JPH0284616A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、大面積になし得る液晶包蔵薄膜とその製造方
法に関するもので、本発明の液晶デバイスは、視野の遮
断、開放及び明シもしくは照明光の透過制限、遮断、透
過を電気的または熱的に操作し得るものであって、建物
の窓やショーウィンドウで視野遮断のスクリーンや、採
光コントロールのカーテンに利用されると共に、文字や
図形を表示し、高速応答性を以って電気的又は熱的にそ
の表示を切換えることによって、広告板、案内板、装飾
表示板等の表示用デバイスとして利用される。

（従来の技術） 電極層を有していても良い、少なくとも一方が透明な２
枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層が
液晶材料及び透明性固体成分から成ｐ、前記液晶材料が
連続相を形成し、前記透明性固体物質が前記液晶材料中
に粒子状又は３次元ネットワーク状に存在している液晶
デバイス（以下、液晶デバイスという。）の製造方法に
おいて、通常の液晶セルの製造方法、すなわち、「真空
注入法」、「粘り合わせ法」等を用いていた。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、「真空注入法」の場合、通常の液晶材料
を注入する場合とは異なυ、高分子量の重合性モノマー
又はオリゴマーを含有する調光層構成材料は、粘性が高
く、その為に調光層構成材料を２枚の基板間に注入する
には長時間を必要とし、また、減圧状態で重合性モノマ
ー又はオリゴマーが飛散し易くなる傾向にあシ、その結
果、調光層構成材料の組成が変化する危険性があるので
、本発明の液晶デバイスの製造方法としては好ましくな
かった。

一方、「粘り合わせ法」では、調光層の厚みのバラツキ
が大きく、また、調光層中に気泡が混入し易く、最終製
品の合格率が悪い等の欠点を有していた。

本発明が解決しようとする課題は、上記「粘シ合わせ法
」において、調光層の厚みの均一性に優れ、調光層中に
気泡の混入が昭められない製造方法を提供することにあ
る。

（課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決するために、 （１）電極層を有していても良い、少なくとも一方が透
明な２枚の基板の一方の基板に、（ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）　？ｉ合開開始 剤含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と（２）
調光層構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基
板を重ね合わせた後、２枚の基板の両側から圧力をかけ
、次いで、重合性組成物を硬化させる第２工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持され念調光層を有
し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成シ
、前記液晶材料が連続相を形成し、前記透明性固体物質
が前記液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワーク状に
存在している液晶デバイスの製造方法を提供する。

基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であって
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフ
ィルムの如きものであっても良い。

そして基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その２枚の間に挾持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。

但し、完全な透明性を必須とするものではない。

もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側から他
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電
極が、その全面または部分的に配置されても良い。

但し、プラスチックフィルムの如き柔欧性を有する材料
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定し
て、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成る
調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、周
知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介
在させるのが望ましい。

スペーサーとしては、例えばマイラー、アルミナ等種々
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロンドタ
イプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面に
均一に分布させることが重要であり、その為に■スペー
サーを前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペーサ
ーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液を基
板の全面に押し広げる方法、又は■あらかじめスペーサ
ーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突起
物を設けておく方法がある。あらかじめ散布しておく方
法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘性
の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸濁
液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があシ
、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設ける
方法も効果的である。

液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しない
のは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の
物質も含んだ混合物でありても良く、通常この技術分野
で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのう
ちの正の訪電率異方性を有するものが好ましい。用いら
れる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶
、コレステリック液晶が好ましい。

液晶材料としては、例えば、４−置換安息香酸４′−［
換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン
酸ｘ　−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサ
ンカルボン酸４′−置換ビフェニルエステル、４−（４
−を換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸４′
−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシ
ル）安息香酸４′−置換フェニルエステル、４−（４−
１ｔｍシクロへ１’＃）安息香ｆｉｒ−置換シクロヘキ
シルエステル、４−置換４′−置換ビフェニル、４−ｆ
ｆｔ換フェニル−４′−置換シクロヘキサン、４−置換
４“−置換ターフェニル、４−ｅ換ビフェニル４′−置
換シクロヘキサン、２−（４−［換フェニル）−５−置
換ピリミジンなどを挙げることができる。

液晶材料は、２枚の基板間で連続相を形成することを要
する。液晶材料成分の比率が低いと連続相を形成しにく
い。調光層成分に占める液晶材料の比率は、好ましくは
６０重量俤以上であり、より一層好ましくは７０〜９０
重量係である（以下・係は重量係を意味する。）。

重合性組成物としては、高分子形成性モノマー若しくは
オリゴマーが挙げられ、硬化によって、液晶材料の連続
相中に３次元ネットワークを形成するものであれば良い
。

そのような高分子形成性モノマーとしては、例、ｔｔｆ
、スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジ
ビニルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシ
エチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリ
シジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピ
ル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルア
ミノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有す
るアクリレート、メタクリレート又はフマレート；エチ
レングリコール、ポリエチレンクリコール、フロピレン
ゲリコール、ポリプロピレングリコール、　１．３−ブ
チレンクリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサ
メチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメ
チａ−ルプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトー
ル等のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アク
リレート；酢酸ビニル、酪醗ビニル又は安息香酸ビニル
、アクリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン
、シクロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソ
フタレート、２−　３−父は４−ビニルピリジン、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒ
ドロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキル
エーテル化合物、ネオペンチルグリコール１そルに２モ
ル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサ
イドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレ
ンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して
得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノール人１モルに２モル以上のエチレンオキサイ
ド若シくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオー
ルのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（
メタ）アクリレート１モルとフ′二ニルイソシアネート
若しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルとの反応生成
物、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレー
ト等を挙げることができるが、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート・
ポリプロピレングリフールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオベンチルグリコールジアク
リレート、トリス（アクリルオキシエチル）イソシアヌ
レートが特に好ましい。

同様に、高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、 （１）　　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に（メタ）
アクリル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪
酸をエステル化させて得九エポキシ（メタ）アクリレー
トあるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポ
キシ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸
ジ無水物、無水トリメリット酸を付加して得たカルボキ
シル基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエ
ポキシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第１．１４７．７３２号明細１１Ｆ（特
開昭５１−３７１９３号公報及び特開昭５１−１３８７
９７号公報）に記載されているようなジイソシアナート
化合物とポリオールとを予め反応させて得られる末端イ
ソシアナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアク
リレート及び／又はメタクリレートを反応せしめること
によって得られる分子内に２個以上のアクリロイロキシ
基及び／又はメタクリロイロキシ基をもった付加重合性
化合物。

（３）特公昭４７−３２６２号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキフ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘット酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び／又はグリシジルメタクリレートとを
開環重合して得られるアクリロイロキシ基及び／又はメ
タクリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポ
リエステル化合物。

（４）特公昭４７−２３６６１号公報に記載されている
ようを隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能な
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸
及び／又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその無
水物からなる群から選択されなジカルボン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許！６２８，１５０号明細書、米国特許第
３．０２０．２５５号明細書および月刊誌「マクロモレ
キュールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６３２頁（１
９７１年）に記載されているごときメラミンまたはベン
ゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコールお
よびβ−ヒドロキシアルキルアクリレート（マ九はメタ
クリレート）等を反応せしめて得られるポリアクリル（
″またはポリメタクリル）変性トリアジン系樹脂。

（６）　　米国特許第３．３７７．４０６号明細書に記
載されているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジル
エーテル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応さ
せて得られる不飽和ポリエステル樹脂。

（７）米国特許第３，４５５，８０１号明細書及び米国
特許第３．４５５．８０２号明細書に記載されている一
般式 （ここにおいてＲは炭素原子数２〜ｌＯ個の２価の飽和
又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ′は炭素原子数
２〜ｌＯ個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ“
は水素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜１４の整数で
ある０） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８）米国特許第３．４８３，１０４号明細書及び米国
特許第３．４７０．０７９号明細書に記載されている一
般式 （ここにおいてＡは一〇−又は−ＮＨ−を示し、１分子
中で少なくとも２個は−ＮＨ−であるものとし、Ｒは二
価の飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を示し、
Ｒ′は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化
水素を示し、Ｗ′は水素原子又はアルキル基を示し、ｎ
は１〜１４の整数であるものとする。） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

（９）特公昭４８−３７２４６号明細書に記載されてい
る一般式 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｒは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｒ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｒは水
素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは一〇−又は
、−ＮＨ−を示し、１分子中で少なくとも２個は−ＮＨ
−であるものとし、ｎは１〜１４の整数である。） で示されるジアクリル変性（マ九はジメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

ＱＯ米国特許第３．４８５．７３２号明細書に記載され
ているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無水物
、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを反応させ
て得られる両末端にカルボキシル基を有する化合物に更
にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレ
ートを反応せしめることにより得られるジアクリル変性
（又はジメタクリル変性）ポリエステル化合物。

（１１）特公昭４８−１２０７５号明細書に記載されて
いるごとき分子中に一般式、 （ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し、Ｒ
は、Ｈ、ＣＨ，＋　ＣＬ又はＣＮであるものとする。） で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物。

等を挙げることができるが、カプロラクトン変性ヒドロ
キシピパリン酸エステルネオペンチルクリコールジアク
リレートが特に好ましい。

重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−７エールプロパンー１−、をン（メルク社製
「ダロキ、ア１１７３Ｊ　’）、１−ヒト京キシシクロ
へキシルフェニルケトン（チバーカイギー社製「イルガ
キ、７１８４４）、１−（４−イソプｐピルフェニ／Ｌ
／）　−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン（メルク社製「ダロキ。

７１１１６Ｊ　）　、ベンジルジメチルケタール（チパ
・ガイギー社製「イルガキ、アロ５１Ｊ）、２−メチル
−１−（４−（メチルチオ）フェニル〕−２−そルホリ
ノプロパノン−１（チバ・ガイギー社製［イルガキュア
９０７Ｊ　）　、２．４−ジエチルチオキサントン（日
本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ　Ｊ　）とｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エテＡ／（日本化薬社製［カヤキュア
ＥＰＡＪ）との混合物、イソプロピルチオキサントン（
ワードプレキンソツプ社製［カンタキュアーｒＴＸＪ）
とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物等が挙
げられるが、液状である２−ヒドロキシ−２−メチ／ｌ
／　−１−フェニルプロパン−１−オンが液晶材料、高
分子形成性モノマー若しくはオリゴマーとの相溶性０面
で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光増
感剤、染料、架橋剤等を、前記モノマー、オリゴマー等
の種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜併
用することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの種
類によっては極めて効果的で、樹脂の栗橋度が高くな多
過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に応
じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連鎖
移動剤の好例は、ブタンジオールジチオプロビオネート
、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオ
ネート）、トリエテレングリコールジメルカブタン等々
である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノマー又は
オリゴマーの種類によっても異なるが、あまシに少ない
と効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下し
て表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好まし
くない。その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対し
て０．０５〜３０重景チと考えられるが、０．１〜２０
重負悌が好適である。

基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材料
の性状によって決められる。特に前記調光層構成材料の
粘度によシ、圧力の大きさが左右される。高粘度なもの
ほど必要とする圧力は大きい。

操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目的
の九めに捌々の減粘化方法をとることが出来る。例えば
、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わな
い範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモノ
マクリレート等を添加することが有効である。

圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようにする
ととが重要であシ、そのように工夫された種々の機械を
使うことが出来る。

圧力の上限は基板及びスペーサーが破壊される迄可能で
あるが、適切な圧力はスペーサーが２枚の基板に各々接
触する迄が好ましい。そのような圧力は、例えば、２０
αＸ２０ｃｍ角のガラス基板を用いた場合用いる前記調
光層構成材料の粘度によって、概ね、以下のようになる
。

調光層構成材料の粘度　　　　必要圧力（ｅ−ｐ、ｓ）
　　　　　　（−へ２）０．５ １．３ ２．９ また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調光
層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基板
が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基板
の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗布
面に接近させることによシ、調光層中に気泡が混入する
ことを有効に防止することができる。更に調光層構成材
料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜１０秒毎
に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、核塗布面に接近させ
る方法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業効
率を考慮し、可能な限り短かく又は速いことが望ましい
。

重合性組成物を重合硬化させる方法は通常知られている
硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子線
重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方法
が好適である。

紫外線重合硬化方法において、■硬化温度を前記混合溶
液の液晶相−等方性液体相の相転移温度より高温に設定
し、■前記混合浴゛液のＵＶ吸収波長や重合性組成物に
応じて、又、基板間隔の厚みによυ、重合性に差が生じ
ない程度の強い紫外線をパルス状に照射することによシ
、基板間に介在し液晶材料の連続相中に生成する透明性
固体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均−化
及び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしきい値
電圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割、駆動
表示できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、液晶材料と
重合性組成物を含有する粘性の高い調光層構成材料をス
ペーサーの厚さ迄基板間に押し広げる事が可能となシ、
その状態で紫外線を照射する事等で重合性組成物を硬化
させるため、液晶デバイスの調光層の厚さはスペーサー
の厚さに均一化され、また、調光層に気泡の混入がない
高性能な大型液晶デバイスを提供することが出来る。

（実施例） 以下、図面を用いて一つの実施例について具体的に説明
する。

第１図において、グラスフィバ−族スペーサー（３）（
平均直径１４．９４±０．２μｍ）をエタノールに０．
２１７１００℃の濃度で懸濁させた溶液を用いて２０Ｘ
２０ｃＷＬ四方のガラス基板−２（２）上に塗布した後
、エタノールを蒸発乾固させた。

次いで、液晶材料として「ＲＯ−５７１Ｊ　（Ｏｙシエ
社製ネマチック液晶組成物）８０重置部と重合性モノマ
ーとしてポリプロピレングリコールジアクリレート１９
．６重量部及び重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン０．４重量
部から成る調光層構成材料（４）を４０℃と等方性液体
状態で塗布する。この場合の粘度は２４　ｃｐｓであっ
た。次いで、基板−２（２）上方から基板−２（２）と
同一の大きさの基板−１（１）をゆりくシと下降させ、
調光層構成材料（４）に接触せしめた。

この段階よシ、基板−１（１）の下降速度を２ミクロン
／秒とし、２秒間隔で１秒づつ下降するよう制御した。

この下降の過程において、基板−１（１）及び基板−２
（２）と調光層構成材料（４）との接触面が徐々に拡大
される（第２図）。

そして、最終的に、上記接触面が、基板全面に広がった
状態（第３図）で基板間隔をスペーサー（３）に合せる
よう均等な圧力（０，５ｋｇ／ｃｍ２）を基板にかけ、
スペーサー（３）が基板−１（１）及び基板−２（２）
の両方に接触した状態（第４図）で、透明な基板を通し
て、光強度４０ｒＤＷ／ｃＷＬ２（於３６５ｎｍ）の紫
外線を５秒間照射し、重合性モノマーを硬化させた。

このようにして得られ九液晶デバイスは、調光層の厚さ
にバラツキがなく、１５．１±０．５ミクロンの均一な
厚さであり、調光層に気泡の混入も認められなかった。

この実施例において圧力が不充分な場合は第３図の状態
で止まシ、調光層の厚みにバラツキが生じ、好ましくな
かった。

（発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、調光層の厚
さが均一で、調光層に気泡の混入がない優れた液晶デバ
イスを提供することができる。

従って、本発明の液晶デバイスの製造方法を用いること
によって、視野遮断のスクリーン、採光調節のカーテン
、文字や図形の大型表示板等に用いる液晶デバイスを効
率的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は、本発明に係わる液晶デバイスの製造
方法の過程を示す液晶デバイスの側断面図である。 ｌ・・・基板−１，２・・・基板−２，３・・・スペー
サー４・・・調光層構成材料。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（１）電極層を有していても良い、少なくとも一方
   が透明な２枚の基板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と（２）
   調光層構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基
   板を重ね合わせた後、２枚の基板の両側から圧力をかけ
   、次いで、重合性組成物を硬化させる第２工程 から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層を有
   し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成り
   、前記液晶材料が連続相を形成し、前記透明性固体物質
   が前記液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワーク状に
   存在している液晶デバイスの製造方法。 ２、調光層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わ
   せる基板が、該塗布面に一部接触した時点から該塗布面
   に該基板の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板
   を該塗布面に接近させることを特徴とする請求項１記載
   の液晶デバイスの製造方法。 ３、調光層構成材料から成る塗布面に重ね合わせる基板
   を、１〜１０秒毎に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、該
   塗布面に接近させることを特徴とする請求項２記載の液
   晶デバイスの製造方法。 ４、正の誘電率異方性を示す液晶材料を用いる請求項１
   又は２記載の液晶デバイスの製造方法。 ５、液晶材料が調光層構成材料の６０重量％以上を占め
   る請求項１、２、３又は４記載の液晶デバイスの製造方
   法。 ６、重合性組成物が紫外線硬化型樹脂組成物である請求
   項１、２、３、４又は５記載の液晶デバイスの製造方法
   。 ７、重合性組成物の硬化温度条件が、液晶材料の液晶相
   から等方性液体相への相転移温度よりも高い温度である
   １、２、３、４、５又は６記載の液晶デバイスの製造方
   法。 ８、調光層構成材料がスペーサーを含有する請求項１、
   ２、３、４、５、６又は７記載の液晶デバイスの製造方
   法。 ９、スペーサーを均一に分散させた基板を用いる請求項
   １、２、３、４、５、６又は７記載の液晶デバイスの製
   造方法。 １０、印刷によつてスペーサー用突起物を設けた基板を
   用いる請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の液晶
   デバイスの製造方法。