JPH02141415A - 高シリカ型ゼオライトの製造方法 - Google Patents

高シリカ型ゼオライトの製造方法

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JPH02141415A
JPH02141415A JP29470788A JP29470788A JPH02141415A JP H02141415 A JPH02141415 A JP H02141415A JP 29470788 A JP29470788 A JP 29470788A JP 29470788 A JP29470788 A JP 29470788A JP H02141415 A JPH02141415 A JP H02141415A
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JP
Japan
Prior art keywords
silica
water
hydrothermal synthesis
alkali
silicalite
Prior art date
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Pending
Application number
JP29470788A
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English (en)
Inventor
Toshio Yokogawa
横川 敏雄
Takashi Maekawa
前川 尚
Naohisa Yoshimi
直久 吉見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
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  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野] 本発明は、シリカライト等の高シリカ型ゼオライトの製
造方法に関する。このようなゼオライトは触媒あるいは
吸着剤等として有用である。
[従来の技術] シリカライトやZSH−5等の高シリカ型ゼオライトは
、シリカを第四級アンモニウム塩、第四級ホスホニウム
塩等の有機テンプレートの存在下、アルカリ及び水と共
に水熱合成を行なうことによって得られる。シリカライ
トについては特開昭62−38.241号公報、アメリ
カ特許第4,061,724号公報及びネイチャー、第
280巻、664〜665頁等で開示されている。ZS
M−5については、アメリカ特許第3,702,886
号等で開示されている。
このような高シリカ型のゼオライトは、シリカまたはシ
リカと少量のアルミナからなる水和ゲルを原料とし、テ
ンプレートとしての有機塩基及び無機塩基の存在下、1
00〜200℃の条件で、1〜4日間水熱合成を行ない
、結晶化させることによって製造される。通常、このよ
うにして得られたゼオライトの結晶粒径は数ρないし数
10/Jと比較的小さい。結晶粒径は、合成温度、攪拌
や水の量の調整、種結晶の添加等によって制御すること
ができるが、効率良く製造するためには限度がある。
ところで、結晶粒径が触媒としての活性あるいは選択性
に大きな影響を及ぼずことはよく知られていることであ
り、用途によっては大きな粒径のゼオライトが要求され
ることが多い。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、100μs前後と比較的結晶粒径の大きな高
シリカ型のゼオライトを効率良く製造することを目的と
する。
[課題を解決するための手段] 本発明は、珪酸テトラアルキルエステルを有機テンプレ
ートの存在下に加水分解してゲル化させ、乾燥して得ら
れたシリカを原料とし、アルカリ及び水の存在下、水熱
合成を行なって高シリカ型ゼオライトを製造する方法で
ある。
珪酸テトラアルキルニスデルとしては、珪酸テトラメチ
ルエステル、珪酸テトラエチルエステル等任意のものを
使用することができる。
有機デンプレートとしては、ジメチルアミン等のアミン
、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブ
チルアンモニウム等の水酸化テトラアルキルアンモニウ
ム又はその臭化水素酸塩等の塩、第四級ホスホニウム化
合物、ジメチル尿素等の尿素化合物、ラクトンアミド等
のアミド化合物等の公知の有機デンプレートが使用でき
るが、好ましくは水酸化テトラアルキルアンモニウム又
はその塩である。
珪酸テ1〜ルアルキルエステルの加水分解は、塩酸等の
酸又はアンモニア等の塩基を加える公知の方法によって
行なうことができるが、この際に有機テンプレートを存
在させることが重要である。
有機テンブレー1〜を存在させることにより、生成した
シリカゲル中にこれが取り込まれる。そして、このシリ
カを原料として使用することにより、比較的結晶粒径の
大きいしかも粒径の揃った高シリカ型しオライドを得る
ことが可能となる。
加水分解の条件は任意であるが、例えば珪酸テトラアル
キルエステル1モルに対し、水1〜20モル、モノアル
コール0〜10モル、テ1〜ラプロピルアンモニウムブ
ロマイド等の有機テンプレート0.1〜2モル及び酸又
は塩基0.02〜1モルを添加し、60℃前後で行なう
方法がある。ゲル化が終了した後は、乾燥を行なってエ
ヂルアルコール等のアルコール及び水の一部又は全部を
除去するが、ここで水を完全に除去する必要はない。
乾燥は常圧又は減圧下、30〜60℃程度で行なうこと
が好ましい。
水熱台或は、高シリカ型ゼオライトを製造する公知の条
件で行なうことができる。ここで、本発明でいう高シリ
カ型ゼオライトは、シリカ対アルミナの比が5:1より
大ぎいアルミノリケ−1〜又はシリカライトであり、例
えばZS)l−5、ZSM−11、ZSH−12、ZS
)f−23、ZSH−35、ZSH−38、ZSM−4
8、シリカライト■及びシリカライト■等が挙げられる
が、好適にはシリカライト■又はシリカライt−nであ
る。
原料のシリカとアルカリ及び水の割合の一例を示せば、
シリカ1gに対して水10g、水酸化ナトリウム1g、
NaCρ1g程度である。有機テンプレートはシリカ1
gに対して0.1〜2g程度原料シリカ中に含まれてい
るので、特に添加する必要はないが、必要により少檄添
加してもよい。
なお、アルミナは少量加えてもあるいは全く加えなくと
もよいが、不純物量のアルミナの存在を防ぐことは困難
であるので、通常は微量以上のアルミナを含有する。
水熱台或は、好ましくは加圧下にオートクレーブ中で1
00〜200’C,より好−ましくは120〜180℃
で1〜4日間反応さけることにより行ねれる。水熱合成
終了後、洗浄及び乾燥並びに焼成して高シリカ型ゼオラ
イトを得る。
[作 用] 本発明方法では、シリカ原料として有機テンプレートが
均一に分散した珪酸テトラアルキルエステルを加水分解
して得られたシリカゲルを使用するので、水熱合成時に
均一な核生成が起こると共に、結晶成長が促進され、粒
度が揃った結晶粒径の大きい高シリカ型ゼオライト型が
生成するものと考えられる。
[実施例] 以下、実施例及び比較例に基いて、本発明方法を具体的
に説明する。
実施例1〜8 第1表に示す割合でエタノール4−しル部にデ1〜ラブ
口ピルアンモニウムブロマイド(TPA−Br) 0゜
1モル部を溶解した後、珪酸テトラエチルエステル(丁
EO3) 1モル部と、第1表に示す割合で水と塩酸又
はアンモニアを添加して60℃でゲル化させ、得られた
ゲルを30℃で充分に乾燥して原料シリカとした。
次に、石英ガラス容器内に上記シリカ0.673並びに
Na0HO,oag、NaCjl 0.88び及び水6
.95gを装入して溶封し、高圧容器内で180℃、9
 atlllの条件で2日間水熱合成を行なった。得ら
れた生成物を脱イオン水で洗浄後、130℃で1日乾燥
し、さらに630 ’Cで1日焼成して結晶物質を得た
得られた結晶物質をX線回折及び走査型電子顕微鏡で調
べたところ、シリカライトであることが確認された。結
晶の粒径はいずれも100〜150IJIlであり、粒
度も揃っていた。
第1表 比較例1〜2 TPA−Brを存在させなかった以外は実施例7と同様
にして得られたシリカ(a−8i 02 >又はTE0
1をシリカ原料とし、実施例と同様にして水熱合成を行
ない、シリカライトを製造した。但し、比較例2の場合
は生成速度が遅いため3日間反応を行なった。そのとき
の条件は第2表に示す通りであり、得られた結晶の平均
粒径はいずれも100μm以下であり、また、粒度も不
揃いであった。
第2表 [発明の効果] 本発明の製造方法によれば、比較的結晶粒径が大きく、
粒度の揃ったシリカライト等の高シリカ型ゼオライトを
効率良く製造することができる。
このような高シリカ型ゼオライトは各種触媒材料あるい
は吸着剤等として有用である。
特許出願人   新日鐵化学株式会社

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)珪酸テトラアルキルエステルを有機テンプレート
    の存在下に加水分解してゲル化させ、乾燥して得られた
    シリカを原料とし、アルカリ及び水の存在下、水熱合成
    を行なうことを特徴とする高シリカ型ゼオライトの製造
    方法。
  2. (2)高シリカ型ゼオライトがシリカライトである請求
    項1記載の製造方法。
  3. (3)珪酸テトラエステルを、テトラプロピルアンモニ
    ウム塩の存在下に加水分解してゲル化させ、エチルアル
    コールを除去して得られた水酸化テトラプロピルアンモ
    ニウム又はその塩を含有するシリカを原料とし、アルカ
    リ及び水の存在下、水熱合成を行なうことを特徴とする
    シリカライトの製造方法。
JP29470788A 1988-11-24 1988-11-24 高シリカ型ゼオライトの製造方法 Pending JPH02141415A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07118010A (ja) * 1993-10-15 1995-05-09 Nok Corp 合成ゼオライト結晶およびその製造法
CZ299372B6 (cs) * 2005-09-23 2008-07-09 Výzkumný ústav anorganické chemie, a. s. Zpusob výroby zeolitu ZSM-5 s rízenou velikostí krystalu

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