JPH02135132A - 高透過性気体選択分離膜 - Google Patents
高透過性気体選択分離膜Info
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 230000035699 permeability Effects 0.000 title abstract description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 15
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 10
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims abstract description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- -1 vinyl compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 16
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 32
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 210000002816 gill Anatomy 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- AEXMKKGTQYQZCS-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylpentane Chemical compound CCC(C)(C)CC AEXMKKGTQYQZCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWBTXZPDTSKZJU-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C NWBTXZPDTSKZJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYRQMYPWGQPFSJ-UHFFFAOYSA-N 3-bis(trimethylsilyloxy)silylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC([SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)C RYRQMYPWGQPFSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJPDECMXXGYFNJ-UHFFFAOYSA-N 3-bis(trimethylsilyloxy)silylbutyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC([SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)C FJPDECMXXGYFNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDPTYFNMLYSLH-UHFFFAOYSA-N 3-silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[SiH3] IMDPTYFNMLYSLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFICSDVNKFLZRQ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethylsilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)C YFICSDVNKFLZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQGSOFGPPDPEQW-UHFFFAOYSA-N 3-trimethylsilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C IQGSOFGPPDPEQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPBAWVJOPQUAMY-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)CCCOC(=O)C=C PPBAWVJOPQUAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGXNQRLVNTUILQ-UHFFFAOYSA-N 3-tris[[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxy]silylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)CCCOC(=O)C=C UGXNQRLVNTUILQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEEFZQNSLKHSGB-UHFFFAOYSA-N [1,2-dihydroxy-6-[methyl(trimethylsilyloxy)silyl]-3-(2-trimethylsilylethyl)hexan-3-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC(C(O)CO)(CCC[SiH](O[Si](C)(C)C)C)CC[Si](C)(C)C GEEFZQNSLKHSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWWSHOMCLPMQZ-UHFFFAOYSA-N [1,2-dihydroxy-6-tris(trimethylsilyloxy)silylhexan-3-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C(O)CO)CCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C YHWWSHOMCLPMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGSLCVUPXOVNLH-UHFFFAOYSA-N [1,2-dihydroxy-6-tris(trimethylsilyloxy)silylhexan-3-yl] prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)CCCC(C(O)CO)OC(=O)C=C BGSLCVUPXOVNLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFDDRWJEFXXQOM-UHFFFAOYSA-N [2,6-dimethyl-5-propan-2-yl-5-(4,4,8,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl)heptan-3-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC(CC([SiH]1O[Si](O[SiH2]O[Si](O1)(C)C)(C)C)(C(C)C)C(C)C)C(C)C SFDDRWJEFXXQOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIBAATKHJHFZRV-UHFFFAOYSA-N [2,6-dimethyl-5-propan-2-yl-5-(4,4,8,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocan-2-yl)heptan-3-yl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CC([SiH]1O[Si](O[SiH2]O[Si](O1)(C)C)(C)C)(C(C)C)C(C)C)C(C)C QIBAATKHJHFZRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJKYEECENSLPSY-UHFFFAOYSA-N [3-bis(trimethylsilyloxy)silyl-3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxypropyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC([SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C OJKYEECENSLPSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFNPVILVIKZIEX-UHFFFAOYSA-N [3-bis(trimethylsilyloxy)silyl-3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC([SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C FFNPVILVIKZIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHBMENMHRKPHMG-UHFFFAOYSA-N [6-bis(trimethylsilyloxy)silyl-1,2-dihydroxy-3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxyhexan-3-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC(C(O)CO)(CCC[SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C YHBMENMHRKPHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQXWQZNWYRDGLX-UHFFFAOYSA-N [6-bis(trimethylsilyloxy)silyl-1,2-dihydroxy-3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxyhexan-3-yl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(C(O)CO)(CCC[SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C OQXWQZNWYRDGLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTQNFATZKXLGSI-UHFFFAOYSA-N [6-bis(trimethylsilyloxy)silyl-1,2-dihydroxy-3-methylhexan-3-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C(O)CO)CCC[SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C MTQNFATZKXLGSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGDJUKOHFTZYQD-UHFFFAOYSA-N [6-bis(trimethylsilyloxy)silyl-1,2-dihydroxy-3-methylhexan-3-yl] prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(C(O)CO)(CCC[SiH](O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C)C YGDJUKOHFTZYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQDFIWLWXYFYOY-UHFFFAOYSA-N [SiH3]CCCOC(=O)C=C Chemical compound [SiH3]CCCOC(=O)C=C XQDFIWLWXYFYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- CFQGDIWRTHFZMQ-UHFFFAOYSA-N argon helium Chemical compound [He].[Ar] CFQGDIWRTHFZMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- ABTUOFDRTJEXOY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylbutanoate Chemical compound CCC(C)(C)C(=O)OC=C ABTUOFDRTJEXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSXOSWWUPHFFGN-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpentanoate Chemical compound CCCC(C)(C)C(=O)OC=C SSXOSWWUPHFFGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical class [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VGOXVARSERTCRY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC[Si](C)(C)C VGOXVARSERTCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWAWYGLUQDYLTK-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)COC(=O)C=C UWAWYGLUQDYLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は高透過性気体選択分離膜に関し、更に詳細には
、成膜性、耐熱性、酸素透過性等に優れた高気体選択分
離膜に関する。
、成膜性、耐熱性、酸素透過性等に優れた高気体選択分
離膜に関する。
〈従来の技術〉
従来から、大気等に含まれる酸素と窒素とを気体状態で
効率よく分離し、酸素富化空気を得る合成高分子膜が種
々提案されている。具体的には例えば、オルガノシラン
類の膜(特開昭54−56985号)又はポリ(4−メ
チル−ペンテン−1)の膜(特開昭55−41809号
)等が知られている。
効率よく分離し、酸素富化空気を得る合成高分子膜が種
々提案されている。具体的には例えば、オルガノシラン
類の膜(特開昭54−56985号)又はポリ(4−メ
チル−ペンテン−1)の膜(特開昭55−41809号
)等が知られている。
しかしながら従来の合成高分子膜は、七ツマ−の合成が
煩雑であるために経済的に不利であり、また重合方法に
おいても、工業的に相当高度な技術を要する配位アニオ
ン重合法又は複雑なブロック重合法等を行う必要がある
ため、工業的な実施が困難である。
煩雑であるために経済的に不利であり、また重合方法に
おいても、工業的に相当高度な技術を要する配位アニオ
ン重合法又は複雑なブロック重合法等を行う必要がある
ため、工業的な実施が困難である。
更に、従来の合成高分子膜、例えばオルガノシロキサン
−ポリカーボネートブロック共重合体の酸素透過係数は
、約3 X 10−” (a&−ai/ ad・sec
・amHg)と十分であるが、一方酸素と窒素との透過
係数比(Po□/Pv−)が約2程度と小さい。即ち従
来の高分子膜では、酸素の選択透過率が小さいので、例
えば燃焼炉用、内熱機関用、医療用、水中作業人工えら
用等に使用する場合、十分濃度の高い酸素富化空気を得
るには、酸素の分離操作を多段階にて行うか、又は装置
を大型化しなければならない等の欠点が生じる。
−ポリカーボネートブロック共重合体の酸素透過係数は
、約3 X 10−” (a&−ai/ ad・sec
・amHg)と十分であるが、一方酸素と窒素との透過
係数比(Po□/Pv−)が約2程度と小さい。即ち従
来の高分子膜では、酸素の選択透過率が小さいので、例
えば燃焼炉用、内熱機関用、医療用、水中作業人工えら
用等に使用する場合、十分濃度の高い酸素富化空気を得
るには、酸素の分離操作を多段階にて行うか、又は装置
を大型化しなければならない等の欠点が生じる。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、成膜性、耐熱性及び酸素透過性等に優
れた高気体選択分離膜を提供することにある。
れた高気体選択分離膜を提供することにある。
本発明の別の目的は、燃焼炉用酸素富化空気、内熱機関
用酸素富化空気、医療用酸素富化空気を得るための器機
又は、水中作業用の人工えら装置等に使用可能な高気体
選択分離膜を提供することにある。
用酸素富化空気、医療用酸素富化空気を得るための器機
又は、水中作業用の人工えら装置等に使用可能な高気体
選択分離膜を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明によれば、次の一般式(1)
(式中Rは水素原子又はメチル基を示し、 X、 Y及
びZは、同−又は異なる基であって、メチル基、又は を示す。またmは0又は1を、nは1又は3を、Qは2
〜4の整数を示す)で表わされるシリコンを有する(メ
タ)アクリレートの重合体を構成成分とする高透過性気
体選択分離膜が提供される。
びZは、同−又は異なる基であって、メチル基、又は を示す。またmは0又は1を、nは1又は3を、Qは2
〜4の整数を示す)で表わされるシリコンを有する(メ
タ)アクリレートの重合体を構成成分とする高透過性気
体選択分離膜が提供される。
また本発明によれば、前記一般式(I)で表わされるシ
リコンを有する(メタ)アクリレートと、分子内に重合
可能な二重結合を有するビニル化合物との共重合体を構
成成分とする高透過性気体選択分離膜が提供される。
リコンを有する(メタ)アクリレートと、分子内に重合
可能な二重結合を有するビニル化合物との共重合体を構
成成分とする高透過性気体選択分離膜が提供される。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明の高透過性気体選択分離膜は、所望の気体を選択
的に効率よく分離することが可能な高分子膜であり、特
定のシリコンを有する(メタ)アクリレートの重合体又
は該(メタ)アクリレートの重合体と分子内に重合可能
な二重結合を有するビニル化合物との共重合体を構成成
分とする。
的に効率よく分離することが可能な高分子膜であり、特
定のシリコンを有する(メタ)アクリレートの重合体又
は該(メタ)アクリレートの重合体と分子内に重合可能
な二重結合を有するビニル化合物との共重合体を構成成
分とする。
本発明において、前記シリコンを有する(メタ)アクリ
レートは1次の一般式(I)で表わすことができ、 式中Rは水素原子又はメチル基を示し、X、Y及びZは
、同−又は異なる基であって、メチル基。
レートは1次の一般式(I)で表わすことができ、 式中Rは水素原子又はメチル基を示し、X、Y及びZは
、同−又は異なる基であって、メチル基。
又は
を示す、またmは0又は1を、nは1又は3を、aは2
〜4の整数を示す、この際mが2以上、nが4以上、Ω
が5以上の場合は、製造が困難となるので使用できない
。前記一般式(I)で表わされる(メタ)アクリレート
としては、例えばペンタメチルジシロキサニルメチルメ
タクリレート、ペンタメチルジシロキサニルメチルアク
リレート、ペンタメチルジシロキサニルプロピルメタク
リレート、ペンタメチルジシロキサニルプロビルアクリ
レート、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルプロ
ピルメタクリレート、メチルビス(トリメチルシロキシ
)シリルプロピルアクリレート、トリス(トリメチルシ
ロキシ)シリルプロピルメタクリレート、トリス(トリ
メチルシロキシ)シリルプロピルアクリレート、モノ[
メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス(ト
リメチルシロキシ)シリルプロピルメタクリレート、モ
ノ[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス
(トリメチルシロキシ)シリルプロピルアクリレート、
トリス[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]
シリルプロピルメタクリレート、トリス[メチルビス(
トリメチルシロキシ)シロキシ]シリルプロピルアクリ
レート、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルプロ
ピルグリセロールメタクリレート、メチルビス(トリメ
チルシロキシ)シリルプロピルグリセロールアクリレー
ト、トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルグリ
セロールメタクリレート、トリス(トリメチルシロキシ
)シリルプロピルグリセロールアクリレート、モノ[メ
チルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス(トリ
メチルシロキシ)シリルプロピルグリセロールメタクリ
レート、モノ[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロ
キシ]ビス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルグリ
セロールアクリレート、トリメチルシリルエチルテトラ
メチルジシロキサニルプロピルグリセロールメタクリレ
ート、トリメチルシリルエチルテトラメチルジシロキサ
ニルブロピルグリセロールアクリレート、トリメチルシ
リルメチルメタクリレート、トリメチルシリルメチルア
クリレート、トリメチルシリルプロピルメタクリレート
、トリメチルシリルプロピルアクリレート、メチルビス
(トリメチルシロキシ)シリルエチルテトラメチルジシ
ロキサニルメチルメタクリレート、メチルビス(トリメ
チルシロキシ)シリルエチルテトラメチルジシロキサニ
ルメチルアクリレート、テトラメチルトリイソプロビル
シク口テトラシロキサニルプロピルメタクリレート、テ
トラメチルトリイソプロピルシクロテトラシロキサニル
プロピルアクリレート、テトラメチルトリイソプロピル
シクロテトラシロキシビス(トリメチルシロキシ)シリ
ルプロピルメタクリレート、テトラメチルトリイソプロ
ピルシクロテトラシロキシビス(トリメチルシロキシ)
シリルプロピルアクリレート等を好ましく挙げることが
でき、使用に際しては、単独若しくは混合物として用い
ることができる。
〜4の整数を示す、この際mが2以上、nが4以上、Ω
が5以上の場合は、製造が困難となるので使用できない
。前記一般式(I)で表わされる(メタ)アクリレート
としては、例えばペンタメチルジシロキサニルメチルメ
タクリレート、ペンタメチルジシロキサニルメチルアク
リレート、ペンタメチルジシロキサニルプロピルメタク
リレート、ペンタメチルジシロキサニルプロビルアクリ
レート、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルプロ
ピルメタクリレート、メチルビス(トリメチルシロキシ
)シリルプロピルアクリレート、トリス(トリメチルシ
ロキシ)シリルプロピルメタクリレート、トリス(トリ
メチルシロキシ)シリルプロピルアクリレート、モノ[
メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス(ト
リメチルシロキシ)シリルプロピルメタクリレート、モ
ノ[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス
(トリメチルシロキシ)シリルプロピルアクリレート、
トリス[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]
シリルプロピルメタクリレート、トリス[メチルビス(
トリメチルシロキシ)シロキシ]シリルプロピルアクリ
レート、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルプロ
ピルグリセロールメタクリレート、メチルビス(トリメ
チルシロキシ)シリルプロピルグリセロールアクリレー
ト、トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルグリ
セロールメタクリレート、トリス(トリメチルシロキシ
)シリルプロピルグリセロールアクリレート、モノ[メ
チルビス(トリメチルシロキシ)シロキシ]ビス(トリ
メチルシロキシ)シリルプロピルグリセロールメタクリ
レート、モノ[メチルビス(トリメチルシロキシ)シロ
キシ]ビス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルグリ
セロールアクリレート、トリメチルシリルエチルテトラ
メチルジシロキサニルプロピルグリセロールメタクリレ
ート、トリメチルシリルエチルテトラメチルジシロキサ
ニルブロピルグリセロールアクリレート、トリメチルシ
リルメチルメタクリレート、トリメチルシリルメチルア
クリレート、トリメチルシリルプロピルメタクリレート
、トリメチルシリルプロピルアクリレート、メチルビス
(トリメチルシロキシ)シリルエチルテトラメチルジシ
ロキサニルメチルメタクリレート、メチルビス(トリメ
チルシロキシ)シリルエチルテトラメチルジシロキサニ
ルメチルアクリレート、テトラメチルトリイソプロビル
シク口テトラシロキサニルプロピルメタクリレート、テ
トラメチルトリイソプロピルシクロテトラシロキサニル
プロピルアクリレート、テトラメチルトリイソプロピル
シクロテトラシロキシビス(トリメチルシロキシ)シリ
ルプロピルメタクリレート、テトラメチルトリイソプロ
ピルシクロテトラシロキシビス(トリメチルシロキシ)
シリルプロピルアクリレート等を好ましく挙げることが
でき、使用に際しては、単独若しくは混合物として用い
ることができる。
本発明において、前記(メタ)アクリレートと共重合さ
せる分子内に重合可能な二重結合を有するビニル化合物
としては1例えばエチレン、ブチレン類、ペンテン類、
スチレン及びその誘導体、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類。
せる分子内に重合可能な二重結合を有するビニル化合物
としては1例えばエチレン、ブチレン類、ペンテン類、
スチレン及びその誘導体、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類。
酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルエーテル類等を好まし
く挙げることができ、具体的には例えばピバリン酸ビニ
ル、2,2−ジメチルブタン酸ビニル、2,2−ジメチ
ルペンタン酸ビニル、2−エチル−2−メチルブタン酸
ビニル、p−ter−ブチル安息香酸ビニル等を挙げる
ことができる。
く挙げることができ、具体的には例えばピバリン酸ビニ
ル、2,2−ジメチルブタン酸ビニル、2,2−ジメチ
ルペンタン酸ビニル、2−エチル−2−メチルブタン酸
ビニル、p−ter−ブチル安息香酸ビニル等を挙げる
ことができる。
前記(メタ)アクリレートとビニル化合物との共重合体
を構成成分とする場合、(メタ)アクリレートの含有量
は、仕込比率により任意にTI4整できるが、酸素透過
性を保持するには、全モノマーに対して、(メタ)アク
リレートが20重量%以上であることが好ましい。
を構成成分とする場合、(メタ)アクリレートの含有量
は、仕込比率により任意にTI4整できるが、酸素透過
性を保持するには、全モノマーに対して、(メタ)アク
リレートが20重量%以上であることが好ましい。
本発明の高透過性気体選択分離膜を製造するには、(メ
タ)アクリレートの重合体を構成成分とする場合、前記
(メタ)アクリレートの1種または2種以上を原料とし
、適当なラジカル重合開始剤の存在下、溶媒中もしくは
無溶媒で加熱重合することにより容易に得ることができ
る。また前記(メタ)アクリレートと前記ビニル化合物
との共重合体を構成成分とする場合には、適当なラジカ
ル重合開始剤を用いて、工業的に公知の重合方法、例え
ば、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法
等により得ることができる。前記ラジカル重合開始剤と
しては、例えば種々の有機過酸化物、アゾ化合物、過硫
酸塩類、過ハロゲン酸塩類、レドックス試薬類等を挙げ
ることができ、また光、酸素、放射線、プラズマ等によ
る重合開始方法等を用いることができる。
タ)アクリレートの重合体を構成成分とする場合、前記
(メタ)アクリレートの1種または2種以上を原料とし
、適当なラジカル重合開始剤の存在下、溶媒中もしくは
無溶媒で加熱重合することにより容易に得ることができ
る。また前記(メタ)アクリレートと前記ビニル化合物
との共重合体を構成成分とする場合には、適当なラジカ
ル重合開始剤を用いて、工業的に公知の重合方法、例え
ば、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法
等により得ることができる。前記ラジカル重合開始剤と
しては、例えば種々の有機過酸化物、アゾ化合物、過硫
酸塩類、過ハロゲン酸塩類、レドックス試薬類等を挙げ
ることができ、また光、酸素、放射線、プラズマ等によ
る重合開始方法等を用いることができる。
本発明において構成成分として用いる前記(メタ)アク
リレートの重合体又は(メタ)アクリレートとビニル化
合物の共重合体それぞれの数平均分子量は、s、ooo
〜1,000,000程度が好ましい、s、ooo未満
では酸素透過性が低くしかも膜の機械的強度が弱いため
好ましくなく、また1、000,000以上の重合物の
合成は実際上困難であるので好ましくない。
リレートの重合体又は(メタ)アクリレートとビニル化
合物の共重合体それぞれの数平均分子量は、s、ooo
〜1,000,000程度が好ましい、s、ooo未満
では酸素透過性が低くしかも膜の機械的強度が弱いため
好ましくなく、また1、000,000以上の重合物の
合成は実際上困難であるので好ましくない。
本発明の高透過性気体分離膜は、使用目的に応じ種々の
形に成形して用いるが、薄膜化して用いるのが好ましい
。該薄膜化方法としては、従来公知のカレンダー加工、
キャスト成膜方法等を用いる事が出来るが、実用的膜強
度及び酸素透過量を得る為に、成形後の膜厚を0.01
〜200μm、特に0.05〜50μmとすることが好
ましい。
形に成形して用いるが、薄膜化して用いるのが好ましい
。該薄膜化方法としては、従来公知のカレンダー加工、
キャスト成膜方法等を用いる事が出来るが、実用的膜強
度及び酸素透過量を得る為に、成形後の膜厚を0.01
〜200μm、特に0.05〜50μmとすることが好
ましい。
このような本発明の成形膜は平フィルム、中空糸等の望
ましい形状を持たせることが出来、必要に応じて、布や
多孔質の膜支持体と合わせて用いることができる。
ましい形状を持たせることが出来、必要に応じて、布や
多孔質の膜支持体と合わせて用いることができる。
〈発明の効果〉
本発明に用いる一般式(I)で表わされるシリコンを有
する(メタ)アクリレートの重合物、あるいはビニル化
合物との共重合物は、成膜性に優れ、さらに酸素透過係
数が 1O−8(a+?・aII/d−3ec−aIIHg)
以上と十分に大きく、酸素と窒素との透過係数比(Po
2/PN2)も、2.4以上と極めて優れた性能を有し
ているので、高透過性気体分離膜の原材料として使用す
ることができる。具体的には例えば燃焼炉用酸素富化空
気、内熱機関用酸素富化空気、医療用酸素富化空気を得
る為の器機又は、水中作業用の人工えら装置等に有効に
使用することができる。
する(メタ)アクリレートの重合物、あるいはビニル化
合物との共重合物は、成膜性に優れ、さらに酸素透過係
数が 1O−8(a+?・aII/d−3ec−aIIHg)
以上と十分に大きく、酸素と窒素との透過係数比(Po
2/PN2)も、2.4以上と極めて優れた性能を有し
ているので、高透過性気体分離膜の原材料として使用す
ることができる。具体的には例えば燃焼炉用酸素富化空
気、内熱機関用酸素富化空気、医療用酸素富化空気を得
る為の器機又は、水中作業用の人工えら装置等に有効に
使用することができる。
また、本発明の高透過性気体分離膜は空気からの酸素富
化性能を有するのみならず、水素、−酸化炭素、ヘリウ
ムアルゴン、硫化水素、アンモニアあるいはメタン、エ
タン、プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、ブテ
ン類を含む低級炭化水素等の各種ガス混合物の分離にも
用いることができる。
化性能を有するのみならず、水素、−酸化炭素、ヘリウ
ムアルゴン、硫化水素、アンモニアあるいはメタン、エ
タン、プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、ブテ
ン類を含む低級炭化水素等の各種ガス混合物の分離にも
用いることができる。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例によりを更に詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
ス」1」L
下記構造式で表わされる
3−[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]プロピル
メタクリレート5g及びピバリン酸ビニル5gをそれぞ
れパイレックスガラス製重合管にとり、これにアゾビス
イソブチロニトリルを0.1g加えた後、十分に脱気し
て重合管を溶封し、60℃の湯浴中で24時間重合させ
た。
メタクリレート5g及びピバリン酸ビニル5gをそれぞ
れパイレックスガラス製重合管にとり、これにアゾビス
イソブチロニトリルを0.1g加えた後、十分に脱気し
て重合管を溶封し、60℃の湯浴中で24時間重合させ
た。
重合終了後、重合管内容物を200−のベンゼンに溶解
し、大量のメタノール中に注いで、白色のポリマー7.
5gを得た。
し、大量のメタノール中に注いで、白色のポリマー7.
5gを得た。
次いで、このポリv−0,25gを25mQのベンゼン
に溶解して、直径8.5cmのパイレックスガラス製シ
ャーレの上に注入した後、自然乾燥して、均質な厚さ(
約39μm)の3−(トリス(トリメチルシロキシ)シ
リル)プロピルメタクリレート及びピバリン酸ビニルの
共重合体薄膜を得た。
に溶解して、直径8.5cmのパイレックスガラス製シ
ャーレの上に注入した後、自然乾燥して、均質な厚さ(
約39μm)の3−(トリス(トリメチルシロキシ)シ
リル)プロピルメタクリレート及びピバリン酸ビニルの
共重合体薄膜を得た。
得られた共重合体の酸素及び窒素夫々の透過性能を30
℃の温度で従来公知の方法(高真空法)により測定した
。その結果を表1示す。
℃の温度で従来公知の方法(高真空法)により測定した
。その結果を表1示す。
去mλ−」−
ピバリン酸ビニルを、表1に示すビニルモノマーに代え
た以外は実施例1と同様にして薄膜を製造し、酸素透過
性を測定した。その結果を表1に示す。
た以外は実施例1と同様にして薄膜を製造し、酸素透過
性を測定した。その結果を表1に示す。
失履且土、呈
ヒバリン酸ビニルを、表1に示すビニルモノマーに代え
、アゾビスイソブチロニトリルを過酸化ベンゾイルに代
えた以外は実施例1と同様に薄膜を得、酸素透過性を測
定した。その結果を表1に示す。
、アゾビスイソブチロニトリルを過酸化ベンゾイルに代
えた以外は実施例1と同様に薄膜を得、酸素透過性を測
定した。その結果を表1に示す。
去J11灸、フー
3−(トリス(トリメチルシロキシ)シリル)プロピル
メタクリレートを、表1に示す(メタ)アクリル酸エス
テルに代えた以外は実施例1と同様に薄膜を得、酸素透
過性を測定した。その結果を表1に示す。
メタクリレートを、表1に示す(メタ)アクリル酸エス
テルに代えた以外は実施例1と同様に薄膜を得、酸素透
過性を測定した。その結果を表1に示す。
尖^五且
実施例1で得られた薄膜を用いて、酸素透過性の測定方
法と同様に水素、ヘリウム、二酸化炭素及びメタン夫々
の透過性能を測定した。その結果。
法と同様に水素、ヘリウム、二酸化炭素及びメタン夫々
の透過性能を測定した。その結果。
水素透過係数は1.7xlO’″8(al−an/d−
8eC・■!(g) 、ヘリウム透過係数は1,2X1
0−”(d−■/d・sec・01118g) 、二酸
化炭素透過係数は3 、6 X 10−” (aJ−a
n/ aJ・sec・a++ Hg) 及びメタンガス
透過係数は6.6X10″−’(cJ−■/以上の実施
例1〜7より、本発明の高透過性気体分離膜は、酸素透
過係数が10−a〜10−′(aJ−am/a#−5e
c・ao Hg)のオーダーと優れており、さらにPo
2 / P N2値が2.4〜3.6と、著しく優秀な
酸素選択性を有することが判った。
8eC・■!(g) 、ヘリウム透過係数は1,2X1
0−”(d−■/d・sec・01118g) 、二酸
化炭素透過係数は3 、6 X 10−” (aJ−a
n/ aJ・sec・a++ Hg) 及びメタンガス
透過係数は6.6X10″−’(cJ−■/以上の実施
例1〜7より、本発明の高透過性気体分離膜は、酸素透
過係数が10−a〜10−′(aJ−am/a#−5e
c・ao Hg)のオーダーと優れており、さらにPo
2 / P N2値が2.4〜3.6と、著しく優秀な
酸素選択性を有することが判った。
また実施例8より、各種気体の透過係数が著しく異なり
、本発明の高透過性気体分離膜が酸素だけでなく、各種
気体の選択分離に対しても極めて優れていることが判っ
た。
、本発明の高透過性気体分離膜が酸素だけでなく、各種
気体の選択分離に対しても極めて優れていることが判っ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・( I ) (式中Rは水素原子又はメチル基を示し、X、Y及びZ
は、同一又は異なる基であって、メチル基、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。またmは、0又は1を、nは1又は3を、lは
2〜4の整数を示す)で表わされるシリコンを有する(
メタ)アクリレートの重合体を構成成分とする高透過性
気体選択分離膜。 2)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・( I ) (式中Rは水素原子又はメチル基を示し、X、Y及びZ
は、同一又は異なる基であって、メチル基、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。またmは0又は1を、nは1又は3を、nは2
〜4の整数を示す)で表わされるシリコンを有する(メ
タ)アクリレートと、分子内に重合可能な二重結合を有
するビニル化合物との共重合体を構成成分とする高透過
性気体選択分離膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28665488A JPH02135132A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 高透過性気体選択分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28665488A JPH02135132A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 高透過性気体選択分離膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02135132A true JPH02135132A (ja) | 1990-05-24 |
Family
ID=17707225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28665488A Pending JPH02135132A (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 高透過性気体選択分離膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02135132A (ja) |
-
1988
- 1988-11-15 JP JP28665488A patent/JPH02135132A/ja active Pending
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