JPH02137704A - 塩化水素ガスの精製方法 - Google Patents
塩化水素ガスの精製方法Info
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- JPH02137704A JPH02137704A JP63289944A JP28994488A JPH02137704A JP H02137704 A JPH02137704 A JP H02137704A JP 63289944 A JP63289944 A JP 63289944A JP 28994488 A JP28994488 A JP 28994488A JP H02137704 A JPH02137704 A JP H02137704A
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Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ)発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば塩素化炭化水素の熱分解反応および炭
化水素の塩素化反応等により副生ずる、反応生成物であ
る塩素化炭化水素を含有する塩化水素ガスの精製方法に
関する。
化水素の塩素化反応等により副生ずる、反応生成物であ
る塩素化炭化水素を含有する塩化水素ガスの精製方法に
関する。
各種塩素化炭化水素の製造、例えば四塩化エタンの脱塩
化水素反応によるトリクロロエチレンの製造の際等、副
生物として塩化水素が生成し、かかる副生塩化水素の精
製度が不充分であると、塩化水素の利用分野が制限され
、またこれを他の工程の原料として使用する場合には、
機器装置の腐食あるいは製品純度の低下等の原因につな
がる。
化水素反応によるトリクロロエチレンの製造の際等、副
生物として塩化水素が生成し、かかる副生塩化水素の精
製度が不充分であると、塩化水素の利用分野が制限され
、またこれを他の工程の原料として使用する場合には、
機器装置の腐食あるいは製品純度の低下等の原因につな
がる。
これらの課題を解決する為に、(1)高圧下、深冷分離
方法によって塩化水素中の有機塩化物を分離する方法、
(2)ポリスチレン発泡粒で塩化水素中の有機化合物を
接触溶解して除去する方法(特公昭47−40630号
公報)、または(3)固定床粒状塩素化ポリオレフィン
との接触溶解による塩化水素中の塩素化炭化水素の吸着
除去方法(特公昭49−4362号公報)等が提案され
ているが、(1)および(2)の方法は所望の純度を得
る為には大規模な装置を必要とし、また精製のための経
費も高くなるという欠点があり、また(3)の方法では
高純度の塩化水素が得られるが、吸着材の再生が必要な
ため操作が*雑である。
方法によって塩化水素中の有機塩化物を分離する方法、
(2)ポリスチレン発泡粒で塩化水素中の有機化合物を
接触溶解して除去する方法(特公昭47−40630号
公報)、または(3)固定床粒状塩素化ポリオレフィン
との接触溶解による塩化水素中の塩素化炭化水素の吸着
除去方法(特公昭49−4362号公報)等が提案され
ているが、(1)および(2)の方法は所望の純度を得
る為には大規模な装置を必要とし、また精製のための経
費も高くなるという欠点があり、また(3)の方法では
高純度の塩化水素が得られるが、吸着材の再生が必要な
ため操作が*雑である。
本発明者らは、各種塩素化炭化水素の製造工程において
副生ずる塩化水素ガスを精製するにあたり、簡単な装置
で、しかも使用時の要求に充分耐え得る純度に精製する
ことを可能とし、さらに精製のための経費が億個である
塩化水素ガスの精製方法について鋭意研究した結果、本
発明を完成した。
副生ずる塩化水素ガスを精製するにあたり、簡単な装置
で、しかも使用時の要求に充分耐え得る純度に精製する
ことを可能とし、さらに精製のための経費が億個である
塩化水素ガスの精製方法について鋭意研究した結果、本
発明を完成した。
口)発明の構成
〔課題を解決する為の手段]
本発明は、標準沸点が70℃以上であり、塩素原子数が
1〜3で炭素数が2の飽和または不飽和塩素化炭化水素
を含有する塩化水素ガスを、温度5℃〜−25℃、圧力
3 kg/ c +*2〜10 kg/ c−富(ゲー
ジ圧)において、五塩化エタン溶液に接触させることを
特徴とする塩化水素ガスの精製方法である。
1〜3で炭素数が2の飽和または不飽和塩素化炭化水素
を含有する塩化水素ガスを、温度5℃〜−25℃、圧力
3 kg/ c +*2〜10 kg/ c−富(ゲー
ジ圧)において、五塩化エタン溶液に接触させることを
特徴とする塩化水素ガスの精製方法である。
本発明方法は、特に塩素化炭化水素の熱分解反応あるい
は炭化水素の塩素化反応等で副生ずる塩化水素ガスに好
適に適用され、また塩化水素ガスは酸素等を含有してい
ても、窒素等の不活性ガスの希釈等による防爆対策が行
われていれば、特に差支えない。
は炭化水素の塩素化反応等で副生ずる塩化水素ガスに好
適に適用され、また塩化水素ガスは酸素等を含有してい
ても、窒素等の不活性ガスの希釈等による防爆対策が行
われていれば、特に差支えない。
本発明における被吸収化合物の具体例としては、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、1. 2−ジクロロ
エタン等が挙げられ、特に好適には1.2−ジクロロエ
タン、トリクロロエチレンが挙げられる。
ロロエタン、トリクロロエチレン、1. 2−ジクロロ
エタン等が挙げられ、特に好適には1.2−ジクロロエ
タン、トリクロロエチレンが挙げられる。
本発明において塩化水素ガス中の被吸収化合物の含有量
は、1500容量ppm以下が好ましく、非常に高純度
、例えば50容量pp−以下に精製する必要がある場合
は1000容量ppm以下が更に好ましい、1500容
!pp閣を越えると精製に要する五塩化エタン溶液の量
が多量となり経済的とは言えず、また要求される純度ま
で精製されない可能性がある。あまり多量に被吸収化合
物を含有している場合は、予め冷却、蒸留等公知の方法
により大部分の被吸収化合を除去して行うとよい。
は、1500容量ppm以下が好ましく、非常に高純度
、例えば50容量pp−以下に精製する必要がある場合
は1000容量ppm以下が更に好ましい、1500容
!pp閣を越えると精製に要する五塩化エタン溶液の量
が多量となり経済的とは言えず、また要求される純度ま
で精製されない可能性がある。あまり多量に被吸収化合
物を含有している場合は、予め冷却、蒸留等公知の方法
により大部分の被吸収化合を除去して行うとよい。
五塩化エタン溶液はそれ単独で用いても良いし、他の溶
剤との混合溶液として用いても差し支えない、混合溶液
として用いる場合は、該混合溶液が被吸収化合物と共沸
混合物を形成せず、かつ被吸収化合物の沸点よりも高い
沸点を有するものが好ましく、その具体例としてそれ自
体も塩素化反応に利用することが出来る四塩化エタン等
が挙げられる。また混合溶液である場合の五塩化エタン
の濃度は95モル%以上が望ましい。
剤との混合溶液として用いても差し支えない、混合溶液
として用いる場合は、該混合溶液が被吸収化合物と共沸
混合物を形成せず、かつ被吸収化合物の沸点よりも高い
沸点を有するものが好ましく、その具体例としてそれ自
体も塩素化反応に利用することが出来る四塩化エタン等
が挙げられる。また混合溶液である場合の五塩化エタン
の濃度は95モル%以上が望ましい。
本発明において、塩化水素ガスと五塩化エタン溶液とを
接触させるための、系内への好ましい供給割合としては
、要求される塩化水素ガスの精製度および被吸収化合物
の濃度にもよるが、例えば精製後の塩化水素ガス中の被
吸収化合物が50容量pp−以下のように高純度が要求
される場合、塩化水素ガス中の被吸収化合物(A)と五
塩エタン溶液(B)のモル比(R=B/A)が、下式〔
I]によって算出される値以下が好ましい。
接触させるための、系内への好ましい供給割合としては
、要求される塩化水素ガスの精製度および被吸収化合物
の濃度にもよるが、例えば精製後の塩化水素ガス中の被
吸収化合物が50容量pp−以下のように高純度が要求
される場合、塩化水素ガス中の被吸収化合物(A)と五
塩エタン溶液(B)のモル比(R=B/A)が、下式〔
I]によって算出される値以下が好ましい。
R= (1,25T+56)XC+1000 (1)〔
ただし、T:接触温度、C;塩化水素ガス中の被吸収物
質の含有It(容量ppm) )モル比Rの値が上記の
式で算出される値を越えると、五塩化エタン溶液の塩化
水素ガスへの逆汚染の恐れがあり、また五塩化エタン溶
液の流量が多大となり経済的にも好ましいとはいえない
、被吸収化合物と五塩化エタン溶液の具体的なモル比は
、接触条件によっても異なるが、例えば被吸収化合物が
トリクロロエチレンの場合8〜50が好ましく、さらに
好ましくは15〜40である。
ただし、T:接触温度、C;塩化水素ガス中の被吸収物
質の含有It(容量ppm) )モル比Rの値が上記の
式で算出される値を越えると、五塩化エタン溶液の塩化
水素ガスへの逆汚染の恐れがあり、また五塩化エタン溶
液の流量が多大となり経済的にも好ましいとはいえない
、被吸収化合物と五塩化エタン溶液の具体的なモル比は
、接触条件によっても異なるが、例えば被吸収化合物が
トリクロロエチレンの場合8〜50が好ましく、さらに
好ましくは15〜40である。
本発明において、塩化水素ガスと五塩化エタン溶液を接
触させる場合の好ましい実施態様としては、被吸収化合
物を吸収した後の五塩化エタン溶液の共存下に接触させ
る方法が挙げられる。すなわち吸収塔内の充填層表面の
充分な液温れを達成する為に、塩化水素ガスと接触して
被吸収化合物を吸収した五塩化エタン溶液の一部を接触
系内に再循環させ、その共存下に、塩化水素ガスと新た
な五塩化エタン溶液を接触させると、吸収効率をより高
めることが可能である。
触させる場合の好ましい実施態様としては、被吸収化合
物を吸収した後の五塩化エタン溶液の共存下に接触させ
る方法が挙げられる。すなわち吸収塔内の充填層表面の
充分な液温れを達成する為に、塩化水素ガスと接触して
被吸収化合物を吸収した五塩化エタン溶液の一部を接触
系内に再循環させ、その共存下に、塩化水素ガスと新た
な五塩化エタン溶液を接触させると、吸収効率をより高
めることが可能である。
塩化水素ガスと五塩化エタン溶液の接触温度は一5℃〜
−25“Cであり、更に好ましくは一10℃〜−20℃
である。−5℃を越えると五塩化エタン溶液による逆汚
染がおこり、−25℃未満では効率的な吸収を行わせ難
く実用的ではない。
−25“Cであり、更に好ましくは一10℃〜−20℃
である。−5℃を越えると五塩化エタン溶液による逆汚
染がおこり、−25℃未満では効率的な吸収を行わせ難
く実用的ではない。
接触圧力は3〜10kg/cm2(ゲージ圧)であり、
更に好ましくは5〜7kg/cm2(ゲージ圧)である
* 3kg/cm” (ゲージ圧)未満では五塩化エタ
ン溶液による逆汚染がおこり、10 kg/ c m2
(ゲージ圧)を越えると装置上の負担が大きくなり、工
業的に有利ではない。
更に好ましくは5〜7kg/cm2(ゲージ圧)である
* 3kg/cm” (ゲージ圧)未満では五塩化エタ
ン溶液による逆汚染がおこり、10 kg/ c m2
(ゲージ圧)を越えると装置上の負担が大きくなり、工
業的に有利ではない。
塩化水素ガスと五塩化エタン溶液は向流接触させるのが
好ましい。
好ましい。
本発明の精製方法においては装置上の制限が特になく、
通常の気液接触装置例えば従来から塩化水素の精製に使
用されている装置を用いればよい。
通常の気液接触装置例えば従来から塩化水素の精製に使
用されている装置を用いればよい。
以下第1図に基づき本発明の一実施態様を具体的に説明
する。
する。
第1図は本発明の塩化水素精製装置の一実施態様を示す
フローシートである。吸収塔1は充填層2を備えており
、非吸収化合物を含有する塩化水素ガスは、吸収塔1の
下部にある塩化水素ガス供給管3より供給される。一方
五塩化エタン溶液は五塩化エタン溶液供給管4より冷却
器5を経て所定の温度に冷却され、吸収塔1の上部より
供給され、充填N2において塩化水素ガスと向流接触す
る。
フローシートである。吸収塔1は充填層2を備えており
、非吸収化合物を含有する塩化水素ガスは、吸収塔1の
下部にある塩化水素ガス供給管3より供給される。一方
五塩化エタン溶液は五塩化エタン溶液供給管4より冷却
器5を経て所定の温度に冷却され、吸収塔1の上部より
供給され、充填N2において塩化水素ガスと向流接触す
る。
精製された塩化水素ガスは塩化水素ガス出口管6より糸
外に取り出され、被吸収化合物を吸収した五塩化エタン
溶液は循環ポンプ7により、一部が吸収五塩化エタン溶
液出口管8より排出され、残部は冷却器5を経て吸収塔
1に循環される。
外に取り出され、被吸収化合物を吸収した五塩化エタン
溶液は循環ポンプ7により、一部が吸収五塩化エタン溶
液出口管8より排出され、残部は冷却器5を経て吸収塔
1に循環される。
本発明によれば、塩化水素中の被吸収化合物を初期の含
有量の20分の1程度まで低下させることが可能で、例
えば1000容itppm程度の含有量を50容lpp
m+程度まで低下させることが可能である。また本発明
は気液接触操作で成り立っているので、従来の吸着法等
による精製方法に比べ、吸着材の再生の必要もなく装置
が極めて簡単であり、しかも吸収速度が大きいので反応
装置を小型化することができ、また中程度の圧力操作で
行えるため、例えば塩素化製造工程において本方法を利
用した場合には、その製造工程の圧力や温度条件等が充
分利用できる。
有量の20分の1程度まで低下させることが可能で、例
えば1000容itppm程度の含有量を50容lpp
m+程度まで低下させることが可能である。また本発明
は気液接触操作で成り立っているので、従来の吸着法等
による精製方法に比べ、吸着材の再生の必要もなく装置
が極めて簡単であり、しかも吸収速度が大きいので反応
装置を小型化することができ、また中程度の圧力操作で
行えるため、例えば塩素化製造工程において本方法を利
用した場合には、その製造工程の圧力や温度条件等が充
分利用できる。
更に、各成分は全て塩素化工程に循環利用することが可
能である9例えば五塩化エタン溶液に吸収された被吸収
化合物は、塩素化により多塩素化炭化水素となり、塩素
化工程に有効に循環利用でき、工業的に非常に有利であ
る。
能である9例えば五塩化エタン溶液に吸収された被吸収
化合物は、塩素化により多塩素化炭化水素となり、塩素
化工程に有効に循環利用でき、工業的に非常に有利であ
る。
以下実施例に基づき、本発明をさらに詳しく説明する。
〔実施例]
第1図に示す如く主装置において、塔径50cm、塔高
8.5m、塔内充填層の高さ約3 m (503304
製で1インチのラシヒリングを充填)からなる5US3
04製吸収塔1に、五塩化エタン混合液(五塩化エタン
約99.5モル%および四塩化エタン約0.5モル%か
らなる)を、五塩化エタン溶液供給管4より冷却器5を
経て供給し、約2. 5m3/hrで循環ポンプ7によ
り循環させた。吸収塔内の温度は一15℃に、また圧力
は5 kg/ c m” (ゲージ圧)に維持した。
8.5m、塔内充填層の高さ約3 m (503304
製で1インチのラシヒリングを充填)からなる5US3
04製吸収塔1に、五塩化エタン混合液(五塩化エタン
約99.5モル%および四塩化エタン約0.5モル%か
らなる)を、五塩化エタン溶液供給管4より冷却器5を
経て供給し、約2. 5m3/hrで循環ポンプ7によ
り循環させた。吸収塔内の温度は一15℃に、また圧力
は5 kg/ c m” (ゲージ圧)に維持した。
トリクロロエチレンヲ各々970.800,600また
は400容!pp+w含有する塩化水素ガス約800
Nm’/hrを塩化水素ガス供給管3より供給し、一方
、五塩化エタン混合液を五塩化エタン溶液供給管4より
、五塩化エタン/トリクロロエチレンのモル比が20〜
25となる量で供給し、塩化水素ガスと連続向流接触さ
せた。精製された塩化水素ガスは塩化水素ガス出口管6
より糸外に取り出し、トリクロロエチレンを吸収した五
塩化エタン混合液のうち、新たに供給する五塩化エタン
混合液と同量を、吸収五塩化エタン溶液出口管8より排
出し、残りは循環ポンプ7により約2.5m+’/hr
で循環させた。
は400容!pp+w含有する塩化水素ガス約800
Nm’/hrを塩化水素ガス供給管3より供給し、一方
、五塩化エタン混合液を五塩化エタン溶液供給管4より
、五塩化エタン/トリクロロエチレンのモル比が20〜
25となる量で供給し、塩化水素ガスと連続向流接触さ
せた。精製された塩化水素ガスは塩化水素ガス出口管6
より糸外に取り出し、トリクロロエチレンを吸収した五
塩化エタン混合液のうち、新たに供給する五塩化エタン
混合液と同量を、吸収五塩化エタン溶液出口管8より排
出し、残りは循環ポンプ7により約2.5m+’/hr
で循環させた。
精製後の塩化水素ガス中のトリクロロエチレンの測定結
果を第2図に示す。
果を第2図に示す。
またトリクロロエチレンを970容量ppm含有する塩
化水素ガスについて収支結果を第1表に示第1表 ハ)発明の効果 本発明によれば、例えば塩素化炭化水素の熱分解反応お
よび炭化水素の塩素化反応等の際に副生ずる塩化水素ガ
スを、種々の分野で充分適用し得るよう高純度品に精製
することができ、しかも気液接触操作のため吸着法にみ
られる再生等の煩雑な操作を必要とせず、装置が極めて
簡単で小型化出来、また吸収液を塩素化反応工程に全て
循環再利用でき、圧力、温度等の操作条件も穏和なので
、精製費用が極めて廉価であり、工業的にも経済的にも
非常に有利な方法である。
化水素ガスについて収支結果を第1表に示第1表 ハ)発明の効果 本発明によれば、例えば塩素化炭化水素の熱分解反応お
よび炭化水素の塩素化反応等の際に副生ずる塩化水素ガ
スを、種々の分野で充分適用し得るよう高純度品に精製
することができ、しかも気液接触操作のため吸着法にみ
られる再生等の煩雑な操作を必要とせず、装置が極めて
簡単で小型化出来、また吸収液を塩素化反応工程に全て
循環再利用でき、圧力、温度等の操作条件も穏和なので
、精製費用が極めて廉価であり、工業的にも経済的にも
非常に有利な方法である。
第1図は実施例で用いた塩化水素精製装置のフ第1図
軸1−行1北車令中のトリクロロエチレン +IFip
pm)ローシートであり、第2図は実施例において精製
した塩化水素ガス中の、トリクロロエチレンの含有量で
ある。 1、吸収塔 2、充填層 3、塩化水素ガス供給管 4、五塩化エタン溶液供給管 5、冷却器 6、塩化水素ガス出口管 7、循環ポンプ 8、吸収五塩化エタン溶液出口管
pm)ローシートであり、第2図は実施例において精製
した塩化水素ガス中の、トリクロロエチレンの含有量で
ある。 1、吸収塔 2、充填層 3、塩化水素ガス供給管 4、五塩化エタン溶液供給管 5、冷却器 6、塩化水素ガス出口管 7、循環ポンプ 8、吸収五塩化エタン溶液出口管
Claims (1)
- 1、標準沸点が70℃以上であり、塩素原子数が1〜3
で炭素数が2の飽和または不飽和塩素化炭化水素を含有
する塩化水素ガスを、温度−5℃〜−25℃、圧力3k
g/cm^2〜10kg/cm^2(ゲージ圧)におい
て、五塩化エタン溶液に接触させることを特徴とする塩
化水素ガスの精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63289944A JP2531249B2 (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | 塩化水素ガスの精製方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JP2531249B2 JP2531249B2 (ja) | 1996-09-04 |
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996015980A1 (en) * | 1994-11-23 | 1996-05-30 | The Dow Chemical Company | Process for extraction and recovery of anhydrous hydrogen chloride from mixtures with non-condensable gases |
WO2003002453A1 (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method of chlorine purification and process for producing 1,2-dichloroethane |
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WO2010064553A1 (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-10 | 住友化学株式会社 | 塩酸の精製方法 |
WO2010064552A1 (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-10 | 住友化学株式会社 | 塩酸の精製方法 |
US9663427B2 (en) | 2003-11-20 | 2017-05-30 | Solvay (Société Anonyme) | Process for producing epichlorohydrin |
-
1988
- 1988-11-18 JP JP63289944A patent/JP2531249B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7132579B2 (en) | 2001-06-28 | 2006-11-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method of chlorine purification and process for producing 1,2-dichloroethane |
US9663427B2 (en) | 2003-11-20 | 2017-05-30 | Solvay (Société Anonyme) | Process for producing epichlorohydrin |
US7683223B2 (en) | 2005-02-08 | 2010-03-23 | Solvay (Société Anonyme) | Method for purifying hydrogen chloride |
WO2010064553A1 (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-10 | 住友化学株式会社 | 塩酸の精製方法 |
WO2010064552A1 (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-10 | 住友化学株式会社 | 塩酸の精製方法 |
JP2010132483A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩酸の精製方法 |
JP2010132484A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩酸の精製方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2531249B2 (ja) | 1996-09-04 |
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