JPH02137030U - - Google Patents

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JPH02137030U
JPH02137030U JP4348789U JP4348789U JPH02137030U JP H02137030 U JPH02137030 U JP H02137030U JP 4348789 U JP4348789 U JP 4348789U JP 4348789 U JP4348789 U JP 4348789U JP H02137030 U JPH02137030 U JP H02137030U
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resist
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による一実施例のウエハーチヤ
ツクを示す図、第２図は従来のレジスト塗布装置
の概略構造図、第３図は従来のウエハーチヤツク
を示す図、第４図は半導体基板の外径とウエハー
チヤツクの外径との差とレジスト膜厚のバラツキ
との関係を示す図、である。 図において、１はウエハーチヤツク、１ａは真
空吸着口、２は外ウエハーチヤツク、２ａは真空
吸着口、３はキヤリア、４は搬送具、５はコータ
ーカツプ、６はノズル、７は上下機構、８は半導
体基板、９はレジスト膜、を示す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 キヤリア３内に収納されている半導体基板８を
    搬送具４を用いてコーターカツプ５内のウエハー
    チヤツクに搭載し、該ウエハーチヤツクの上部に
    配設したノズル６からレジストを滴下し、前記ウ
    エハーチヤツクを回転して前記半導体基板８の表
    面に簿膜のレジスト膜９を形成するレジスト塗布
    装置であつて、 前記ウエハーチヤツクが中央部の内ウエハーチ
    ヤツク１該内ウエハーチヤツク１を取り囲む環状
    の外ウエハーチヤツク２からなり、前記内ウエハ
    ーチヤツク１と前記外ウエハーチヤツク２との上
    下方向の相対位置を変更し得る上下機構７を具備
    することを特徴とするレジスト塗布装置。
JP4348789U 1989-04-12 1989-04-12 レジスト塗布装置 Expired - Lifetime JPH0644095Y2 (ja)

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JP4348789U JPH0644095Y2 (ja) 1989-04-12 1989-04-12 レジスト塗布装置

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Publication Number Publication Date
JPH02137030U true JPH02137030U (ja) 1990-11-15
JPH0644095Y2 JPH0644095Y2 (ja) 1994-11-14

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JPH0644095Y2 (ja) 1994-11-14

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