JPS63264564A - 新規エ−テルジアミンおよびその製造方法 - Google Patents

新規エ−テルジアミンおよびその製造方法

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JPS63264564A
JPS63264564A JP62095299A JP9529987A JPS63264564A JP S63264564 A JPS63264564 A JP S63264564A JP 62095299 A JP62095299 A JP 62095299A JP 9529987 A JP9529987 A JP 9529987A JP S63264564 A JPS63264564 A JP S63264564A
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幸宏 吉川
Midori Yamazaki
みどり 山崎
Kenichi Sugimoto
賢一 杉本
Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、4.4”−ビス(4−(4−アミノフェノキ
シ)フェノキシフジフェニルスルホンおよびその製造方
法に関する。更に詳しくは、4.4゛−ジハロゲノジフ
ェニルスルホンと4−アミノ−4°−ヒドロキシジフェ
ニルエーテルを非プロトン性極性溶媒中、塩基の存在下
で反応させて得られる4、4゛−ビス(4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェノキシフジフェニルスルホンに関す
る。
本発明の4,4゛−ビス(4−(4−アミノフェノキシ
)フェノキシフジフェニルスルホンは、かって製造され
た例がなく、その用途も知られていない。
しかしながら、その構造上、耐熱性高分子のモノマー、
とくにポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマ
レイミド樹脂等の基幹原料として有用である。
(従来技術) 従来、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応によ
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広(利用されることが期待されている。
しかしながら、従来公知のポリイミド樹脂は、優れた耐
熱性を有するものの加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等の種々の問題点を有している。例えば式(II) で表されるような基本骨格からなるポリイミド(デュポ
ン社製;商品名Kapton Vespel)は明瞭な
ガラス転移温度を存せず、耐熱性は優れたポリイミドで
あるが、成形材料として用いる場合に加工が難しく、焼
結成形などの手法を用いて加工しなければならない。
また式(I[[) で表されるような基本骨格を有するポリエーテルイミド
(ゼネラル・エレクトリック社製;商品名ULTEM)
は加工製に優れた樹脂であるが、ガラス転移温度が21
7°Cと低く、またメチレンクロリドなどのハロゲン化
炭化水素に可溶で、耐熱性、耐溶剤性の面からは満足で
きる樹脂ではない。
式(V) で表されるような基本骨格を有するポリスルホン(米ユ
ニオン・カーバイト社製;商品名UDEL P。
Iysulfone)はガラス転移温度が195°Cと
低く、更に、式(V) で表されるような基本骨格を有するポリエーテルスルホ
ン(英インペリアル・ケミカル社製:商品名VICTR
EχPo1yethersulfone)はガラス転移
温度が225°Cとポリスルホンに比べて耐熱性が向上
するものの、従来のポリイミドに比べれば耐熱性の面で
満足できるものではない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の課題は、ポリイミド樹脂が本来有する優れた耐
熱性に加え、優れた加工性を宵する多目的用途に使用可
能なポリイミド樹脂の原料となる新規な化合物、すなわ
ち、芳香族エーテルジアミンを提供することである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者等は、上記のような課題達成のため、すでに種
々のジアミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹
脂を製造し、その性能の評価を行ってきた。その結果、
式(I) で表される4、4′−ビス(4−(4−アミノフェノキ
シ)フェノキシフジフェニルスルホンを原料とするポリ
イミド樹脂が優れた性能を示すことを見出した。
すなわち、前記式(+)で表される新規エーテルジアミ
ンとピロメリット酸二無水物とからなるポリイミド樹脂
は、ガラス転移温度(Tg)が290°C1融点が42
0°Cであり、また耐熱性も空気中における5χ重量減
少が500°C以上と成形加工性、熱安定性とも極めて
優れている。
したがって、本発明の化合物は、耐熱性の極めて優れた
ポリイミド樹脂の原料として非常に有用な4.4゛−ヒ
ニス(4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシフジフ
ェニルスルホンおよびその製造方法である。
本発明の方法で使用する原料は、4,4゛−ジハロゲノ
ジフェニルスルホンおよび4−アミノ−4゛−ヒドロキ
シジフェニルエーテルである。
使用量は、4−アミノ−4′−ヒドロキシジフェニルエ
ーテルヲ414−ジハロゲノジフェニルスルホンに対し
て2倍モル以上、好ましくは2〜3倍モル量である。
本発明の方法で使用される4、4゛−ジハロゲノジフェ
ニルスルポンとしては、4.4+−ジクロロジフェニル
スルホン、4.4’−ジフルオロジフェニルスルホン、
4.4′−ジブロムジフェニルスルホン等であり、工業
的には、4.4′−ジクロロジフェニルヌルホンが使用
される。
また、4−アミノ−4゛−ヒドロキシジフェニルエーテ
ルは、ハイドロキノンとp−クロロニトロベンゼンを縮
合して得られる4−ニトロ−4゛−ヒドロキシジフェニ
ルエーテルを還元することにより容易に製造できる。
本発明の方法で使用する塩基は、アルカリ金属の水酸化
物、炭酸水素およびアルコキシド類であり、具体的には
水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸水
素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、
カリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびリチウ
ムエトキシド等が挙げられる。これらは単独は勿論、2
種以上を併用しても特に差し支えない。
これらの塩基は、原料の4.4゛−ジハロゲノジフェニ
ルスルホンに対して2倍モル以上、好ましくは2〜3倍
モルを使用する。
次にこの方法における反応溶媒としては、非プロトン性
極性溶媒を使用する。
この非プロトン性極性溶媒としては、N−メチルホルム
アミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルス
ルホン、スルホラン、1−メチル−2−ピロリドン、1
.3−ジメチル−2−イミダゾリジノンおよびリン酸ヘ
キサメチルトリアミド等が挙げられる。
これらの溶媒の使用量は特に限定されないが、通常、原
料に対して1〜10重量倍で十分である。
反応温度は、通常、100〜240°Cの範囲であり、
好ましくは120〜200°Cの範囲である。
本発明の方法においては、4級アンモニア塩、4級ホス
ホニウム塩、クラウンエーテルのような大環状ポリエー
テル、クリプテートのような含窒素環状ポリエーテル、
含窒素鎖状ポリエーテル、ポリエチレングリコールおよ
びアルキルエーテルのような相間移動触媒および銅粉、
銅塩などを反応促進剤として加えてもよい。
本発明の方法における一般的な実施態様とじては、所定
量の4−アミノ−4゛−ヒドロキシジフェニルエーテル
、塩基および溶媒を装入し、4−アミノ−4“−ヒドロ
キシジフェニルエーテルをアルカリ金属塩とした後、4
,4゛−ジハロゲノジフェニルスルホンを加えて反応さ
せるか、あるいは予め4,4゜−ジハロゲノジフェニル
スルホンを含む全原料を同時に加え、そのまま昇温しで
反応させるかのいずれであってもよい。勿論、これらに
限定されるものではなく、その他の方法により実施する
ことも出来る。反応系内に水が生成する場合、それを除
去する方法としては、窒素ガス等を通気させることによ
って反応中に徐々に系外に除去する方法、あるいはベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等を少量使
用して共沸により糸外へ取り除く方法でもよい。この反
応の終点は、薄層クロマトグラフィーまたは高速液体ク
ロマトグラフィーにより原料または未反応中間体(モノ
置換体)の減少を見ながら決定をすることができる。
反応終了後、上記の方法により得られた反応液をそのま
ま水等に排出するか、または濾過によって無機塩を除去
した後、溶媒をa縮して粗製品を得、得られた粗製品を
溶剤により再結晶を行うか、または塩酸など鉱酸の添加
によって鉱酸塩として析出させ中和して目的物を得るこ
とができる。
(作用および効果) 本発明は新規なエーテルジアミンおよびそれらの製造方
法を提供するものである。本発明のジアミンをモノマー
として用いたポリイミド樹脂は、熱安定性が極めて良く
、さらに成形加工性が容易であるという特徴がある。す
なわち、本発明の新規エーテルジアミンは、ポリイミド
樹脂原料として、あるいはポリアミド樹脂、ビスマレイ
ミド樹脂等の原料として有用な化合物である。
また、これらの化合物を、4,4゛−ジハロゲノジフェ
ニルスルポンと4−アミノ−4′−ヒドロキシジフェニ
ルエーテルを用いて、非プロトン性極性溶媒中、塩基の
存在下で反応させ高純度、好収率で製造する方法を提供
するものであり、本発明は、その工業的意義の大きいも
のである。
(実施例) 以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1 撹拌機、温度計および冷却管を装備した反応フラスコに
4−アミノ−4“−ヒドロキシジフェニルエーテル15
0.9g(0,75モル’) 、96X水酸化カリウム
42.8g(0,73モル) 、1.3−ジメチル−2
−イミダゾリジノン450g 、  トルエン45gを
装入し、撹拌下に窒素ガスを通気させながら昇温し、ト
ルエンの還流状態で反応系内の水分を水分離器により除
去した。
次に内温を100°C以下に下げたのち、4.4′−ジ
クロルジフェニルスルホン102.6g(0,357モ
ル)を1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン205
gに?容解した溶液を滴下し、再び昇温して内温を18
0〜190°Cに保った。同温度で4時間反応を行って
終了した反応液を冷却後、メチルアルコールに排出する
と、結晶が析出した。これを濾過、洗浄後、2−メトキ
シエタノールにより再結晶を行い、白色の結晶を得た。
収量  183g(収率83.0%) mp     212 〜214  °C元素分析値(
C3Jzs06N2S) CHNS 計算値(χ)  70.12 4.58 4.54 5
.20分析値(X)  ?0.30 4.38 4.5
6 5.43IR(KBr、 cm−’)  3450
,3350: アミノ基1240   : エーテル結
合 1150   :スルホン MS CFD法”) :616  (M” ”)実施例
2および3 実施例Iにおいて、溶媒として使用した!、3−ジメチ
ルー2〜イミダゾリジノンをジメチルスルホキシドに替
え(実施例2)、また塩基として使用した水酸化カリウ
ムを水酸化ナトリウム30.4(0,73モル)に替え
る外は全く同様に反応を行った。
目的生成物を収量165g(収率75χ)(実施例2)
および159g (収率72χ)で得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表される4,4′−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
    シ)フェノキシ〕ジフェニルスルホン。 2)4,4′−ジハロゲノジフェニルスルホンと4−ア
    ミノ−4′−ヒドロキシジフェニルエーテルを非プロト
    ン性極性溶媒中、塩基の存在下で反応させることを特徴
    とする4,4′−ビス〔4−(−アミノフェノキシ)フ
    ェノキシ〕ジフェニルスルホンの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02145568A (ja) * 1988-11-29 1990-06-05 Tosoh Corp ビスフタルイミド類の製造法
JPH02178328A (ja) * 1988-12-28 1990-07-11 Mitsui Toatsu Chem Inc 熱安定性の良好なポリイミドの製造方法
CN104447441A (zh) * 2014-10-17 2015-03-25 常州大学 一种同时含四大取代侧基和扭曲非共平面结构芳香二胺单体及其制备方法

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