JPH02123324A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、大面積になし得る液晶包蔵薄膜の製造方法に
関するもので、本発明によって得られる液晶デバイスは
、視野の遮断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限
、遮断、透過を電気的または熱的に操作し得るものであ
って、建物の窓やシ胃−ウイントウで視野遮断のスクリ
ーンや、採光コントロールのカーテンに利用されると共
に、文字や図形を表示し、高速応答性を以って電気的又
は熱的にその表示を切換えることによって、広告板、案
内板、装飾表示板等の表示用デバイスとして利用される
。

（従来の技術） 電極層を有していても良い、少なくとも一方が透明な２
枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層が
液晶材料及び透明性重合体から成シ、前記液晶材料が連
続相を形成し、前記透明性重合体が前記液晶材料中に粒
子状又は３次元ネットワーク状に存在している液晶デバ
イス（以下、液晶デバイスという。）は、調光層がほと
んど流動性を有していないので、液晶デバイスの周囲を
シールしなくても、液晶材料が流れ出すことはないが、
調光層の特性及び形状変化による品質の低下を防止する
ために、液晶デバイスの周囲をシールする必要があった
。

従来のシール方法としては、基板間に調光層を形成させ
た後、工４キシ樹脂等を液晶デバイスの周囲に塗布し、
１００℃以上の硬化温度で熱硬化性工Ｉキシ樹脂を硬化
させる方法を用いていた。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、従来のシール方法では、熱硬化性樹脂の
硬化条件として、１００℃以上で数時間を要するため、
製造工程及び生産効率上の問題点が多かった。シール材
料として紫外線硬化性樹脂を用いる方法もあるが、シー
ル性が不充分な場合が多かりた。また、従来の方法では
、調光層を形成した後、シール材料を塗布、硬化させて
いたため、シール材料を多量に必要とした。

本発明が解決しようとする課題は、上記の点に鑑み、調
光層の形成と同時に液晶デバイスの周囲をシールするこ
とができる液晶デバイスの製造方法を提供することにあ
る。

（課題を解決するための手段） 本発明は、上記課題を解決するために、（１）　　電極
層を有していても良い、少なくとも一方が透明な２枚の
基板の一方の基板に、液晶材料及び重合性組成物を含有
する調光層構成材料と容易に混合しない重合性組成物又
は前記調光層構成材料に難溶性又は不溶性の重合性シー
ル材料を、一方の基板の周端部に塗布すると共に、調光
層構成材料を基板の中央部に塗布する第１工程と （２）前記塗布面の上方からもう一方の基板を重ね合わ
せた後、調光層の厚みがスペーサーの厚みと等しく彦る
まで２枚の基板の両側から圧力をかけて２枚の基板を貼
り合わせる第２工程と（３）重合性組成物及び重合性シ
ール材料を重合させる第３工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層及び
シール層を有し、前記調光層が液晶材料及び透明性重合
体から成シ、前記液晶材料が連続相を形成し、前記透明
性重合体が前記液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワ
ーク状に存在している液晶デバイスの製造方法を提供す
る。

基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等でありて
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフ
ィルムの如きものであっても良い。

そして基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その２枚の間に挾持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。

但し、完全々透明性を必須とするものでは々い。

もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側から他
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電
極が、その全面または部分的に配置されても良い。

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定し
て、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成る
調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、周
知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介
在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えばマイラー、アルミナ等種々
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロッドタ
イプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはス被−サーが基板面に
均一に分布させることが重要であシ、その為に■スペー
サーが前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペーサ
ーが分離又は沈降しない間Ｋ、その懸濁又は分散液を基
板の全面に押し広げる方法、又は■あらかじめス被−サ
ーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突起
物を設けておく方法がある。あらかじめ散布しておく方
法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘性
の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸濁
液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があシ
、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設ける
方法も効果的である。

液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しない
のは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の
物質も含んだ混合物でありても良く、通常この技術分野
で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのう
ちの正の誘電率異方性を有するもので好ましい。用いら
れる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶
、コレステリック液晶が好ましい。

液晶材料としては、例えば、４−置換安息香酸４’−ｆ
ｌ置換ェニルエステル、４−置換シクＯヘキサンカルデ
ンＷｔ４’−ｅ’ｌｌフェニルエステル、４−置換シク
ロヘキサンカルデン酸４’−を換ヒフェニルエステル、
４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息
香酸４′−置換フェニルエステル、４−（４−［換シク
ロヘキシル）ｌ＆香酸４’−を換フェニルエステル、４
−　（４−ｆｆ１ｐシク。

ヘキシル）安息香酸４’−［換シクロヘキシルエステル
、４−置換４’−置換ピフェニル、４−置換フェニルー
４’−ｆｌ置換シクロヘキサン４−置換４“−置換ター
フェニル、４−置換ピフェニル４′−置換シクロヘキサ
ン、２−（４−［換フェニル）−５−置換ピリミジンな
どを挙げることができる。

液晶材料は、２枚の基板間で連続相を形成することを要
する。液晶材料成分の比率が低いと連続相を形成しにく
い。調光層成分に占める液晶材料の比率は、好ましくは
６０重量％以上であり、より一層好ましくは７０〜９０
重量％である（以下、チは重量％を意味する。）。

調光層構成材料に用いる重合性組成物としては、高分子
形成性モノマー若しくはオリゴマーが挙げられ、硬化に
よって、液晶材料の連続相中に３次元ネットワークを形
成するものであれば良い。

そのような高分子形成性モノマーとしては、側光ば、ス
チレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シク
ロヘキシル、べ／ジル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジ
ル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、
３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジエチルアミンエチル等のごとき基を有するア
クリレート、メタクリレート又は７マレート；エチレン
グリコール、？リエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ポリフロピレンゲリコール、ｌ、３−ブチレン
グリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレ
ングリコール、ネ第４ンチルグリコール、トリメチロー
ルゾロ／母ン、グリセリン及びペンタエリスリトール等
のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレ
ート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、ア
クリ日ニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シ
クロヘキセン、ジアリルフタレート、ソアリルイソフタ
レート、２−　３−又は４−ビニルピリジン、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド
、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒドロ
キシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキ／ｌｚ
　！　−ｆル化合物、ネオペｙチルグリコール１モルに
２モル以上のエチレンオキサイド若しくはデ四ピレンオ
キサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールデロノ臂７１モルに３モル以上の
エチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付
加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡ１モルに２モル以上のエチレンオ
キサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得た
ジオールのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネ
ート若しくはｎ−プチルイソシアネ−）１モルとの反応
生成物、ジペンタエリスリトールの？す（メタ）アクリ
レート等を挙げることができるが、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリシクロデカンジメチ四−ル
ジアクリレート、Ｉリエチレングリコールジアクリレー
ト。

ポリゾロ−レンゲリコールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオインチルグリコールジアク
リレート、トリス（アクリルオキシエチル）インシアヌ
レートが特に好ましい。

同様に、高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、 （１）　　ビスフェノールＡ型エデキシ樹脂に（メタ）
アクリル酸、更に場合によりャシ油脂肪酸等の長鎖脂肪
酸をエステル化させて得たエポキシ（メタ）アクリレー
トあるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポ
キシ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸
ジ無水物、無水トリメリット酸を付加して得たカルゲキ
シル基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエ
ポキシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第１．１４７．７３２号明細書（特開昭
５１−３７１９３号公報及び特開昭５１−１３８７９７
号公報）に記載されているようなジイソシアナート化合
物とポリオールとを予め反応させて得られる末端イソシ
アナート化合物に更にβ−ヒト四キシアルキルアクリレ
ート及び／又はメタクリレートを反応せしめることＫよ
って得られる分子内に２個以上のアクリロイロキシ基及
び／又はメタクリロイロΦシ基をもった付加重合性化合
物。

（３）特公昭４７−３２６２号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラとドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘット酸のよりな二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートとを
開環重合して得られるアクリロイロキシ基及び／又はメ
タクリロイロキシ基を多数インダントにもりた直線状ポ
リエステル化合物。

（４）特公昭４７−２３６６１号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能表
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸
及び／又はメタクリル酸と、ジカルデン酸およびその無
水物からなる群から選択されたジカルゲン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許第６２８．１５０号明細書、米国特許筒
３．０２０．２５５号明細書および月刊誌「マク四モレ
キエールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６３２頁（１
９７１年）に記載されているごときメラミンまたはベン
ゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコールお
よびβ−ヒドロキシアルキルアクリレ−）（ｔたはメタ
クリレート）等を反応せしめて得られるポリアクリル（
または−リメタクリル）変性トリアジン系樹脂。

（６）米国特許筒３．３７７．４０６号明細書に記載さ
れているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて
得られる不飽和？リエステル樹脂。

（７）米国特許筒３，４５５，８０１号明細書及び米国
特許筒３，４５５，８０２号明細書に記載されている一
般式 ％式％ （ことにおいてＲは炭素原子数２〜１０個の２価の飽和
又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は炭素原子数
２〜ｌＯ個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、ビは
水素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る。） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有する一すエステル化合物。

（８）米国特許第３，４８３，１０４号明細書及び米国
特許第３，４７０，０７９号明細書に記載されている一
般式 （ここにおいてＡは一〇−又は−ＮＨ−を示し、１分子
中で少なくとも２個は−ＮＨ−であるものとし、Ｒは二
価の飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を示し、
Ｒ′は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化
水素を示し、Ｒ“は水素原子又はアルキル基を示し、ｎ
は１〜１４の整数であるものとする。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（９）特公昭４８−３７２４６号明細書に記載されてい
る一般式 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｒ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ２は
水素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは一〇−又
は、−■−を示し、１分子中で少なくとも２個は一■−
であるものとし、ｎは１〜１４の整数である。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（１０米国特許第３，４８５，７３２号明細書に記載さ
れているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無水
物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを反応さ
せて得られる両末端にカルブキシル基を有する化合物に
更にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリ
レートを反応せしめることにより得られるジアクリル変
性（又はジメタクリル変性）ヂリエステル化合物。

（１１）　　特公昭４８−１２０７５　号’ＭａｔＫ、
２載すれているごとき分子中に一般式、 （ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し、Ｒ
は、Ｈ、ＣＭ、　、　Ｃ１又はＣＮであるものとする。

） で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物。

等を挙げることができるが、カプロラクトン変性ヒドロ
キシピパリン酸エステルネオインチルグリコールジアク
リレートが特に好ましい。

重合性組成物を紫外線により重合させる場合には、調光
層構成材料に重合開始剤を添加する必要がある。

重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−７エニルデロノやノー１−オン（メルク社製
「ダロキエア１１７３　Ｊ　）、　１−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトン（チパ・カイイー社製「イル
がキ為ア１８４　Ｊ　）、１−（４−イソプロピルフェ
ニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルゾロノン−１−オ
ン（メルク社製（ダロキエ７１１１６Ｊ）、ベンジルジ
メチルケタール（チパ・ガイイー社製「イルガキエア６
５１　Ｊ　）、２−メチル−１−（：４−（メチルチオ
）フェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チパ・
カイイー社製「イルガキエア９０７　Ｊ　）　、　２．
４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキエ
アＤＥＴＸＪ）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（
日本化薬社製「カヤキエアＥＰＡ　Ｊ　）との混合物、
イングロビルチオキサントン（ワードプレキンソップ社
製「カンタキュアーＩＴＸ　Ｊ　）とｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状で
ある２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー若しく
はオリゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光増
感剤、染料、架橋剤等を、前記モノマーオリゴミー等の
種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜併用
することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの種
類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くなシ
過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に応
じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連鎖
移動剤の好例は、ブタンジオールジチオグロピオネート
、インタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオ
ネート）、トリエチレングリコールジメルカグタン等々
である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノマー又は
オリゴマーの種類によっても異なるが、あまシに少ない
と効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下し
て表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好まし
くない。その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対し
て０．０５〜３０重量％と考えられるが、０．１〜２０
重量％が好適である。

重合性シール材料は、高分子形成性オリコ°マー又はプ
レポリマーを含有する重合性組成物であり、基板の周端
部に塗布され、２枚の基板間に押し広げられ、調光層構
成材料と接触した時点から重合体となるまでの間に、調
光層構成材料と容易に混合しない材料が好ましい。その
ような重合性シール材料は、５，０００　ｃｐｍ以上の
高粘度を有する材料が好ましい。

重合性シール材料としては、例えば、ポリエステルアク
リレート、？リエステルメタクリレート、ニーキシアク
リレート、工Ｉキシメタクリレート、シロキサンアクリ
レート、シロキサンメタアクリレート及びこれらの誘導
体が挙げられるが、シロキサンアクリレート、シロキサ
ンメタクリレート及びこれらの誘導体が、液晶材料との
相溶性が低いために、特に好ましい。

重合性シール材料と調光層構成材料が、若干混合するよ
うな場合でも、重合性シール材料と調光層構成材料中の
重合性組成物とが同種同系統の材料であれば、液晶デバ
イスの調光層の特性を大きく変化させることなく、使用
できる。また、重合性シール材料と調光層構成材料中の
重合性組成物とが同種同系統の材料でない場合でも、重
合性シール材料が調光層構成材料中に拡散しない間に重
合性組成物及び重合性シール材料を重合させればよく、
また、重合性シール材料の粘度を高めることによりて、
重合性シール材料の調光層構成材料中への拡散速度を抑
制することによっても初期の目的を達成することができ
る。

基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材料
の性状によりて決められる。特に前記調光層構成材料の
粘度により、圧力の大きさが左右される。高粘度なもの
ほど必要とする圧力は大きい。

操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目的
のために１１々の減粘化方法をとることが出来る。例え
ば、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わ
ない範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモ
ノマクリレート等を添加することが有効である。

圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようＫする
ことが重要であシ、そのように工夫された種々の機械を
使うことが出来る。

圧力の上限は基板及びスイーサーが破壊される迄可能で
あるが、適切々圧力はス４−サーが２枚の基板に各々接
触する迄が好ましい。そのような圧力は、例えば、２０
　ｃｍ　Ｘ　２０　ｃｒｓ角のガラス基板を用いた場合
用いる前記調光層構成材料の粘度によって、概ね、以下
のように表る。

０．５ １．３ ２．９ また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調光
層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基板
が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基板
の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗布
面に接近させることにより、調光層中に気泡が混入する
ことを有効に防止することができる。更に調光層構成材
料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜１０秒毎
に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、該塗布面に接近させ
る方法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業効
率を考慮し、可能な限り短かく又は速いことが望ましい
。

重合性組成物を重合硬化させる方法は通常知られている
硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子線
重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方法
が好適である。

紫外線重合硬化方法において、■硬化温度を前記混合溶
液の液晶相−等方性液体相の相転移温度よシ高温に設定
し、■前記混合溶液のＵＶ吸収波長や重合性組成物に応
じて、又、基板間隔の厚みにより、重合性に差が生じな
い程度の強い紫外線をノ卆ルス状に照射することによυ
、基板間に介在し液晶材料の連続相中に生成する透明性
固体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均−化
及び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしきい値
電圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割駆動表
示できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層の形
成と同時にシール層の形成することができるので、液晶
デバイスの製造工程を藺略化することができる。また、
シール層を１０μｍ前後の薄い層として形成するため、
重合性シール材料の使用量を大巾に低減できる。更に、
重合性組成物及び重合性シール材料の重合方法として紫
外線照射による重合方法を用いれば、数秒から数十秒と
いう短時間で効率良くシール層を有する液晶デバイスを
製造することができるので、大型の薄膜型液晶デバイス
の製造に適している。

（実施例） 以下、図面を用いて、本発明の製造方法について説明す
る。

第１図又は第３図（第３図は第１図の平面図である。）
において、グラスファイバー製スイーサ−（４）（平均
直径１４．９４±０．２μｍ）をエタノールに０．２Ｎ
／１００ｒＩＬｌの濃度で懸濁させた溶液を用いて２０
Ｘ２０ｃｍ四方のガラス基板−１（１）上に塗布した後
、エタノールを蒸発乾固させた。

次いで、液晶材料としてｒ　ＲＯ−５７１Ｊ　（ロッジ
為社製ネマチック液晶組成物）８０重量部と重合性モノ
マーとしてポリプロピレングリコールジアク’）’−ト
１５重量部、ビス〔チアクリロキシ（プロピレンオキシ
）フェニル〕ジメチルメタン４．６ｉｔ部及び重合開始
剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−
プロパン−１−オン０、４部から成る調光層構成材料（
５）を基板−１（１）の中央部に塗布し、前記調光層構
成材料（５）と難溶性てあり、容易に混合しない重合性
シール材料（３）としてビス〔４−アクリロキシ（エチ
レンオキシド）フェノキシプロピルコポリジメチルシロ
キサン（粘度１０，０００　ｃｐｍ　（２５℃））を基
板−１（１）の周端部に１ｍの巾で塗布した。

基板−１（１）の塗布面の上方から基板−１（１）と同
一の大きさの基板−２（２）をゆっくシと下降させ、調
光層構成材料（５）に接触せしめた。

この段階より、基板−２（２）の下降速度を２ミクロン
／秒とし、２秒間隔で１秒づつ下降するよう制御した。

この下降の過程において、基板−１（１）及び基板−２
（２）と調光層構成材料（５）との接触面が徐々に拡大
されると共に重合性シール材料（３）も押し広げた。

そして、最終的に、上記調光層構成材料（５）及び重合
性シール材料が、基板全面に広がった状態で基板間隔を
スペーサー（４）に合せるよう均等な圧力（０，５ｋｇ
／ｃｍ２）を基板にかけ、スペーサー（４）が基板−１
（１）及び基板−２（２）の両方に接触した状態（第２
図及び第４図（第４図は第２図の平面図である。））で
５分間放置した。

次いで、光強度４０醜−（於３６５ｎｍ）の紫外線を透
明な基板を通して１０秒間照射し、重合性組成物及び重
合性シール材料を重合硬化せしめることにより、調光層
を形成すると共にシール層を形成し、シールされた液晶
デバイスを得た。

（発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層の厚
さが均一で、調光層に気泡の混入がなく、調光層の形成
と同時に、ピンホール等がないシール層を形成すること
ができるので、液晶デバイスの製造工程を簡略化するこ
とができる。

従りて、本発明の液晶デバイスの製造方法を用いること
によって１、視Ｍ遮断のスクリーン、採光調節のカーテ
ン、文字や図形の大型表示板等に用いる液晶デバイスを
効率的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、本発明に係わる液晶デバイスの製
造方法の過程を示す液晶デバイスの側断面図である。 第３図及び第４図は、本発明に係わる液晶デバイスの製
造方法の過程を示す液晶デバイスの平面図である。 １・・・基板−１，２・・・基板−２，３・・・重合性
シール材料、４・・・スペーサー　５・・・調光層構成
材料。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（１）電極層を有していても良い、少なくとも一方
   が透明な２枚の基板の一方の基板に、 液晶材料及び重合性組成物を含有する調光層構成材料と
   容易に混合しない重合性組成物又は前記調光層構成材料
   に難溶性又は不溶性の重合性シール材料を、一方の基板
   の周端部に塗布すると共に、調光層構成材料を基板の中
   央部に塗布する第１工程と （２）前記塗布面の上方からもう一方の基板を重ね合わ
   せた後、調光層の厚みがスペーサーの厚みと等しくなる
   まで２枚の基板の両側から圧力をかけて２枚の基板を貼
   り合わせる第２工程と （３）重合性組成物及び重合性シール材料を重合させる
   第３工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層及び
   シール層を有し、前記調光層が液晶材料及び透明性重合
   体から成り、前記液晶材料が連続相を形成し、前記透明
   性重合体が前記液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワ
   ーク状に存在している液晶デバイスの製造方法。 ２、重合性シール材料が、ポリエステルアクリレート、
   エポキシアクリレート又はポリシロキサンジアクリレー
   トである請求項１記載の液晶デバイスの製造方法。 ３、重合性シール材料の粘度が、５，０００ｃｐｍ以上
   である請求項１又は２記載の液晶デバイスの製造方法。 ４、重合性組成物及び重合性シール材料を紫外線により
   重合させる請求項１、２又は３記載の液晶デバイスの製
   造方法。