JP2743398B2 - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、大面積になし得る液晶包蔵薄膜とその製造
方法に関するもので、本発明の液晶デバイスは、視野の
遮断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、
透過を電気的または熱的に操作し得るものであって、建
物の窓やショーウィンドウで視野遮断のスクリーンや、
採光コントロールのカーテンに利用されると共に、文字
や図形を表示し、高速応答性を以って電気的又は熱的に
その表示を切換えることによって、広告板、案内板、装
飾表示板等の表示用デバイスとして利用される。

（従来の技術） 電極層を有していても良い、少なくとも一方が透明な
２枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層
が液晶材料及び透明性固体成分から成り、前記液晶材料
が連続相を形成し、前記透明性固体物質が前記液晶材料
中に粒子状又は３次元ネットワーク状に存在している液
晶デバイス（以下、液晶デバイスという。）の製造方法
において、通常の液晶セルの製造方法、すなわち、「真
空注入法」、「貼り合わせ法」等を用いていた。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、「真空注入法」の場合、通常の液晶材
料を注入する場合とは異なり、高分子量の重合性モノマ
ー又はオリゴマーを含有する調光層構成材料は、粘性が
高く、その為に調光層構成材料を２枚の基板間に注入す
るには長時間を必要とし、また、減圧状態で重合性モノ
マー又はオリゴマーが飛散し易くなる傾向にあり、その
結果、調光層構成材料の組成が変化する危険性があるの
で、本発明の液晶デバイスの製造方法としては好ましく
なかった。

一方、「貼り合わせ法」では、調光層の厚みのバラツ
キが大きく、また、調光層中に気泡が混入し易く、最終
製品の合格率が悪い等の欠点を有していた。

本発明が解決しようとする課題は、上記「貼り合わせ
法」において、調光層の厚みの均一性に優れ、調光層中
に気泡の混入が認められない製造方法を提供することに
ある。

（課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決するために、 （１）電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基
板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と （２）調光層構成材料から成る塗布面の上方からもう一
方の基板を重ね合わせた後、２枚の基板の両側から圧力
をかけ、次いで、重合性組成物を硬化させる第２工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層を有
し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体物質から成
り、前記液晶材料が連続層を形成し、前記透明性固体物
質が前記液晶材料中に３次元ネットワーク状に存在して
いる液晶デバイスの製造方法を提供する。

基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であっ
ても良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチック
フィルムの如きものであっても良い。そして基板は、２
枚が対向して適当な間隔を隔て得るものである。また、
その少なくとも一方は、透明性を有し、その２枚の間に
挾持される調光層を外界から視覚させるものでなければ
ならない。但し、完全な透明性を必須とするものではな
い。もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側か
ら他方の側へ通過する光に対して作用させるために使用
される場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えら
れる。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜
な電極が、その全面または部分的に配置されても良い。

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材
料の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定
して、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成
る調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えばマイラー，アルミナ等種
々の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロッド
タイプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面
に均一に分布させることが重要であり、その為にスペ
ーサーを前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペー
サーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液を
基板の全面に押し広げる方法、又はあらかじめスペー
サーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突
起物を設けておく方法がある。あらかじめ散布しておく
方法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘
性の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸
濁液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があ
り、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設け
る方法も効果的である。

液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しな
いのは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外
の物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分
野で液晶材料として認識されるものであれば良く、その
うちの正の誘導率異方性を有するものが好ましい。用い
られる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液
晶、コレステリック液晶が好ましい。

液晶材料としては、例えば、４−置換安息香酸４′−
置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボ
ン酸４′−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４′−置換ビフェニルエステル、４−
（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸
４′−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘ
キシル）安息香酸４′−置換フェニルエステル、４−
（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４′−置換シクロ
ヘキシルエステル、４−置換４′−置換ビフェニル、４
−置換フェニル−４′−置換シクロヘキサン、４−置換
４″−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４′−置
換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）−５−置
換ピリミジンなどを挙げることができる。

液晶材料は、２枚の基板間で連続層を形成することを
要する。液晶材料成分の比率が低いと連続層を形成しに
くい。調光層成分に占める液晶材料の比率は、好ましく
は60重量％以上であり、より一層好ましくは70〜90重量
％である（以下、％は重量％を意味する。）。

重合性組成物としては、高分子形成性モノマー若しく
はオリゴマーが挙げられ、硬化によって、液晶材料の連
続層中に３次元ネットワークを形成するものであれば良
い。

そのような高分子形成性モノマーとしては、例えば、
スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシ
エチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリ
シジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピ
ル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルア
ミノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有す
るアクリレート、メタクリレート又はフマレート；エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロ
ールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等
のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレ
ート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、ア
クリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シ
クロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタ
レート、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒド
ロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエ
ーテル化合物、ネオペンチルグリコール１モルに２モル
以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイ
ドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレン
オキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得
たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビス
フェノールA1モルに２モル以上のエチレンオキサイド若
しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールの
ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネート若し
くはｎ−ブチルイソシアネート１モルとの反応生成物、
ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等
を挙げることができるが、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリス（アクリルオキシエチル）イソシアヌレー
トが特に好ましい。

同様に、高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、 （１） ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に（メタ）ア
クリル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸
をエステル化させて得たエポキシ（メタ）アクリレート
あるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキ
シ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ
無水物、無水トリメリット酸を付加して得たカルボキシ
ル基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエポ
キシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２） 英国特許第1,147,732号明細書（特開昭51−371
93号公報及び特開昭51−138797号公報）に記載されてい
るようなジイソシアナート化合物とポリオールとを予め
反応させて得られる末端イソシアナート化合物に更にβ
−ヒドロキシアルキルアクリレート及び／又はメタクリ
レートを反応せしめることによって得られる分子内に２
個以上のアクリロイロキシ基及び／又はメタクリロイロ
キシ基をもった付加重合性化合物。

（３） 特公昭47−3262号公報に記載されているような
無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、あるいは
無水ヘット酸のような二塩基酸無水物とグリシジルアク
リレート及び／又はグリシジルメタクリレートとを開環
重合して得られるアクリロイキシ基及び／又はメタクリ
ロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリエス
テル化合物。

（４） 特公昭47−23661号公報に記載されているよう
な隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能なヒド
ロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸及び
／又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその無水物
からなる群から選択されたジカルボン酸類との共エステ
ル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５） 英国特許第628,150号明細書、米国特許第3,02
0,255号明細書および月刊誌「マクロモレキュールズ」
第４巻、第５号、第630〜632頁（1971年）に記載されて
いるごときメラミンまたはベンゾグアナミンにホルムア
ルデヒド、メチルアルコールおよびβ−ヒドロキシアル
キルアクリレート（またはメタクリレート）等を反応せ
しめて得られるポリアクリル（またはポリメタクリル）
変性トリアジン系樹脂。

（６） 米国特許第3,377,406号明細書に記載されてい
るようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化
物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られ
る不飽和ポリエステル樹脂。

（７） 米国特許第3,455,801号明細書及び米国特許第
3,455,802号明細書に記載されている一般式 （ここにおいてＲは炭素原子数２〜10個の２価の飽和又
は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は炭素原子数２
〜10個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ″は水
素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜14の整数であ
る。） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８） 米国特許第3,483,104号明細書及び米国特許第
3,470,079号明細書に記載されている一般式 （ここにおいてＡは−Ｏ−又は−NH−を示し、１分子中
で少なくとも２個は−NH−であるものとし、Ｒは二価の
飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′
は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素
を示し、Ｒ″は水素原子又はアルキル基を示し、ｎは１
〜14の整数であるものとする。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（９） 特公昭48−37246号明細書に記載されている一
般式 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｒ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、R²は水
素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは−Ｏ−又
は、−NH−を示し、１分子中で少なくとも２個は−NH−
であるものとし、ｎは１〜14の整数である。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（10） 米国特許第3,485,732号明細書に記載されてい
るような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無水物、あ
るいは必要に応じてそれらとジオールとを反応させて得
られる両末端にカルボキシル基を有する化合物に更にグ
リシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレート
を反応せしめることにより得られるジアクリル変性（又
はジメタクリル変性）ポリエステル化合物。

（11） 特公昭48−12075号明細書に記載されているご
とき分子中に一般式、 （ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し、Ｒ
は、H,CH₃,Cl又はCNであるものとする。） で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物。

等を挙げることができるが、カプロラクトン変性ヒドロ
キシピパリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレートが特に好ましい。

重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製
「ダロキュア1173」）、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イルガキュア18
4」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製
「ダロキュア1116」）、ベンジルジメチルケタール（チ
バ・ガイギー社製「イルガキュア651」）、２−メチル
−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリ
ノプロパノン−１（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
907」）、2,4−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製
「カヤキュアDETX」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル（日本化薬社製「カヤキュアEPA」）との混合物、
イソプロピルチオキサントン（ワードプレキンソツプ社
製「カンタキュア−ITX」）とｐ−ジメチルアミノ安息
香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー若しくはオリ
ゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光
増感剤、染料、架橋剤等を、前記モノマー、オリゴマー
等の種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜
併用することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの
種類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くな
り過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に
応じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連
鎖移動剤の好例は、ブタンジオールジチオプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピ
オネート）、トリエチレングリコールジメルカプタン等
々である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノマー又
はオリゴマーの種類によっても異なるが、あまりに少な
いと効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下
して表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好ま
しくない。その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対
して0.05〜30重量％と考えられるが、0.1〜20重量％が
好適である。

基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材
料の性状によって決められる。特に前記調光層構成材料
の粘度により、圧力の大きさが左右される。高粘度なも
のほど必要とする圧力は大きい。

操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目
的のために種々の減粘化方法をとることが出来る。例え
ば、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わ
ない範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモ
ノアクリレート等を添加することが有効である。

圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようにす
ることが重要であり、そのように工夫された種々の機械
を使うことが出来る。

圧力の上限は基板及びスペーサーが破壊される迄可能
であるが、適切な圧力はスペーサーが２枚の基板に各々
接触する迄が好ましい。そのような圧力は、例えば、20
cm×20cm角のガラス基板を用いた場合用いる前記調光層
構成材料の粘度によって、概ね、以下のようになる。

また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調
光層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基
板が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基
板の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗
布面に接近させることにより、調光層中に気泡が混入す
ることを有効に防止することができる。更に調光層構成
材料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜10秒毎
に１〜50μm/秒で１〜５秒間、該塗布面に接近させる方
法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業
効率を考慮し、可能な限り短かく又は速いことが望まし
い。

重合性組成物を重合硬化させる方法は通常知られてい
る硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子
線重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方
法が好適である。

紫外線重合硬化方法において、硬化温度を前記混合
溶液の液晶相−等方性液体相の相転移温度より高温に設
定し、前記混合溶液のUV吸収波長や重合性組成物に応
じて、又、基板間隔の厚みにより、重合性に差が生じな
い程度の強い紫外線をパルス状に照射することにより、
基板間に介在し液晶材料の連続層中に生成する透明性固
体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均一化及
び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしきい値電
圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割駆動表示
できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、液晶材料
と重合性組成物を含有する粘性の高い調光層構成材料を
スペーサーの厚さ迄基板間に押し広げる事が可能とな
り、その状態で紫外線を照射する事等で重合性組成物を
硬化させるため、液晶デバイス調光層の厚さはスペーサ
ーの厚さに均一化され、また、調光層に気泡の混入がな
い高性能な大型液晶デバイスを提供することが出来る。

（実施例） 以下、図面を用いて一つの実施例について具体的に説
明する。

第１図において、グラスフィバー製スペーサー（３）
（平均直径14.94±0.2μｍ）をエタノールに0.2g/100ml
の濃度で懸濁させた溶液を用いて20×20cm四方のガラス
基板−２（２）上に塗布した後、エタノールを蒸発乾固
させた。次いで、液晶材料として「RO−571」（ロッシ
ュ社製ネマチック液晶組成物）80重量部と重合性モノマ
ーとしてポリプロピレングリコールジアクリレート19.6
重量部及び重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フエニル−プロパン−１−オン0.4重量部から
成る調光層構成材料（４）を40℃と等方性液体状態で塗
布する。この場合の粘度は24cpsであった。次いで、基
板−２（２）上方から基板−２（２）と同一の大きさの
基板−１（１）をゆっくりと下降させ、調光層構成材料
（４）に接触せしめた。

この段階より、基板−１（１）の下降速度を２ミクロ
ン／秒とし、２秒間隔で１秒づつ下降するよう制御し
た。この下降の過程において、基板−１（１）及び基板
−２（２）と調光層構成材料（４）との接触面が徐々に
拡大される（第２図）。

そして、最終的に、上記接触面が、基板全面に広がっ
た状態（第３図）で基板間隔をスペーサー（３）に合せ
るよう均等な圧力（0.5kg/cm²）を基板にかけ、スペー
サー（３）が基板−１（１）及び基板−２（２）の両方
に接触した状態（第４図）で、透明な基板を通して、光
強度40mW/cm²（於365nm）の紫外線を５秒間照射し、重
合性モノマーを硬化させた。

このようにして得られた液晶デバイスは、調光層の厚
さにバラツキがなく、15.1±0.5ミクロンの均一な厚さ
であり、調光層に気泡の混入も認められなかった。

この実施例において圧力が不充分な場合は第３図の状
態で止まり、調光層の厚みにバラツキが生じ、好ましく
なかった。

（発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層の
厚さが均一で、調光層に気泡の混入がない優れた液晶デ
バイスを提供することができる。

従って、本発明の液晶デバイスの製造方法を用いるこ
とによって、視野遮断のスクリーン、採光調節のカーテ
ン、文字や図形の大型表示板等に用いる液晶デバイスを
効率的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は、本発明に係わる液晶デバイスの製造
方法の通過を示す液晶デバイスの側断面図である。 １……基板−１、２……基板−２、３……スペーサー、
４……調光層構成材料。

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（１）電極層を有する少なくとも一方が透
   明な２枚の基板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と （２）調光層構成材料から成る塗布面の上方からもう一
   方の基板を重ね合わせた後、２枚の基板の両側から圧力
   をかけ、次いで、重合性組成物を硬化させる第２工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層を有
   し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体物質から成
   り、前記液晶材料が連続層を形成し、前記透明性固体物
   質が前記液晶材料中に３次元ネットワーク状に存在して
   いる液晶デバイスの製造方法。
2. 【請求項２】調光層構成材料から成る塗布面の上方から
   重ね合わせる基板が、該塗布面に一部接触した時点から
   該塗布面に該基板の全面が接触するまでの間に、間欠的
   に該基板板を該塗布面に接近させることを特徴とする請
   求項１記載の液晶デバイスの製造方法。
3. 【請求項３】調光層構成材料から成る塗布面に重ね合わ
   せる基板を、１〜10秒毎に１〜50μm/秒で１〜５秒間、
   該塗布面に接近させることを特徴とする請求項２記載の
   液晶デバイスの製造方法。
4. 【請求項４】正の誘電率異方性を示す液晶材料を用いる
   請求項１又は２記載の液晶デバイスの製造方法。
5. 【請求項５】液晶材料が調光層構成材料の60重量％以上
   を占める請求項１、２、３又は４記載の液晶デバイスの
   製造方法。
6. 【請求項６】重合性組成物が紫外線硬化型樹脂組成物で
   ある請求項１、２、３、４又は５記載の液晶デバイスの
   製造方法。
7. 【請求項７】重合性組成物の硬化温度条件が、調光層形
   成材料の液晶相から等法性液体相への相転移温度よりも
   高い温度である１、２、３、４、５又は６記載の液晶デ
   バイスの製造方法。
8. 【請求項８】調光層構成材料がスペーサーを含有する請
   求項１、２、３、４、５、６又は７記載の液晶デバイス
   の製造方法。
9. 【請求項９】スペーサーを均一に分散させた基板を用い
   る請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の液晶デバ
   イスの製造方法。
10. 【請求項１０】印刷によってスペーサー用突起物を設け
    た基板を用いる請求項１、２、３、４、５、６又は７記
    載の液晶デバイスの製造方法。