JPH0212751B2 - - Google Patents

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JPH0212751B2
JPH0212751B2 JP59177761A JP17776184A JPH0212751B2 JP H0212751 B2 JPH0212751 B2 JP H0212751B2 JP 59177761 A JP59177761 A JP 59177761A JP 17776184 A JP17776184 A JP 17776184A JP H0212751 B2 JPH0212751 B2 JP H0212751B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
board
substrate
multilayer
product size
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59177761A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6154938A (ja
Inventor
Toshiro Kodama
Kyuzo Mitsui
Nobuo Sakuragi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP59177761A priority Critical patent/JPS6154938A/ja
Publication of JPS6154938A publication Critical patent/JPS6154938A/ja
Publication of JPH0212751B2 publication Critical patent/JPH0212751B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は板厚分布の均一性を良くすると共にボ
イドの含有を少なくした多層プリント板の製造方
法に関する。
大量の情報を迅速に処理するため情報処理装置
の進歩は著しく、これを構成する半導体装置は単
位素子の小形化と大容量化が進められていると共
にこれを用いて高密度実装が行われている。
すなわち半導体装置は従来のIC,LSIよりも構
成素子数が格段に多いVLSIが実用化され、これ
がプリント配線基板上に高密度に装着される。
ここでVLSIの構成素子数は厖大であるから端
子数も数100本と多く、マトリツクス状に形成さ
れた多数のリードピンをプリント配線基板上にパ
ターン形成されたランドに接着する装着法が考え
られている。
かかる部品装着法がとられる場合は部品装着が
行われている数多くのランドを結んで電子回路を
形成するために導体線路は極めて微細な線幅のも
のが必要であり、現在2.5mmの間隔でパターン形
成されているランドの間に150μm以下のパターン
幅をもつ導体、パターンが2〜3本走行する微細
パターンが実用化されている。
またのような高密度の部品装着を行うには配線
基板の多層化が必要で現在10層を越える多層配線
基板が実用化されている。
以上のようにプリント配線基板は多層化される
と共にこれを構成する各の基板には微細な導体パ
ターンが設けられているが、そのためにはボイド
の含有がなく、また各の基板は均等な膜厚分布を
もつて形成されていることが必要である。
〔従来の技術〕
多層プリント板を作るにはパターン形成の終わ
つたプリント配線基板(以下略して基板)をプリ
プレグと云われる半硬化のエポキシ樹脂を主構成
材とするボンデイングシートと交互に重ね合わ
せ、成型プレスを用いて高温で圧縮して相互に融
着させて完成する。
第2図はこの形成法を説明するもので、最も簡
単な四層構造の多層基板を形成する場合を説明す
ると次のようになる。
両面に写真食刻技術(ホトリソグラフイ)を用
いてパターン形成した基板1を中心とし積層金型
2の基準ピン3を用いてプリプレグ4を上下に置
き、この上に銅張り積層板を配置して位置決めす
る。
実際には数層の多層基板を形成するので複数枚
の基板1は基準ピン3を用い、正確に位置決めし
ながらプリプレグ4と交互に重ね合わせる。
このように積層金型2を用いて積み重た後、ヒ
ータを備えた熱板で上下から挟み、約200℃で加
熱した状態で30〜50Kg/cm2の圧力を加えて融着せ
しめる。
このようにして製造された多層基材はパターン
形成が行われている中央部を残して製品サイズに
切断することにより多層基板ができあがる。
ここで多層基板にはボイドが含まれておらず、
また均等な板厚分布をもつて形成されていること
が必要である。
然し、このことは容易ではない。その理由は基
板1の両面にはパターン形成が成されているが、
製品サイズ外で後の工程で切断される外周部はパ
ターンがないためにパターン形成が行われている
中央部と較べると厚さが薄く、これが原因で多層
基板の厚さの分布が不均一になり易い。
また基板1とプリプレグ4とを重ね合わせた段
階ではその間に多量の空気が含まれており、これ
は加熱圧縮工程中に基板面から抜け去る筈である
が、現実には部分的に残存してボイドを形成し、
配線パターン間の絶縁を低下させている。
そこでこの対策として第3図及び第4図に示す
ように微細パターンの形成が行われている基板1
の製品サイズ6の外周部にダミーパターン7,8
を設けて厚さの不均一を緩和すると共にプレス方
法を改良するなどの方法が講じられている。
すなわち第2図に示す積層金型2を熱板で挟ん
で加熱圧縮する際に積層金型2とプレスとの間に
置くクツシヨン材を加工して凸状の断面をもつよ
うにし、基板1の中央部から優先的に加圧するこ
とにより、プリプレグの樹脂の流れが中心部から
周辺部に向かつて均等になるようにし、これによ
り多層基板中のボイドの減少と板厚の均一化が図
られている。
然し、第3図のような額縁状のダミーパタン7
ではこの内側にボイドが残留し易く、これが内側
に拡散して製品サイズ6の中に入る恐れがあり、
また第4図の場合は製品サイズ6の外周部の板厚
均一性が充分でないと云う問題がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
以上記したように複数の中間層基材をプリプレ
グを介して加熱圧縮して多層基板を形成するには
板厚分布が均等であり、またボイドを含まぬこと
が必要であるが従来の方法では充分な効果を示し
ていない。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点はパターン形成の終わつた単体基
板をプリプレグと交互に積層し位置合わせした
後、加圧成形して一体化する際、半導体装置のリ
ードピンを装着するランドと同形状の複数個のパ
ターンを予め製品サイズの外周部に規則正しく配
列して形成しておき、加圧成形することを特徴と
する多層プリント板の製造方法により解決するこ
とができる。
〔作用〕
本発明は多層基板を構成する基板のうち、最上
部の基板には半導体装置のリードピン或いは部品
のリード線を挿入するスルーホールを備えたラン
ドが存在し、また内部の基板には各層間の配線接
続を行うスルーホールを備えたランドが数多くパ
ターン形成されている。
これらのパターンはアートワークフイルムで基
板上に形成されているが、本発明はこのランドを
基板の製品サイズ6の外周部に額縁状にパターン
形成してダミーパタンとするもので、微少なラン
ドが基板上に数多くパターン形成されているた
め、板厚分布が良く、またランド間に隙間がある
ために樹脂の流れが良く、従つてボイドがダミー
パターンの内側に残存するという問題を少なくす
ることができる。
〔実施例〕
第1図は本発明を実施した基板の平面図であつ
て、部品装着が行われる表面基板には特に数多く
のランド9がパターン形成されており、また内部
の基板も各層間を繋ぐスルーホール形成用として
数多くのランド9が設けられている。
本発明はこのランド9を製品サイズ6の外周部
に同様なアートワークフイルムで額縁状に形成し
てダミーパタン10とするものである。
ここでダミーパタン10は一重でなく基板1の
外縁部に達するまで製品サイズ6の内側のパター
ン形成条件すなわち2.5mmピツチで形成すると効
果的である。
このようにダミーパタン10を設けると板厚分
布は均一となり、またランド9の間の隙間を通つ
て樹脂と共にガスが流れるので従来のようにボイ
ドが残存する傾向がなくなり、品質の向上が達成
できる。
なお加圧成形して生じた多層基板は従来と同様
に製品サイズの大きさに切断して完成される。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の実施により、基板
の板厚分布は均等となり、またボイド含有の少な
い多層基板の製造が可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施法を説明する基板の平面
図。第2図は多層基板の製造法を説明する断面
図。第3図と第4図は従来の実施法を説明する基
板の平面図である。 図において、1はプリント配線基板、2は積層
金型、4はプリプレグ、6は製品サイズ、7,
8,10はダミーパタン、9はランド、である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 パターン形成の終わつた単体基板をプリプレ
    グと交互に積層し位置合わせした後、加圧成形し
    て一体化する際、半導体装置のリードピンを装着
    するランドと同形状の複数個のパターンを予め製
    品サイズの外周部に額縁状に配列して形成してお
    き、加圧成形することを特徴とする多層プリント
    板の製造方法。
JP59177761A 1984-08-27 1984-08-27 多層プリント板の製造方法 Granted JPS6154938A (ja)

Priority Applications (1)

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JP59177761A JPS6154938A (ja) 1984-08-27 1984-08-27 多層プリント板の製造方法

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JPS6154938A JPS6154938A (ja) 1986-03-19
JPH0212751B2 true JPH0212751B2 (ja) 1990-03-26

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JPS6248099A (ja) * 1985-08-28 1987-03-02 富士通株式会社 中間層基板
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