン、4.4”−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、4.4′−ジアミノジフェニルスルホン
、4,4−ジアミノジフェニルエーテル、3.3−−ジ
アミノジフェニルエタン、3.3=−ジアミノジフェニ
ルメタン、3.3−−ジアミノジフェニルスルフィド、
3.3−−ジアミノジフェニルスルホン、3.3”−ジ
アミノジフェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレ
ン、3.3−−ジメチルベンジジン、2.2−−ジメチ
ルベンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、2.
2−5゜5゛−テトラクロロベンジジン、2.4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(p−β−
アミノt−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−
メチル−〇−アミノペンチル)ベンゼン、1,5−ジア
ミノ−4−イソプロピルベンゼン、1.2−ビス(3−
アミノプロポキシ)エタン、m−キシリレンジアミン、
p−キシリレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、
2.6−ジアミノトルエン、ビス(4−アミノシクロヘ
キシル)メタン、3−メチルへブタメチレンジアミン、
3−メチルへブタメチレンジアミン、44−ジメチルへ
ブタメチレンジアミン、2,2−ジメチルプロピレンジ
アミン、2.11−ドデカジアミン、オクタメチレンジ
アミン、3−メトキシへキサメチレンジアミン、2.5
−ジメチルへキサメチレンジアミン、2,5−ジメチル
へブタメチレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジ
アミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1.4−シ
クロヘキサジアミン、4.4”−ジアミノ−3,3′−
ジメチルジシクロヘキシル、1.12−オクタデカンジ
アミン、ビス(3−アミノプロピル)スルフィド、N−
メチル−ビス(3−アミノプロピル)アミン、エチレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジ
アミン、4゜4′−ジアミノベンゾフェノン、ノナメチ
レンジアミン、デカメチレンジアミン、ビス(3−アミ
ノプロピル)テトラメチルシロキサン、ビス(4−アミ
ノブチル)テトラメチルジシロキサンの芳香族アミン、
脂肪族アミン及びシロキサン系アミン等が挙げられるが
、これに限定されるものではない。
ジアミンに対する無水フタル酸化合物の使用量は、2倍
モル以上であり、好ましくは2〜4倍モルである。
モル以上であり、好ましくは2〜4倍モルである。
本発明の反応に用いられる溶媒は非プロトン性極性溶媒
及び水と共沸能を持つ炭化水素溶媒の混合溶媒が用いら
れるが、両溶媒とも不活性な炭化水素溶媒が一般に用い
られる。非プロトン性極性溶媒の具体例をあげると、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド等の様なN、N−ジアルキルアミド、N、N、N
−、N−テトラメチル尿素等の様なN置換尿素、N−メ
チル−2−ピロリドン、N−、アセチル−2−ピロリド
ン等の環状アミド、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシド
、スルホランがあげられる。
及び水と共沸能を持つ炭化水素溶媒の混合溶媒が用いら
れるが、両溶媒とも不活性な炭化水素溶媒が一般に用い
られる。非プロトン性極性溶媒の具体例をあげると、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド等の様なN、N−ジアルキルアミド、N、N、N
−、N−テトラメチル尿素等の様なN置換尿素、N−メ
チル−2−ピロリドン、N−、アセチル−2−ピロリド
ン等の環状アミド、ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド、ジメチルスルホキシド
、スルホランがあげられる。
水と共沸能を持つ炭化水素溶媒の具体例としては、ベン
ゼン、トルエン、0−キシレン、m−キシレン、p−キ
シレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、テトラ
リン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ペンタン、オクタ
ン、ノナン、デカン等の脂肪族炭化水素、並びにクロロ
ベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化合物があげら
れる。
ゼン、トルエン、0−キシレン、m−キシレン、p−キ
シレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、テトラ
リン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ペンタン、オクタ
ン、ノナン、デカン等の脂肪族炭化水素、並びにクロロ
ベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化合物があげら
れる。
非プロトン性極性溶媒と水と共沸能を持つ炭化水素溶媒
の混合比は3:97〜30ニア0(体積比)、好ましく
は5:95〜15:85(体積比)から選ばれる。これ
らの範囲より非プロトン性極性溶媒の存在比が低い場合
には、原料および反応中間体の溶解性が低いため反応時
に均一系の反応にならず、スラリーの状態で反応させる
ため未反応の原料が残り易く、得られる結晶の純度が低
下する等の問題がある。また、非プロトン性極性溶媒の
存在比が高い場合には、生成した反応中間体のアミド化
合物の反応溶剤に対する溶解度が高いため、次の分子内
環化イミド化反応以外に、分子間のアミド化反応等の副
反応が起こりやすいため収率が低下するなどの問題が生
じる。
の混合比は3:97〜30ニア0(体積比)、好ましく
は5:95〜15:85(体積比)から選ばれる。これ
らの範囲より非プロトン性極性溶媒の存在比が低い場合
には、原料および反応中間体の溶解性が低いため反応時
に均一系の反応にならず、スラリーの状態で反応させる
ため未反応の原料が残り易く、得られる結晶の純度が低
下する等の問題がある。また、非プロトン性極性溶媒の
存在比が高い場合には、生成した反応中間体のアミド化
合物の反応溶剤に対する溶解度が高いため、次の分子内
環化イミド化反応以外に、分子間のアミド化反応等の副
反応が起こりやすいため収率が低下するなどの問題が生
じる。
本発明を実施する時の反応基質濃度は5%〜20%程度
があげられるが、特に規定されるものではない。
があげられるが、特に規定されるものではない。
本発明の反応において触媒は特に必要ではないが、もし
用いるとすれば、硫酸、p−トルエンスルホン酸、オル
ソリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、ベンゼンスルホン
酸、トリクロロ酢酸等の無機あるいは有機の一塩基酸を
反応系に共存させることができる。触媒の使用量は原料
に対して2〜50モル%、好ましくは5〜20モル%程
度である。
用いるとすれば、硫酸、p−トルエンスルホン酸、オル
ソリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、ベンゼンスルホン
酸、トリクロロ酢酸等の無機あるいは有機の一塩基酸を
反応系に共存させることができる。触媒の使用量は原料
に対して2〜50モル%、好ましくは5〜20モル%程
度である。
本発明の実施方法の一例としては、無水フタル酸化合物
とジアミン化合物を反応溶媒に溶解した後、反応溶媒の
沸点以下の温度で反応させることによりアミド化合物を
得る。この際の反応温度は原料および溶媒の選択により
異なり一概に規定できないが、一般に130℃以下、好
ましくは30〜110℃程度で0.5〜5時間程度反応
させることにより成しとげられる。次に反応溶媒が還流
する温度で反応させる。その際の反応温度は原料および
溶媒の選択により異なり一概に規定できないが、一般に
100℃〜250℃、好ましくは120℃〜170℃程
度で、通常0.2〜10時間、好ましくは0.5〜7時
間程度反応させ、生成した水は共沸蒸溜によって系外に
留去せしめながら反応を行うことにより成しとげられる
。
とジアミン化合物を反応溶媒に溶解した後、反応溶媒の
沸点以下の温度で反応させることによりアミド化合物を
得る。この際の反応温度は原料および溶媒の選択により
異なり一概に規定できないが、一般に130℃以下、好
ましくは30〜110℃程度で0.5〜5時間程度反応
させることにより成しとげられる。次に反応溶媒が還流
する温度で反応させる。その際の反応温度は原料および
溶媒の選択により異なり一概に規定できないが、一般に
100℃〜250℃、好ましくは120℃〜170℃程
度で、通常0.2〜10時間、好ましくは0.5〜7時
間程度反応させ、生成した水は共沸蒸溜によって系外に
留去せしめながら反応を行うことにより成しとげられる
。
本発明の実施方法のもう一例としては、無水フタル酸化
合物とジアミン化合物を反応溶媒に溶解した後、反応溶
媒が還流する温度で反応させる。
合物とジアミン化合物を反応溶媒に溶解した後、反応溶
媒が還流する温度で反応させる。
その際の反応温度は原料および溶媒の選択により異なり
一概に規定できないが、一般に100℃〜250℃、好
ましくは120℃〜170℃程度で、通常0.2〜10
時間、好ましくは0.5〜7時間程度反応させ、生成し
た水は共沸蒸溜によって系外に留去せしめながら反応を
行うことにより成しとげられる。
一概に規定できないが、一般に100℃〜250℃、好
ましくは120℃〜170℃程度で、通常0.2〜10
時間、好ましくは0.5〜7時間程度反応させ、生成し
た水は共沸蒸溜によって系外に留去せしめながら反応を
行うことにより成しとげられる。
反応終了後の結晶の単離方法は、通常の単離方法を用い
析出した結晶を濾過することで、結晶を得ることができ
る。また、反応終了時に反応液を冷却し結晶を晶析させ
たり、反応終了時に貧溶媒を添加して結晶を析出させる
事なども考えられる。
析出した結晶を濾過することで、結晶を得ることができ
る。また、反応終了時に反応液を冷却し結晶を晶析させ
たり、反応終了時に貧溶媒を添加して結晶を析出させる
事なども考えられる。
(発明の効果)
本発明により、反応が容易で高純度かつ高収率で簡便に
ビスフタルイミド類を製造できる様になった。また、高
f+Itiな非プロトン性極性溶媒の使用量が少なくて
済むため、大幅なコストダウンが可能になった。
ビスフタルイミド類を製造できる様になった。また、高
f+Itiな非プロトン性極性溶媒の使用量が少なくて
済むため、大幅なコストダウンが可能になった。
(実施例)
以下実施例に従って本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらにより限定されるものではない。
発明はこれらにより限定されるものではない。
実施例 1〜4
テロラブロモ無水フタル酸50.0g (0,108m
o l)とジアミノジフェニルスルホン13゜4g (
0,054mo l)を11の四つ目フラスコに1士込
んた°。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの
混合溶媒(表1記載の混合比)600mlを加えた。そ
の後100℃で2時間攪拌した。その後還流するまで温
度を上昇させ、還流が始まってから5時間反応させた。
o l)とジアミノジフェニルスルホン13゜4g (
0,054mo l)を11の四つ目フラスコに1士込
んた°。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの
混合溶媒(表1記載の混合比)600mlを加えた。そ
の後100℃で2時間攪拌した。その後還流するまで温
度を上昇させ、還流が始まってから5時間反応させた。
冷却後、結晶を濾過し結晶を取り上げた。得られた物質
のIRスペクトルを7111+定した所、1760cm
−1(7)酸無水物のC−0の伸縮振動が消滅し、新た
に1712crn−1にフタルイミドのC−0の伸縮振
動が生成したことにより、フタルイミドの骨格が形成さ
れたことがイつかった。また1340cm−1に0−S
−〇の伸縮振動、1120cm−1に0−5−Oの逆対
称伸縮振動が見られた。また、元素分析値はC:29.
6% H:0.8% Br:56.3% N : 2.
596 (計算値 C:29.5196H:0.7
1 % B r : 56. 0996
N : 2゜46%)であり一致していた。また
TSK GEL G−1000H(東ソー株式会社
)のカラム(溶離液テトラヒドロフラン)による高速ゲ
ル浸透クロマトグラフィーによる分析で、純粋であるこ
とを確認した。
のIRスペクトルを7111+定した所、1760cm
−1(7)酸無水物のC−0の伸縮振動が消滅し、新た
に1712crn−1にフタルイミドのC−0の伸縮振
動が生成したことにより、フタルイミドの骨格が形成さ
れたことがイつかった。また1340cm−1に0−S
−〇の伸縮振動、1120cm−1に0−5−Oの逆対
称伸縮振動が見られた。また、元素分析値はC:29.
6% H:0.8% Br:56.3% N : 2.
596 (計算値 C:29.5196H:0.7
1 % B r : 56. 0996
N : 2゜46%)であり一致していた。また
TSK GEL G−1000H(東ソー株式会社
)のカラム(溶離液テトラヒドロフラン)による高速ゲ
ル浸透クロマトグラフィーによる分析で、純粋であるこ
とを確認した。
実施例 5〜8
テロラブロモ無水フタル酸50.Og (0,1081
TI Ol )とジアミノジフェニルメタン10゜7g
(0,054mo I)を11の四つロフラスコに仕
込んだ。それにN−メチルピロリドンとエチルベンゼン
の混合溶媒(表1記載の混合比)600 m lを加え
た。その後100℃で2時間攪拌した。その後還流する
まで温度を上昇させ、還流が始まってから5時間反応さ
せた。冷却後、結晶を濾過し結晶を取り上げた。得られ
た物質のIRスペクトルをΔIII定した所、1760
cm−1の酸無水物のC−0の伸縮振動が消滅し、新た
に1710cm−1にフタルイミドのC=Oの伸縮振動
が生成したことにより、フタルイミドの骨格が形成され
たことがわかった。また、元素分析値はC:32.0%
H:1−0% Br:59.0% N2.6% (計
算値 C:31.97% H:0゜9296 B r
: 58.66% N:2,57%)であり一致して
いた。またTSKGELG−1000H(東ソー株式会
社)のカラム(溶離液テトラヒドロフラン)による高速
ゲル浸透クロマトグラフィーによる分析で、純粋である
ことを確認した。
TI Ol )とジアミノジフェニルメタン10゜7g
(0,054mo I)を11の四つロフラスコに仕
込んだ。それにN−メチルピロリドンとエチルベンゼン
の混合溶媒(表1記載の混合比)600 m lを加え
た。その後100℃で2時間攪拌した。その後還流する
まで温度を上昇させ、還流が始まってから5時間反応さ
せた。冷却後、結晶を濾過し結晶を取り上げた。得られ
た物質のIRスペクトルをΔIII定した所、1760
cm−1の酸無水物のC−0の伸縮振動が消滅し、新た
に1710cm−1にフタルイミドのC=Oの伸縮振動
が生成したことにより、フタルイミドの骨格が形成され
たことがわかった。また、元素分析値はC:32.0%
H:1−0% Br:59.0% N2.6% (計
算値 C:31.97% H:0゜9296 B r
: 58.66% N:2,57%)であり一致して
いた。またTSKGELG−1000H(東ソー株式会
社)のカラム(溶離液テトラヒドロフラン)による高速
ゲル浸透クロマトグラフィーによる分析で、純粋である
ことを確認した。
実施例 9
テロラブロモ無水フタル酸50.Og (0゜108m
ol)とエチレンジアミン3.3g (0゜054mo
l)を11の四つロフラスコに仕込んだ。それにジメ
チルホルムアミドとメシチレンの混合溶媒(体積比 1
0:90)600mlを加えた。その後100℃で2時
間攪拌した。その後還流するまで温度を上昇させ、還流
が始まってから5時間反応させた。冷却後、結晶を濾過
し結晶を取り上げた。得られた物質の!Rスペクトルを
測定した所、1760cm−1の酸無水物のC−Oの伸
縮振動が消滅し、新たに1710cm−1にフタルイミ
ドのC−0の伸縮振動が生成したことにより、フタルイ
ミドの骨格が形成されたことがわかった。また、元素分
析値はC:22.6 H:0.496 Br:67
.0% N:2.9%(計算値 C:22.72% H
:0・42%Br:67.18% r12.94%)で
あり一致していた。またT S K G E L
G −1000H(東ソー株式会社)のカラム(溶離液
テトラヒドロフラン)による高速ゲル浸透クロマトグラ
フィーによる分υiで、純粋であることを確認した。
ol)とエチレンジアミン3.3g (0゜054mo
l)を11の四つロフラスコに仕込んだ。それにジメ
チルホルムアミドとメシチレンの混合溶媒(体積比 1
0:90)600mlを加えた。その後100℃で2時
間攪拌した。その後還流するまで温度を上昇させ、還流
が始まってから5時間反応させた。冷却後、結晶を濾過
し結晶を取り上げた。得られた物質の!Rスペクトルを
測定した所、1760cm−1の酸無水物のC−Oの伸
縮振動が消滅し、新たに1710cm−1にフタルイミ
ドのC−0の伸縮振動が生成したことにより、フタルイ
ミドの骨格が形成されたことがわかった。また、元素分
析値はC:22.6 H:0.496 Br:67
.0% N:2.9%(計算値 C:22.72% H
:0・42%Br:67.18% r12.94%)で
あり一致していた。またT S K G E L
G −1000H(東ソー株式会社)のカラム(溶離液
テトラヒドロフラン)による高速ゲル浸透クロマトグラ
フィーによる分υiで、純粋であることを確認した。
比較例 1〜3
テロラブロモ無水フタル酸50.Og (0,108m
ol)とジアミノジフェニルスルホン13゜4g (0
,054mo 1)を11の四つ目フラスコに仕込んだ
。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの混合溶
媒(表1記載の混合比)600mlを加えた。その後1
00℃で2時間攪拌した。その後比較例1及び2の場合
は還流するまで温度を上昇させ、還流が始まってから5
時間反応した。比較例3の場合は140℃まで温度を上
昇させ、5時間反応した。それぞれ反応終了後、反応液
を冷却後、結晶を濾過することで結晶を取り上げた。
ol)とジアミノジフェニルスルホン13゜4g (0
,054mo 1)を11の四つ目フラスコに仕込んだ
。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの混合溶
媒(表1記載の混合比)600mlを加えた。その後1
00℃で2時間攪拌した。その後比較例1及び2の場合
は還流するまで温度を上昇させ、還流が始まってから5
時間反応した。比較例3の場合は140℃まで温度を上
昇させ、5時間反応した。それぞれ反応終了後、反応液
を冷却後、結晶を濾過することで結晶を取り上げた。
比較例 4
テロラブロモ無水フタル酸50.0g (0,108m
o 1)とジアミノジフェニルメタン10゜7g (0
,054mo 1)を11の四つロフラスコに仕込んだ
。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの混合溶
媒(体積比 66:34)600mlを加えた。その後
100℃で2時間攪拌した。その後還流するまで温度を
上昇させ、還流が始まってから5時間反応させた。冷却
後、結晶を濾過し結晶を取り上げた。
o 1)とジアミノジフェニルメタン10゜7g (0
,054mo 1)を11の四つロフラスコに仕込んだ
。それにジメチルアセトアミドとm−キシレンの混合溶
媒(体積比 66:34)600mlを加えた。その後
100℃で2時間攪拌した。その後還流するまで温度を
上昇させ、還流が始まってから5時間反応させた。冷却
後、結晶を濾過し結晶を取り上げた。
Claims (1)
- 無水フタル酸化合物とジアミン化合物を反応させビスフ
タルイミド類化合物を製造する方法に於いて、溶媒とし
て非プロトン性極性溶媒と水と共沸能を持つ炭化水素溶
媒との混合溶媒で、その混合比率が体積比で3:97〜
30:70からなる溶媒中で反応することを特徴とする
、ビスフタルイミド類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63299679A JPH02145568A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ビスフタルイミド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63299679A JPH02145568A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ビスフタルイミド類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02145568A true JPH02145568A (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=17875662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63299679A Pending JPH02145568A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ビスフタルイミド類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02145568A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998052919A1 (fr) * | 1997-05-21 | 1998-11-26 | Japan Tobacco Inc. | Derives de phtalimide et produit pharmaceutique contenant ces derives |
JP2007211029A (ja) * | 1997-02-14 | 2007-08-23 | Ube Ind Ltd | カルバメートの製法 |
JP2007230489A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Mazda Motor Corp | 車体前部構造 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61106554A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | N−アリ−ルイミドの製造方法 |
JPS63122668A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ビス(ヒドロキシフタルイミド)の製造法 |
JPS63264564A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-11-01 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 新規エ−テルジアミンおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-11-29 JP JP63299679A patent/JPH02145568A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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