JPH0211676A - 水希釈性結合剤 - Google Patents
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- 239000011230 binding agent Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 56
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 56
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 45
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 36
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims abstract description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims abstract description 5
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- YTLYLLTVENPWFT-UPHRSURJSA-N (Z)-3-aminoacrylic acid Chemical compound N\C=C/C(O)=O YTLYLLTVENPWFT-UPHRSURJSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 52
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 10
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 abstract description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 50
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 11
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 11
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 150000004985 diamines Chemical group 0.000 description 9
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 150000003335 secondary amines Chemical group 0.000 description 8
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N propylene glycol Substances CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 150000004658 ketimines Chemical class 0.000 description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 6
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 5
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 4
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 4
- JLBXCKSMESLGTJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-1-ol Chemical compound CCOC(O)CC JLBXCKSMESLGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 3
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 229940072282 cardura Drugs 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical compound CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N doxazosin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2OC1C(=O)N(CC1)CCN1C1=NC(N)=C(C=C(C(OC)=C2)OC)C2=N1 RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N glyceric acid Chemical compound OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-IHWYPQMZSA-N (Z)-acetaldehyde oxime Chemical compound C\C=N/O FZENGILVLUJGJX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N (ne)-n-(1-phenylethylidene)hydroxylamine Chemical compound O\N=C(/C)C1=CC=CC=C1 JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- JXLLEVVDVFPMDH-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C=C)=C1 JXLLEVVDVFPMDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWYODXLKONLEM-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NC(CC)CN=C=O WVWYODXLKONLEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatopropane Chemical compound O=C=NC(C)CN=C=O ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFXYYTWJETZVHG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NC(C)CCN=C=O UFXYYTWJETZVHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCXJASANFWPUMO-UHFFFAOYSA-N 1-(methylamino)propan-1-ol Chemical compound CCC(O)NC PCXJASANFWPUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKQMKMVTDKYWOX-UHFFFAOYSA-N 1-[2-hydroxypropyl(methyl)amino]propan-2-ol Chemical compound CC(O)CN(C)CC(C)O XKQMKMVTDKYWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUXKULRFRATXSI-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypyrrole-2,5-dione Chemical compound ON1C(=O)C=CC1=O BUXKULRFRATXSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 1-octadecoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCCCCCCCC HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpropylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC)C1=CC=CC=C1 BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWOYCXNNAGNDKT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)OC(=O)C=C YWOYCXNNAGNDKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylethylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CP)C1=CC=CC=C1 YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHNAURKRXGPVDW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NC(C)C(C)N=C=O LHNAURKRXGPVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRHKBQXBOFVHMK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dimethylpropyl)-1,1-dimethylhydrazine Chemical compound CN(C)NCC(C)(C)C HRHKBQXBOFVHMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUABZJZJXPSZCN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)phenol Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1O AUABZJZJXPSZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZLYGAQNCRJBDT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)propan-2-ol Chemical compound CCNC(C)(C)O HZLYGAQNCRJBDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMWUSCNTMPWOKZ-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)propan-2-ol Chemical compound CNC(C)(C)O CMWUSCNTMPWOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZXIXSZVEYUCGM-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(C)(N)O QZXIXSZVEYUCGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZWDQKCNCVNUDV-UHFFFAOYSA-N 2-decylhexanedioic acid Chemical class CCCCCCCCCCC(C(O)=O)CCCC(O)=O GZWDQKCNCVNUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C(C)=C SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDXRPVSAKWYDH-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(prop-2-enoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC=C LZDXRPVSAKWYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexane-1,6-diol Chemical compound CCC(CO)CCCCO AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZGPACAKMCUCKX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetamide Chemical class NC(=O)CO TZGPACAKMCUCKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 2-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1O DUIOKRXOKLLURE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXIJHCSGLOHNES-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C=CC1=CC=CC=C1 DXIJHCSGLOHNES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-amine Chemical compound COCCCN FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKTORXLUQLQJCM-UHFFFAOYSA-N 4-phosphonobutylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCP(O)(O)=O JKTORXLUQLQJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RREANTFLPGEWEN-MBLPBCRHSA-N 7-[4-[[(3z)-3-[4-amino-5-[(3,4,5-trimethoxyphenyl)methyl]pyrimidin-2-yl]imino-5-fluoro-2-oxoindol-1-yl]methyl]piperazin-1-yl]-1-cyclopropyl-6-fluoro-4-oxoquinoline-3-carboxylic acid Chemical compound COC1=C(OC)C(OC)=CC(CC=2C(=NC(\N=C/3C4=CC(F)=CC=C4N(CN4CCN(CC4)C=4C(=CC=5C(=O)C(C(O)=O)=CN(C=5C=4)C4CC4)F)C\3=O)=NC=2)N)=C1 RREANTFLPGEWEN-MBLPBCRHSA-N 0.000 description 1
- OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 8-methyl Nonanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCC(O)=O OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 241000726103 Atta Species 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical compound CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical compound CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000982822 Ficus obtusifolia Species 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJURFSDRMQAYSU-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1=CC=CC2=C(C=CC=C3)C3=C21 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1=CC=CC2=C(C=CC=C3)C3=C21 UJURFSDRMQAYSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INWVTRVMRQMCCM-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 INWVTRVMRQMCCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTDWCIXOEPQECG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC(C)(C)C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC(C)(C)C JTDWCIXOEPQECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRUDCFGSUDOHDG-UHFFFAOYSA-N acetohydroxamic acid Chemical compound CC(O)=NO RRUDCFGSUDOHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001171 acetohydroxamic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004705 aldimines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004808 allyl alcohols Chemical group 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003788 bath preparation Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N benzhydroxamic acid Chemical compound ONC(=O)C1=CC=CC=C1 VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIIVGPQREKVCOP-UHFFFAOYSA-N but-1-en-1-ol Chemical compound CCC=CO SIIVGPQREKVCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAEKNCDIHIGLFI-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);2-ethylhexanoate Chemical compound [Co+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O QAEKNCDIHIGLFI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical class OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005265 dialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001470 diamides Chemical class 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRZAGCUJZBBAAW-SWJSCKDZSA-N dibutyltin;dioctyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCC[Sn]CCCC.CCCCCCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCCCCCC WRZAGCUJZBBAAW-SWJSCKDZSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HZHUAESPXGNNFV-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)phosphane Chemical compound CCP(C)CC HZHUAESPXGNNFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTCZSBUROAWTE-UHFFFAOYSA-N diethyl(phenyl)phosphane Chemical compound CCP(CC)C1=CC=CC=C1 LVTCZSBUROAWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethylbenzene Chemical compound O=C=NC(N=C=O)C1=CC=CC=C1 JXCHMDATRWUOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)phosphine Chemical compound CP(C)C1=CC=CC=C1 HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N dimethylaminopropylamine Chemical compound CN(C)CCCN IUNMPGNGSSIWFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAXGWYDSLJUQLN-UHFFFAOYSA-N diphenyl(propyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CCC)C1=CC=CC=C1 AAXGWYDSLJUQLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005837 enolization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- AWYNYGDVTNSMIS-UHFFFAOYSA-N ethanamine;ethanol Chemical compound CCN.CCO AWYNYGDVTNSMIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZHSSKPUVBVXLK-UHFFFAOYSA-N ethane-1,1-diol Chemical compound CC(O)O AZHSSKPUVBVXLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEHWKBXBXYNPCX-UHFFFAOYSA-N ethylsulfanylbenzene Chemical compound CCSC1=CC=CC=C1 AEHWKBXBXYNPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- HDQDUBPEBVXIBJ-UHFFFAOYSA-N hept-1-en-1-ol Chemical class CCCCCC=CO HDQDUBPEBVXIBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N hydroxymethylethylene Natural products OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- AMWUFXLSROXQFP-UHFFFAOYSA-N iron(3+);pentane-2,4-dione Chemical compound [Fe+3].CC(=O)CC(C)=O AMWUFXLSROXQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N methoxypropane Chemical compound CCCOC VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical compound CNCCCN QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORSUTASIQKBEFU-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CC ORSUTASIQKBEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHWWXNJJLIETEQ-UHFFFAOYSA-N n-(2,2,3-trimethylcyclohexylidene)hydroxylamine Chemical compound CC1CCCC(=NO)C1(C)C MHWWXNJJLIETEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKPYIWASQZGASP-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxypropyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(O)CNC(=O)C(C)=C OKPYIWASQZGASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N n-benzhydrylidenehydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJCJUDJQDGGKOX-UHFFFAOYSA-N n-dodecyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCNCCCCCCCCCCCC MJCJUDJQDGGKOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTLZVPTFVVGML-UHFFFAOYSA-N n-ethenylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C=C SZTLZVPTFVVGML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSVWUPPSQAZZTF-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CC GSVWUPPSQAZZTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRXMEYARGEVIU-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C)C(C)C ISRXMEYARGEVIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009972 noncorrosive effect Effects 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid group Chemical group C(CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)(=O)O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- YNXCGLKMOXLBOD-UHFFFAOYSA-N oxolan-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCCO1 YNXCGLKMOXLBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- WATYAKBWIQTPDE-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;zinc Chemical compound [Zn].CC(=O)CC(C)=O WATYAKBWIQTPDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002976 peresters Chemical class 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OSRKWUXYLYWDOH-UHFFFAOYSA-N phenyl(dipropyl)phosphane Chemical compound CCCP(CCC)C1=CC=CC=C1 OSRKWUXYLYWDOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQFILJKFZCVHNH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-[3-[(5-bromo-2-chloropyrimidin-4-yl)amino]propyl]carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NCCCNC1=NC(Cl)=NC=C1Br FQFILJKFZCVHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N tripropylphosphane Chemical compound CCCP(CCC)CCC KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003799 water insoluble solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水性結合剤、とくに陰極塗装材料の製造に適
当な水性結合剤に関する。本発明の水希釈性結合剤を用
いて作成された塗装は浸れた腐食保護作用と改良された
ストーンチップ耐性(stone Chip resi
stance)を有する。
当な水性結合剤に関する。本発明の水希釈性結合剤を用
いて作成された塗装は浸れた腐食保護作用と改良された
ストーンチップ耐性(stone Chip resi
stance)を有する。
塩形成後、各4有機結合剤系を水性媒体中に分散させ、
水浴中に浸漬した伝導性金属被塗物上に、電流を適用し
電気泳動法によるメツキを行うことができることは知ら
れている。実際に最も広く使用され、金属表面たとえば
金属シート上に良好な均一1!着性ときわめて良好な腐
食防止作用を示す電気泳動上塗シまたは?4着塗装上塗
シは陰極性結合剤(cathodic binders
) である。析出した塗膜の熱架橋は、たとえば、D
E−A−2057799、DE−A−2i 31060
、DE−A−2531960およびD]1u−A−26
06666に記載されているように、部分的にブロック
されたポリイソシアネートの導入または完全にブロック
されたポリイソシアネートの添加混合によシ行われる。
水浴中に浸漬した伝導性金属被塗物上に、電流を適用し
電気泳動法によるメツキを行うことができることは知ら
れている。実際に最も広く使用され、金属表面たとえば
金属シート上に良好な均一1!着性ときわめて良好な腐
食防止作用を示す電気泳動上塗シまたは?4着塗装上塗
シは陰極性結合剤(cathodic binders
) である。析出した塗膜の熱架橋は、たとえば、D
E−A−2057799、DE−A−2i 31060
、DE−A−2531960およびD]1u−A−26
06666に記載されているように、部分的にブロック
されたポリイソシアネートの導入または完全にブロック
されたポリイソシアネートの添加混合によシ行われる。
これらの特許明細書中には、適当なブロックされたポリ
イソシアネートの一般的一覧表がまとめられ、また新規
なブロック剤が記載されている。
イソシアネートの一般的一覧表がまとめられ、また新規
なブロック剤が記載されている。
しかしながら、ストーンチップ耐性を改善する特定のポ
リイソシアネートの混合物についての指摘はない。
リイソシアネートの混合物についての指摘はない。
DE−C3545205には、結合剤に加えて、反応性
希釈剤Aと、少なくとも6個のブロックされたイソシア
ネート基を含有し数平均分子1i750〜10,000
の化合物Bとの架橋混合物を含む電気塗装材料が記載さ
れている。希釈剤として用いられる成分人は、2個のブ
ロックされたイソシアネート基を有し、平均分子数は7
15未満と低く、アミン数は30未満と低い化合物であ
ってもよい。反応性希釈剤Aの溶媒特性は大きな皮嘆厚
を生じる。ストーンチップ耐性の改良については記載さ
れていない。
希釈剤Aと、少なくとも6個のブロックされたイソシア
ネート基を含有し数平均分子1i750〜10,000
の化合物Bとの架橋混合物を含む電気塗装材料が記載さ
れている。希釈剤として用いられる成分人は、2個のブ
ロックされたイソシアネート基を有し、平均分子数は7
15未満と低く、アミン数は30未満と低い化合物であ
ってもよい。反応性希釈剤Aの溶媒特性は大きな皮嘆厚
を生じる。ストーンチップ耐性の改良については記載さ
れていない。
DE−A−3004538では、2回塗装システムにお
ける陰極電気塗装の下塗に、焼付は時に着色分解物の生
成の結果として上塗塗料の品質に劣化が生じないように
、部分的および完全にブロックされた芳香族ポリイソシ
アネートと非ブロツク化二官能性ポリイソシアネートか
ら構成されるポリイソシアネート混合物が使用されてい
る。
ける陰極電気塗装の下塗に、焼付は時に着色分解物の生
成の結果として上塗塗料の品質に劣化が生じないように
、部分的および完全にブロックされた芳香族ポリイソシ
アネートと非ブロツク化二官能性ポリイソシアネートか
ら構成されるポリイソシアネート混合物が使用されてい
る。
DE−A−3452233およびDE−A−24988
4では、焼付は皮膜内の下地欠陥を回避するために、反
応性の異なる、すなわち異なるブロッキング基を有する
ブロックされたポリイソシアネート混合物が用いられて
いる。EP−A 201444では、反応性架橋剤とし
てのブロックされたポリイソシアネートに加えて、合着
剤の含量を低下させ良好な平らさを有する電気塗装材料
を得るために、反応性希釈剤としてガラス転移温度の低
い(Tg<22°C)のブロックされたポリイソシアネ
ートを添加している。これらの混合物の例にも、ポリイ
ソシアネート混合物の特定の選択の結果としてのストー
ンチップ耐性の改善の指摘はない。
4では、焼付は皮膜内の下地欠陥を回避するために、反
応性の異なる、すなわち異なるブロッキング基を有する
ブロックされたポリイソシアネート混合物が用いられて
いる。EP−A 201444では、反応性架橋剤とし
てのブロックされたポリイソシアネートに加えて、合着
剤の含量を低下させ良好な平らさを有する電気塗装材料
を得るために、反応性希釈剤としてガラス転移温度の低
い(Tg<22°C)のブロックされたポリイソシアネ
ートを添加している。これらの混合物の例にも、ポリイ
ソシアネート混合物の特定の選択の結果としてのストー
ンチップ耐性の改善の指摘はない。
陰極に析出させることができる塗装材料の性質に対する
市場の要求は、溶媒合一および焼付は温度を低下させ、
一方、均一1!着性と腐食防止性を維持もしくは改良す
るために、絶えず増大している。現在では、ストーンチ
ップ耐性の増大に特別の評価が与えられている。
市場の要求は、溶媒合一および焼付は温度を低下させ、
一方、均一1!着性と腐食防止性を維持もしくは改良す
るために、絶えず増大している。現在では、ストーンチ
ップ耐性の増大に特別の評価が与えられている。
本発明の目的は、上述の要求に合致し、既知の塗装材料
に比べて耐鋼球衝ル性が改善された水性陰極電気塗装材
料のための結合剤系を提供することにある。
に比べて耐鋼球衝ル性が改善された水性陰極電気塗装材
料のための結合剤系を提供することにある。
本発明は、この目的が、驚くべきことに使用するブロッ
クされたポリイソシアネートの特殊表選択によって達成
できることを発見し完成されたものである。
クされたポリイソシアネートの特殊表選択によって達成
できることを発見し完成されたものである。
本発明は、因数平均分子請(万)が500〜20.00
0の水希釈性のベースレジン(base re−sin
s) 40〜90重ht%、および(B)(l場合によ
っては三級アミノ基を含有していてもよいH−反応性二
官能性化合物とジイソシアネートとの反応生成物であっ
て、ウレタン基および場合によっては尿素基を含有し、
OH基をもたない、数平均分子型(Mn)が750〜8
,000、アミン数が30〜150の、1種または2種
以上の末端がブロックされたジイソシアネートと、(I
+)2個よりも多いブロックされたイソシアネート基を
有し、数平均分子* (Mn)が500〜1,500の
芳香族および/または脂肪族のブロックされたポリイソ
シアネートとからなる完全くブロックされたポリ1°ソ
シアネートとの混合物10〜60重社%を含有し、成分
B(ii)およびE (#)は1:j 〜1:10f)
虞澁比で存在するものである水希釈性結合剤に関するも
のである。
0の水希釈性のベースレジン(base re−sin
s) 40〜90重ht%、および(B)(l場合によ
っては三級アミノ基を含有していてもよいH−反応性二
官能性化合物とジイソシアネートとの反応生成物であっ
て、ウレタン基および場合によっては尿素基を含有し、
OH基をもたない、数平均分子型(Mn)が750〜8
,000、アミン数が30〜150の、1種または2種
以上の末端がブロックされたジイソシアネートと、(I
+)2個よりも多いブロックされたイソシアネート基を
有し、数平均分子* (Mn)が500〜1,500の
芳香族および/または脂肪族のブロックされたポリイソ
シアネートとからなる完全くブロックされたポリ1°ソ
シアネートとの混合物10〜60重社%を含有し、成分
B(ii)およびE (#)は1:j 〜1:10f)
虞澁比で存在するものである水希釈性結合剤に関するも
のである。
本発明の水希釈性結合剤中に成分Aとして存在スるベー
スレジンは、ブロックされたイソシアネート基と反応で
きるH反応性基としてヒドロキシル基、−級および/ま
たは二級アミン基を含有する。水分散性または水溶解性
を達成するために、三級アミノ基、四級アミン基、四級
ホスホニウム基および/または三元スルホニウム基(t
ernary sulphonium groups)
が使用される。塩基性樹脂は混合物として存在し、混合
物の各成分が1aまたは2種以上の上述の官能基をもっ
ていてもよい。水希釈性に悪影響を与えないことを条件
に、上述の官能基をもたない成分を混合添加することも
可能である。
スレジンは、ブロックされたイソシアネート基と反応で
きるH反応性基としてヒドロキシル基、−級および/ま
たは二級アミン基を含有する。水分散性または水溶解性
を達成するために、三級アミノ基、四級アミン基、四級
ホスホニウム基および/または三元スルホニウム基(t
ernary sulphonium groups)
が使用される。塩基性樹脂は混合物として存在し、混合
物の各成分が1aまたは2種以上の上述の官能基をもっ
ていてもよい。水希釈性に悪影響を与えないことを条件
に、上述の官能基をもたない成分を混合添加することも
可能である。
水希釈性ベースレジン(成分A)は、数平均分子fj(
Mn)が500〜20,000、とくに、1,00 D
〜10,000(ゲル透過クロマトグラフィーで測定し
、ポリエチレン分画で検λする)の重付加物、重縮合物
または重合物とすることができる。
Mn)が500〜20,000、とくに、1,00 D
〜10,000(ゲル透過クロマトグラフィーで測定し
、ポリエチレン分画で検λする)の重付加物、重縮合物
または重合物とすることができる。
その粘度は、25°C1モノグリコールエーテル(とく
にブトキシェタノール)中50%強度の溶液で測定して
、好ましくは0.05〜10Pa、s。
にブトキシェタノール)中50%強度の溶液で測定して
、好ましくは0.05〜10Pa、s。
とくに0.1〜5Pa、s である。そのガラス転移
温度は、とくに−50〜+150°C1好ましくは一2
0〜+50°Cである。適当な平均分子量または粘度は
、高いまたは低い分子量または粘度をもつ樹脂を添加混
合することによっても得ることができる。
温度は、とくに−50〜+150°C1好ましくは一2
0〜+50°Cである。適当な平均分子量または粘度は
、高いまたは低い分子量または粘度をもつ樹脂を添加混
合することによっても得ることができる。
その化学組成はきわめて広範囲の種頌の化合物から選択
できる。溶解度のためには、塩形成が可能な基、たとえ
ば−級、二級または三級アミン基少なくとも1種の存在
が重要である。しかしながら、四級アンモニウムまたは
ホスホニウム塩基、ならびに三元スルホニウム基が分子
内に存在してもよい(全体の均衡のため任意に)。
できる。溶解度のためには、塩形成が可能な基、たとえ
ば−級、二級または三級アミン基少なくとも1種の存在
が重要である。しかしながら、四級アンモニウムまたは
ホスホニウム塩基、ならびに三元スルホニウム基が分子
内に存在してもよい(全体の均衡のため任意に)。
架橋能のためには、平均して少なくとも2個のH−反応
性部位、たとえば2個のヒドロキシル基および/または
一級および/または二級アミン基をもつことが重要であ
る。成分(4)が、酸でプロトン付加を行ったのちに水
溶解性または水分散性になる十分な量のアミノ基を含有
するならば、ブロックされたポリイソシアネート(成分
B)と乳化することにより焼付は処理用の水分散性結合
剤を製造することができ、その結合剤から、電看塗装お
よび熱架橋後に、とくに良好な耐腐食性を示す下塗りま
たは1回塗装仕上が生成する。
性部位、たとえば2個のヒドロキシル基および/または
一級および/または二級アミン基をもつことが重要であ
る。成分(4)が、酸でプロトン付加を行ったのちに水
溶解性または水分散性になる十分な量のアミノ基を含有
するならば、ブロックされたポリイソシアネート(成分
B)と乳化することにより焼付は処理用の水分散性結合
剤を製造することができ、その結合剤から、電看塗装お
よび熱架橋後に、とくに良好な耐腐食性を示す下塗りま
たは1回塗装仕上が生成する。
水希釈性ベースレジン(成分A)は、アミン数30〜1
50(固体樹脂11あたりのKOH〜数)または固体樹
脂IIiあたシの陽イオン基0.5〜2.7ミリ当鼠、
ヒドロキシル数30〜500または固体樹脂1gあたジ
ヒドロキジル基0.9〜8.9ミリ轟−を有することが
好ましい。アミン数の上限は好ましくは120、とくに
好ましくは100であり、アミン数の下限は好ましくは
45、とくに好ましくは70である。アミン数が低すぎ
ると、溶解度が低すきるか、または極度に高度の中和で
電気泳動浴中に極度に酸性の一1値を生じる。アミン数
が高すぎると、析出した皮膜の付着性が劣り、皮膵厚の
異なる平らでない表面が形成される。分子内に存在する
ヒドロキシル基は、焼付は時に起こる架jEli応のた
めに重要である。これらのヒドロキシル基の数は1分子
あたり、少なくとも2、好ましくは少なくとも3、とく
に好ましくは少なくとも4である。ヒドロキシル数の上
限は好ましくは400、とくに好ましくは600である
。ヒドロキシル数の下限は好ましくは50、とくに好ま
しくは100である。ヒドロキシル数が低すぎると、有
機溶謀たとえばアセトン、メチルエチルケトン中で依然
として表面膨+1’Jを受ける皮膜が架橋時に形成スル
。一方、ヒドロキシル数が高すぎると、皮膜は展性が低
くなりすぎ、また高い親水性が残存する。四級アンモニ
ウムもしくはホスホニウム基または三元スルホニウム基
を有する樹脂は一般に、適当な色素は−スト結合剤の製
造のために添加混合される。
50(固体樹脂11あたりのKOH〜数)または固体樹
脂IIiあたシの陽イオン基0.5〜2.7ミリ当鼠、
ヒドロキシル数30〜500または固体樹脂1gあたジ
ヒドロキジル基0.9〜8.9ミリ轟−を有することが
好ましい。アミン数の上限は好ましくは120、とくに
好ましくは100であり、アミン数の下限は好ましくは
45、とくに好ましくは70である。アミン数が低すぎ
ると、溶解度が低すきるか、または極度に高度の中和で
電気泳動浴中に極度に酸性の一1値を生じる。アミン数
が高すぎると、析出した皮膜の付着性が劣り、皮膵厚の
異なる平らでない表面が形成される。分子内に存在する
ヒドロキシル基は、焼付は時に起こる架jEli応のた
めに重要である。これらのヒドロキシル基の数は1分子
あたり、少なくとも2、好ましくは少なくとも3、とく
に好ましくは少なくとも4である。ヒドロキシル数の上
限は好ましくは400、とくに好ましくは600である
。ヒドロキシル数の下限は好ましくは50、とくに好ま
しくは100である。ヒドロキシル数が低すぎると、有
機溶謀たとえばアセトン、メチルエチルケトン中で依然
として表面膨+1’Jを受ける皮膜が架橋時に形成スル
。一方、ヒドロキシル数が高すぎると、皮膜は展性が低
くなりすぎ、また高い親水性が残存する。四級アンモニ
ウムもしくはホスホニウム基または三元スルホニウム基
を有する樹脂は一般に、適当な色素は−スト結合剤の製
造のために添加混合される。
水希釈性ベースレジン(成分A)40〜600〜60重
社ックされたポリイソシアネート混合物(成分B)10
〜60重祉%と、とくに成分A50〜80重鑓%を成分
B20〜50重社%と、とくに好ましくは成分A55〜
75重社%を成分330〜45重量%と混合する。成分
Aの一級またけ二級アミノ基とヒドロキシル基の当量数
と成分Bのブロックされたイソシアネート基の比は、1
:0.1から1:1.5の範囲、好ましくは1:0.7
〜1:1.2、とくに好ましくは1:1である。成分−
と(B)は冷時または熱時に混合することができ、とく
に高温で予め縮合させてもよい。この操作時に、成分−
と(Blはある程度たがいに反応するが、混合物の熱硬
化性および醜によるプロトン付加で水溶性となる能力が
失われることはない。
社ックされたポリイソシアネート混合物(成分B)10
〜60重祉%と、とくに成分A50〜80重鑓%を成分
B20〜50重社%と、とくに好ましくは成分A55〜
75重社%を成分330〜45重量%と混合する。成分
Aの一級またけ二級アミノ基とヒドロキシル基の当量数
と成分Bのブロックされたイソシアネート基の比は、1
:0.1から1:1.5の範囲、好ましくは1:0.7
〜1:1.2、とくに好ましくは1:1である。成分−
と(B)は冷時または熱時に混合することができ、とく
に高温で予め縮合させてもよい。この操作時に、成分−
と(Blはある程度たがいに反応するが、混合物の熱硬
化性および醜によるプロトン付加で水溶性となる能力が
失われることはない。
本発明において成分−として使用される塩基性ポリアミ
ン樹脂の製造は公知で、多くの特許公報に記載されてい
る。以下の例を挙げることができる。
ン樹脂の製造は公知で、多くの特許公報に記載されてい
る。以下の例を挙げることができる。
(ii) 修飾ポリエポキシドとケチミンのアダクト
で、二級アミノ基と少なくとも1個の一級アミン基を有
するポリアミンから製造される(DE−A−27010
02およびDE、−A−2057799)(2)修飾ポ
リエポキシドとポリアミン(DE−A−3712805
)またはアンモニア(DE−A−3624313)のア
ダクト (3)不飽和または塩基性モノイソシアネートとの反応
によって得られる修飾エポキシ樹脂(DE−A−270
7405またはDE−A−2707482)(4)修飾
フェノールからホルムアルデヒドと二級アミンまたはア
ミノアルコールとの反応で得られるマンニッヒ塩基(D
E−A−2751499、DB−A−2759428お
よびEP−A−209857)(5)少なくとも1種の
塩基性アクリロイルモノマーまたはビニルモノマーを含
有する共重合体(DE−A−1546854、DE−A
−2057799およびDg−A−+436346) (6) マレイン酸化またはエポキシ化ポリブタジェ
ン油のアミンとの反応生成物(DE−A−272847
0およびDE−A−2732736)(力 OH基を含
有するアミノポリウレタン(DB−A−3465329
) (8) ポリカルボン酸と、少なくとも2個の塩基性
アミノ基を含有するポリアミンの重縮合物(US−A−
2450940) (9) ポリカルボン師樹月旨とアルキレンイミンの
アダクト(US−A−3405088)(ii0)四級
アンモニウムもしくはホスホニウム塩の基または三元ス
ルホニウム塩の基を含有する塩基性樹脂(DE−A−2
531960)(ii1)ヒドロキシルおよびアミン基
のほかにブロックされたイソシアネート基も含有する塩
基性樹脂 好ましいアミノエポキシ樹脂の化学組・成およびその性
質は広範囲に、たとえば、 −エポキシ樹脂およびアミンの選択 −アミノおよびヒドロキシル基の数 −分子量およびベースレジンと架橋剤のモル比−硬質お
よび軟質分子セグメントの比 によって変化させることができる。
で、二級アミノ基と少なくとも1個の一級アミン基を有
するポリアミンから製造される(DE−A−27010
02およびDE、−A−2057799)(2)修飾ポ
リエポキシドとポリアミン(DE−A−3712805
)またはアンモニア(DE−A−3624313)のア
ダクト (3)不飽和または塩基性モノイソシアネートとの反応
によって得られる修飾エポキシ樹脂(DE−A−270
7405またはDE−A−2707482)(4)修飾
フェノールからホルムアルデヒドと二級アミンまたはア
ミノアルコールとの反応で得られるマンニッヒ塩基(D
E−A−2751499、DB−A−2759428お
よびEP−A−209857)(5)少なくとも1種の
塩基性アクリロイルモノマーまたはビニルモノマーを含
有する共重合体(DE−A−1546854、DE−A
−2057799およびDg−A−+436346) (6) マレイン酸化またはエポキシ化ポリブタジェ
ン油のアミンとの反応生成物(DE−A−272847
0およびDE−A−2732736)(力 OH基を含
有するアミノポリウレタン(DB−A−3465329
) (8) ポリカルボン酸と、少なくとも2個の塩基性
アミノ基を含有するポリアミンの重縮合物(US−A−
2450940) (9) ポリカルボン師樹月旨とアルキレンイミンの
アダクト(US−A−3405088)(ii0)四級
アンモニウムもしくはホスホニウム塩の基または三元ス
ルホニウム塩の基を含有する塩基性樹脂(DE−A−2
531960)(ii1)ヒドロキシルおよびアミン基
のほかにブロックされたイソシアネート基も含有する塩
基性樹脂 好ましいアミノエポキシ樹脂の化学組・成およびその性
質は広範囲に、たとえば、 −エポキシ樹脂およびアミンの選択 −アミノおよびヒドロキシル基の数 −分子量およびベースレジンと架橋剤のモル比−硬質お
よび軟質分子セグメントの比 によって変化させることができる。
エポキシ基を含有し、好ましくは末端1,2−エポキシ
基を有する樹脂は、エポキシ基を含有し、平均分千世1
40〜4,000、エポキシド当量型pi (epox
ide equivalent weight)約70
〜2.(500のポリグリシジルエーテル、ポリグリシ
ジルアミンまたはポリ炭化水素である。適当なエポキシ
樹脂の例は、一般式 (式中、Aは多価好ましくは2価のアルコール、フェノ
ール、アミンまたは相当する複索環化合物であシ、nは
1.5から6までの数、好ましくは1.8〜4、とくに
好ましくは2である)で示される化合物であシ、またこ
れは混合物として使用してもよい。
基を有する樹脂は、エポキシ基を含有し、平均分千世1
40〜4,000、エポキシド当量型pi (epox
ide equivalent weight)約70
〜2.(500のポリグリシジルエーテル、ポリグリシ
ジルアミンまたはポリ炭化水素である。適当なエポキシ
樹脂の例は、一般式 (式中、Aは多価好ましくは2価のアルコール、フェノ
ール、アミンまたは相当する複索環化合物であシ、nは
1.5から6までの数、好ましくは1.8〜4、とくに
好ましくは2である)で示される化合物であシ、またこ
れは混合物として使用してもよい。
1分子あたシ約2個のエポキシ基を含有し、平均分子量
的300〜1,500、エポキシド当鼠重置約170〜
1,000、とくに180〜500であって、Aは多価
好ましくは2価のアルコール、フェノール、アミンまた
は相当する複素環化合物の残基であり、nは1.5から
6までの数、好ましくは1.8〜4、とくに好ましくは
2であるポリグリシジルエーテルの使用がとくに好まし
い。またこれは混合物として使用してもよい。
的300〜1,500、エポキシド当鼠重置約170〜
1,000、とくに180〜500であって、Aは多価
好ましくは2価のアルコール、フェノール、アミンまた
は相当する複素環化合物の残基であり、nは1.5から
6までの数、好ましくは1.8〜4、とくに好ましくは
2であるポリグリシジルエーテルの使用がとくに好まし
い。またこれは混合物として使用してもよい。
これらの化合物はたとえば、エビハロヒドリンまたはメ
チルエピハロヒドリン好ましくはエピクロルヒドリンを
2価の7エノールと反応させて製造することができ、分
子量はモル比の選択および適当な塩基性触媒たとえばア
ンモニウムまたはホスホニウム塩の添加によって調整で
きる。式(ii)には、たとえば、以下の式〔式中、m
はO〜5、好ましくは0〜2であり、Rは以下の構造 (式中、Yは−CH2−−C(CH3)2− −CO−
1−8−−8O−−802−または−C(C(J5)−
であυ、−c(ca3)2−が好ましい)のビスフェノ
ールの基であることが好ましい〕 で表される樹脂が包含される。
チルエピハロヒドリン好ましくはエピクロルヒドリンを
2価の7エノールと反応させて製造することができ、分
子量はモル比の選択および適当な塩基性触媒たとえばア
ンモニウムまたはホスホニウム塩の添加によって調整で
きる。式(ii)には、たとえば、以下の式〔式中、m
はO〜5、好ましくは0〜2であり、Rは以下の構造 (式中、Yは−CH2−−C(CH3)2− −CO−
1−8−−8O−−802−または−C(C(J5)−
であυ、−c(ca3)2−が好ましい)のビスフェノ
ールの基であることが好ましい〕 で表される樹脂が包含される。
代表的な2価フェノールは、ハイドロキノン、レゾルシ
ノール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、p、p′−
ジヒドロキシジフェニルプロパン、p 、p’−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、p−p’−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、ppp’−ジヒドロキシジフェニルエタン
、p、p′−ジヒドロキシジーt6rt−フデルフェニ
ルプロパンまたはビス−(2−ヒドロキシナフチル)メ
タンがある。ジヒドロキンジフェニルプロパンのような
工業用混合物、とくに少量の2,2′−または4,2′
−異性体を含有する4、4′−異性体が好ましい。上述
のエポキシ樹脂は、たとえば1,4−ビス−(2,5−
エポキシプロポキシ)−シクロヘキサンのように完全に
または部分的に水素添加されていてもよく、また構造お
よび分子層の異なる化合物の混合物として使用すること
もできる。
ノール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、p、p′−
ジヒドロキシジフェニルプロパン、p 、p’−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、p−p’−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、ppp’−ジヒドロキシジフェニルエタン
、p、p′−ジヒドロキシジーt6rt−フデルフェニ
ルプロパンまたはビス−(2−ヒドロキシナフチル)メ
タンがある。ジヒドロキンジフェニルプロパンのような
工業用混合物、とくに少量の2,2′−または4,2′
−異性体を含有する4、4′−異性体が好ましい。上述
のエポキシ樹脂は、たとえば1,4−ビス−(2,5−
エポキシプロポキシ)−シクロヘキサンのように完全に
または部分的に水素添加されていてもよく、また構造お
よび分子層の異なる化合物の混合物として使用すること
もできる。
以上述べたこれらのポリエポキシ樹脂は、さらに弾力性
のある修#によって部分的に任意に置換することもでき
る。それらは2価フェノールとくにビスフェノールから
、ポリエポキシ樹脂とポリアルコール好ましくは長鎖ジ
アルカノール(HO−E−OH)たとえばブタン−1,
4−ジオールまたはヘキサン−1,6−ジオールとの、
適当な触媒の存在下の反応によシ、式 の化合物として生成され、また、多価アルコールとアル
キレンオキシドたとえばエチレンオキシド、プロピレン
オキシド、ブチレンオキシドまたはステアリルオキシド
との反応、ついでエピクロルヒドリンとの反応によシ、
式 (式中、R′は水素または低級アルキル基好ましくは一
〇H3もしくは一〇2H5を意味する)の化合物として
生成される。また、以下の一般式(式中、R′は水素ま
たは任意に置換された低級アルキル基好ましくは一〇H
sもしくは−C’2H5であシ、pは2〜15である)
で表され、上記一般式(ii)に包含される多価アルコ
ールのポリグリシジルエーテルも適当である。これらの
化合物の代表例には、エピクロルヒドリンと、エチレン
グリコール、1,2−および1,6−プロピレングリコ
ール、1,2−および1,4−ブタンジオール、1.5
−ベンタンジオールおよび2−エチルヘキサン−1,6
−ジオール、ならびに1,2.6−ヘキサンドリオール
またはビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−2,
2−7’口・ξンのような化合物との反応生成物がある
。しかしながら、適当なポリグリシジルエーテルは同様
に、式(式中、R′は先に定義したと同意義であシ、r
は2〜6、qは1〜20である)に相当し、同じく一般
式(ii)に包含される化合物である。これらの化合物
の代表例には、エビクロルヒトリント、エチレングリコ
ール、1.2−−7’ロピレングリコールまたは12−
ブチレングリコールからア 得られるポリエーテルたとえば様々の分子−を有するポ
リエチレングリフール、ポリプロピレングリコールまた
はポリブチレングリフールとの反応生成物がある。
のある修#によって部分的に任意に置換することもでき
る。それらは2価フェノールとくにビスフェノールから
、ポリエポキシ樹脂とポリアルコール好ましくは長鎖ジ
アルカノール(HO−E−OH)たとえばブタン−1,
4−ジオールまたはヘキサン−1,6−ジオールとの、
適当な触媒の存在下の反応によシ、式 の化合物として生成され、また、多価アルコールとアル
キレンオキシドたとえばエチレンオキシド、プロピレン
オキシド、ブチレンオキシドまたはステアリルオキシド
との反応、ついでエピクロルヒドリンとの反応によシ、
式 (式中、R′は水素または低級アルキル基好ましくは一
〇H3もしくは一〇2H5を意味する)の化合物として
生成される。また、以下の一般式(式中、R′は水素ま
たは任意に置換された低級アルキル基好ましくは一〇H
sもしくは−C’2H5であシ、pは2〜15である)
で表され、上記一般式(ii)に包含される多価アルコ
ールのポリグリシジルエーテルも適当である。これらの
化合物の代表例には、エピクロルヒドリンと、エチレン
グリコール、1,2−および1,6−プロピレングリコ
ール、1,2−および1,4−ブタンジオール、1.5
−ベンタンジオールおよび2−エチルヘキサン−1,6
−ジオール、ならびに1,2.6−ヘキサンドリオール
またはビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−2,
2−7’口・ξンのような化合物との反応生成物がある
。しかしながら、適当なポリグリシジルエーテルは同様
に、式(式中、R′は先に定義したと同意義であシ、r
は2〜6、qは1〜20である)に相当し、同じく一般
式(ii)に包含される化合物である。これらの化合物
の代表例には、エビクロルヒトリント、エチレングリコ
ール、1.2−−7’ロピレングリコールまたは12−
ブチレングリコールからア 得られるポリエーテルたとえば様々の分子−を有するポ
リエチレングリフール、ポリプロピレングリコールまた
はポリブチレングリフールとの反応生成物がある。
式(iiンには、同様に使用できる護索壌ポリエポキシ
化合物、たとえば1,5−ジグリシジル−5,5−ジメ
チルヒダントインまたはインシアヌール酸トリグリシジ
ルが包含される。他の適当な71類のポリエポキシドに
は、フェノール性ノボラック樹脂のポリグリシジルエー
テルがある。
化合物、たとえば1,5−ジグリシジル−5,5−ジメ
チルヒダントインまたはインシアヌール酸トリグリシジ
ルが包含される。他の適当な71類のポリエポキシドに
は、フェノール性ノボラック樹脂のポリグリシジルエー
テルがある。
これらの化合物はホルムアルデヒドと7エノールのモル
比1:α5〜1:0.8での酸性条件下の縮合、ついで
エピクロルヒドリンとの反応によって生成される。これ
らの化合物はエポキシド等量imkk1so〜600、
好ましくは170〜210で、1分子あたり約2〜4個
のグリシジル基を含有する。この樹脂系の場合、一般に
平均分子量が大きいこと、たとえば474〜3,000
であることに留意しなければならない。これらの樹脂は
モノアルキルフェノールたとえばノニルフェノールとの
反応によって脱官能化することができる。
比1:α5〜1:0.8での酸性条件下の縮合、ついで
エピクロルヒドリンとの反応によって生成される。これ
らの化合物はエポキシド等量imkk1so〜600、
好ましくは170〜210で、1分子あたり約2〜4個
のグリシジル基を含有する。この樹脂系の場合、一般に
平均分子量が大きいこと、たとえば474〜3,000
であることに留意しなければならない。これらの樹脂は
モノアルキルフェノールたとえばノニルフェノールとの
反応によって脱官能化することができる。
アミン基は、エポキシ基をNH−反応性化合物との付加
反応に付すことによシ有利に導入される。この反応はし
たがってほぼ等モル比または、副反応によるエポキシ基
の消費を保償するためまたはアミンの完全な導入を保証
するために、所望によυ小過刺のエポキシ基を用いて行
われる。−級アミンは2個のエポキシ基と反応し、その
ために鎖最の延長を生じる。一般に、エポキシ樹脂は、
脂肪族アルコール、エチレングリコールもしくはプロピ
レングリフールのモノアルキルエーテルまたは相当する
ジアルキルエーテルのような有機溶媒に溶解する。アミ
ンの反応は室温のような低温で始まシ、一般に発熱性で
ある。反応温度を約50〜150”c、好ましくは60
〜80゛Cに上昇させることによシ、安定性のため、反
応終了後にはエポキシ基がもう存在しないことを保証し
なければならない。混合物のアミンはすべてエポキシ基
と同時に反応させてもよく、また段階的操作、すなわち
エポキシ基を含有する1種もしくは2種以上の塩基性中
間体を異なる順序で製造することもできる。
反応に付すことによシ有利に導入される。この反応はし
たがってほぼ等モル比または、副反応によるエポキシ基
の消費を保償するためまたはアミンの完全な導入を保証
するために、所望によυ小過刺のエポキシ基を用いて行
われる。−級アミンは2個のエポキシ基と反応し、その
ために鎖最の延長を生じる。一般に、エポキシ樹脂は、
脂肪族アルコール、エチレングリコールもしくはプロピ
レングリフールのモノアルキルエーテルまたは相当する
ジアルキルエーテルのような有機溶媒に溶解する。アミ
ンの反応は室温のような低温で始まシ、一般に発熱性で
ある。反応温度を約50〜150”c、好ましくは60
〜80゛Cに上昇させることによシ、安定性のため、反
応終了後にはエポキシ基がもう存在しないことを保証し
なければならない。混合物のアミンはすべてエポキシ基
と同時に反応させてもよく、また段階的操作、すなわち
エポキシ基を含有する1種もしくは2種以上の塩基性中
間体を異なる順序で製造することもできる。
エポキシ樹脂と反応させるアミンは、以下の群から有利
に選択される。
に選択される。
(ii)一般式
%式%)
(式中、Rii H1または炭素原子1〜8個を有する
アルキル基好ましくはメチルもしくはエチルであり、R
′は炭素原子2〜8個を有するアルキレン基好ましくは
エチレンもしくはプロピレンである)で示されるモノま
たはジヒドロキシアルキルアミン 好ましくは一級であるヒドロキシル基のために、この種
類のアミンはベースレジンの反応性を改良する。これら
の化合物の代表的な例にはアミンエタノール、N−メチ
ルアミノエタノール、N−エチルアミンエタノール、ジ
ェタノールアミン、アミノイソプロパツール、N−メチ
ルアミノイソプロパツール、N−メチルアミノ−n−プ
ロパツール、N−エチルアミノイソプロパノールおよび
ジインプロパツールアミンがある。
アルキル基好ましくはメチルもしくはエチルであり、R
′は炭素原子2〜8個を有するアルキレン基好ましくは
エチレンもしくはプロピレンである)で示されるモノま
たはジヒドロキシアルキルアミン 好ましくは一級であるヒドロキシル基のために、この種
類のアミンはベースレジンの反応性を改良する。これら
の化合物の代表的な例にはアミンエタノール、N−メチ
ルアミノエタノール、N−エチルアミンエタノール、ジ
ェタノールアミン、アミノイソプロパツール、N−メチ
ルアミノイソプロパツール、N−メチルアミノ−n−プ
ロパツール、N−エチルアミノイソプロパノールおよび
ジインプロパツールアミンがある。
(2)一般式
(式中、RはHまたはR′であり、R′は2〜8個の炭
素原子を有するアルキレン好ましくはエチレンもしくは
プロピレンであLR’は炭素原子1〜8個を有するアル
キル基好ましくはメチルもしくはエチルである)で示さ
れるN、N−ジアルキルアミノアルキルアミン ジアルキルアミノ基のために、この種類のアミンはベー
スレジンの塩基性、したがって溶解性を改良する。この
目的に適当な例には、N−ジメチルアミンエチルアミン
、N−ジエチル−R′−メチルアミノプロピルアミン、
ジエチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロビル
アミン、ジエチルアミノプロビルアミンおよびジメチル
アミノネオペンチルアミンがある。
素原子を有するアルキレン好ましくはエチレンもしくは
プロピレンであLR’は炭素原子1〜8個を有するアル
キル基好ましくはメチルもしくはエチルである)で示さ
れるN、N−ジアルキルアミノアルキルアミン ジアルキルアミノ基のために、この種類のアミンはベー
スレジンの塩基性、したがって溶解性を改良する。この
目的に適当な例には、N−ジメチルアミンエチルアミン
、N−ジエチル−R′−メチルアミノプロピルアミン、
ジエチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロビル
アミン、ジエチルアミノプロビルアミンおよびジメチル
アミノネオペンチルアミンがある。
(3)一般式
(式中、Rは炭素原子1〜8個を有するアルキル基また
はヒドロキシアルキル基であり 、R′は鎖中に1個も
しくは2個以上の酸素原子を含んでいてもよく、炭素原
子2〜12個好ましくは4〜8個を有するアルキレン基
を意味する)で示され、弾性化のための鎖長延長に用い
られる長鎖二級ジアミン 二級ジアミンも相当する一級アルキレンジアミンをグリ
シジルエーテルまたはグリシジルエステルと反応させる
ことによって製造できる。
はヒドロキシアルキル基であり 、R′は鎖中に1個も
しくは2個以上の酸素原子を含んでいてもよく、炭素原
子2〜12個好ましくは4〜8個を有するアルキレン基
を意味する)で示され、弾性化のための鎖長延長に用い
られる長鎖二級ジアミン 二級ジアミンも相当する一級アルキレンジアミンをグリ
シジルエーテルまたはグリシジルエステルと反応させる
ことによって製造できる。
代表的な例には、N、N’−ジメチルジアミノヘキサン
、ビスーN、N’−シアノエチルアルキレンジアミン、
または好ましくはヘキサンジアミンと2モルのカルジュ
ラE1バーサチック酸のグリシジルエステルとの反応生
成物がある。弾性化鎖の延長は、上述の二級ジアミン2
モルとジイソシアネート1モルとの反応により尿素基を
形成させることによって達成できる。二級ジアミンはま
た、2個の置換基が異なシ、非対称構造をとってもよい
。たとえば、ジアミンはN−ヒドロキシエチルエチレン
ジアミンまたはN−ジメチルアミノエチルプロピレンジ
アミンのカルジュラEとの反応生成物であってもよい。
、ビスーN、N’−シアノエチルアルキレンジアミン、
または好ましくはヘキサンジアミンと2モルのカルジュ
ラE1バーサチック酸のグリシジルエステルとの反応生
成物がある。弾性化鎖の延長は、上述の二級ジアミン2
モルとジイソシアネート1モルとの反応により尿素基を
形成させることによって達成できる。二級ジアミンはま
た、2個の置換基が異なシ、非対称構造をとってもよい
。たとえば、ジアミンはN−ヒドロキシエチルエチレン
ジアミンまたはN−ジメチルアミノエチルプロピレンジ
アミンのカルジュラEとの反応生成物であってもよい。
エポキシ樹脂をさらに修飾するため、−級モノアルキル
アミンおよび/または好ましくは二級ジアルキルアミン
、たとえばジエチルアミン、n−オクチルアミン、N−
メチル−N−エチルヘキシルアミン、ジドデシルアミン
またはメトキシプロピルアミンを使用することもできる
。
アミンおよび/または好ましくは二級ジアルキルアミン
、たとえばジエチルアミン、n−オクチルアミン、N−
メチル−N−エチルヘキシルアミン、ジドデシルアミン
またはメトキシプロピルアミンを使用することもできる
。
−級アミン基は、少なくとも1個、好ましくは2個のエ
ポキシ基を1分子あたシ含有する樹脂を、アミノ−およ
び/またはヒドロキシル含有ケチミンおよび/またはア
ルジミンと反応させることによシ、樹脂塩基構造に導入
するのが好ましい。好ましいケチミンは、ケトンと二級
アミン基含有アルキルアミン、たとえばメチルイソブチ
ルケトンとジエチレントリアミンとの反応生成物である
。
ポキシ基を1分子あたシ含有する樹脂を、アミノ−およ
び/またはヒドロキシル含有ケチミンおよび/またはア
ルジミンと反応させることによシ、樹脂塩基構造に導入
するのが好ましい。好ましいケチミンは、ケトンと二級
アミン基含有アルキルアミン、たとえばメチルイソブチ
ルケトンとジエチレントリアミンとの反応生成物である
。
ケチミンは、−殻構造R−NH−R−NH2の相当する
ポリアミンまたは一般構造HO−R−NH2の相当する
アミノアルコールと適当な脂肪族ケトンたとえばジエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルn−プロピ
ルケトン、またはたとえばシクロはンタノン、シクロヘ
キサノンもしくはアセトフェノンから水を除去する公知
方法で製造される。反応条件は、水のようなケチミン結
合を切断する物質が反応生成物中に残らないようにしな
ければならない(反応温度、溶媒の選択)。
ポリアミンまたは一般構造HO−R−NH2の相当する
アミノアルコールと適当な脂肪族ケトンたとえばジエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルn−プロピ
ルケトン、またはたとえばシクロはンタノン、シクロヘ
キサノンもしくはアセトフェノンから水を除去する公知
方法で製造される。反応条件は、水のようなケチミン結
合を切断する物質が反応生成物中に残らないようにしな
ければならない(反応温度、溶媒の選択)。
ケチミンは、この基がエポキシ塩基性樹脂と別の官能基
たとえばヒドロキシル基または好ましくは二級アミン基
を介して容易に反応できるので、−級アミン基を保護す
る( US−A−3523925参照)。使用する成分
のモル化の選択によう、非変換低分子量アミンが混合物
中に残らないことを保証しなければならない。ポリアミ
ノケチミンの二級アミノ基のエポキシ基との反応は室温
のような低温で始まシ、一般に発熱性である。完全な変
換を達成するためには、一般に、温度を一時的に50〜
120°Cに上昇させることが必斐である。
たとえばヒドロキシル基または好ましくは二級アミン基
を介して容易に反応できるので、−級アミン基を保護す
る( US−A−3523925参照)。使用する成分
のモル化の選択によう、非変換低分子量アミンが混合物
中に残らないことを保証しなければならない。ポリアミ
ノケチミンの二級アミノ基のエポキシ基との反応は室温
のような低温で始まシ、一般に発熱性である。完全な変
換を達成するためには、一般に、温度を一時的に50〜
120°Cに上昇させることが必斐である。
他の群の水希釈性のベースレジン(成分A)は、−級、
二級および/または三級アミノ基ならびに任意にオニウ
ム塩の基を含有する重合体樹脂である。これらの樹脂は
、たとえばDg−A−1546854、DE−A−20
57799、DE−A−2325177またはDE−A
−2357152に記載されているような従来技術に従
って製造できる。使用されるエチレン性不飽和モノマー
は、AlfrθyおよびPr1ceによるQおよびe配
置図または共重合パラメーターによって規定される共重
合の通常の制限(BrandrupおよびImmerg
ut 、ポリマー便覧、第2版、John Wiley
& 5ons、 New York 、 1975年
刊参照〕参照用されるほかは、実際上、遊離ラジカル重
合を受けることが可能なすべてのモノマーである。成分
(A)はアミン基を有するポリ(メタ)アクリレート樹
脂であるから、有機酸で中和後、樹脂は水希釈性となる
。このようなアミノ−およびヒドロキシル−含有共重合
体は溶液重合によって得るのが好ましい。
二級および/または三級アミノ基ならびに任意にオニウ
ム塩の基を含有する重合体樹脂である。これらの樹脂は
、たとえばDg−A−1546854、DE−A−20
57799、DE−A−2325177またはDE−A
−2357152に記載されているような従来技術に従
って製造できる。使用されるエチレン性不飽和モノマー
は、AlfrθyおよびPr1ceによるQおよびe配
置図または共重合パラメーターによって規定される共重
合の通常の制限(BrandrupおよびImmerg
ut 、ポリマー便覧、第2版、John Wiley
& 5ons、 New York 、 1975年
刊参照〕参照用されるほかは、実際上、遊離ラジカル重
合を受けることが可能なすべてのモノマーである。成分
(A)はアミン基を有するポリ(メタ)アクリレート樹
脂であるから、有機酸で中和後、樹脂は水希釈性となる
。このようなアミノ−およびヒドロキシル−含有共重合
体は溶液重合によって得るのが好ましい。
この、咬分囚の製造には、塩基性V素原子を含有するか
、または化学反応によってこのような塩基性窒素原子を
導入できる異なる不飽和モノマーの混合物を使用するこ
とが可能である。すなわち、成分(A)はたとえば、 a)アミン基を含有するモノマー 6〜40重量部、 b)ヒドロキシル基を含有スるモノマー4〜50重置部 (これらのモノマーはそれぞれ遊離ラジカル重合が可能
である)および C)遊離ラジカル重合を受けることが可能で、不飽和二
重結合のほかにはさらに反応性の基を含まない別のモノ
マー10〜90重渣部、に基づくものであシ、この成分
C)の10重量%までは遊離ラジカル重合を受けること
が可能なポリ不飽和モノマーによって置換されてもよい
。
、または化学反応によってこのような塩基性窒素原子を
導入できる異なる不飽和モノマーの混合物を使用するこ
とが可能である。すなわち、成分(A)はたとえば、 a)アミン基を含有するモノマー 6〜40重量部、 b)ヒドロキシル基を含有スるモノマー4〜50重置部 (これらのモノマーはそれぞれ遊離ラジカル重合が可能
である)および C)遊離ラジカル重合を受けることが可能で、不飽和二
重結合のほかにはさらに反応性の基を含まない別のモノ
マー10〜90重渣部、に基づくものであシ、この成分
C)の10重量%までは遊離ラジカル重合を受けること
が可能なポリ不飽和モノマーによって置換されてもよい
。
それぞれ遊離ラジカル重合を受けることができるアミノ
基含有モノマーおよびヒドロキシル基含有モノマーは、
混合物の形で使用する必要はない。同時にアミン基およ
びヒドロキシル基の両者を含有する七ツマ一種を使用す
ることも可能である。8〜60重量部のアミノ基および
ヒドロキシル基含有モノマーと10〜9 Offi f
fi 部の遊離ラジカル重合可能で他の反応性基を含ま
ないモノマーとを用いる場合は、所望により後者の10
重一部までを遊離ラジカル重合を受けることかiiJ能
なポリ不飽和モノマーとすることもできる。
基含有モノマーおよびヒドロキシル基含有モノマーは、
混合物の形で使用する必要はない。同時にアミン基およ
びヒドロキシル基の両者を含有する七ツマ一種を使用す
ることも可能である。8〜60重量部のアミノ基および
ヒドロキシル基含有モノマーと10〜9 Offi f
fi 部の遊離ラジカル重合可能で他の反応性基を含ま
ないモノマーとを用いる場合は、所望により後者の10
重一部までを遊離ラジカル重合を受けることかiiJ能
なポリ不飽和モノマーとすることもできる。
たとえば、以下の一般式
%式%()
(式中、Rは−R”iたは−X−CnH2n+1であり
、R’は−Hまたは−CnH2n+1であシ、R′は−
R′、−CnH2noHおよび/または−CnH211
NR2であシ、Xは−COO−1−CONH−−CH2
0−または−〇−であシ、人は一〇nH2n−または−
CnH2n−CH−CH2−であシ、nはH 1〜8、好ましくは1〜3である)で示されるモノマー
が、遊離ラジカル重合に付すことが可能で、アミノ基ま
たはN基を含有する七ツマ−として使用される。
、R’は−Hまたは−CnH2n+1であシ、R′は−
R′、−CnH2noHおよび/または−CnH211
NR2であシ、Xは−COO−1−CONH−−CH2
0−または−〇−であシ、人は一〇nH2n−または−
CnH2n−CH−CH2−であシ、nはH 1〜8、好ましくは1〜3である)で示されるモノマー
が、遊離ラジカル重合に付すことが可能で、アミノ基ま
たはN基を含有する七ツマ−として使用される。
N基を含有する不飽和モノマーの例には、(メタ)アク
リル酔N−ジアルキル−もしくはN−モノアルキルアミ
ノアルキルエステルたとえばメタクリル酸N−ジエチル
アミンエチルエステルもしくはアクリル酸N −tar
t−ブチルアミノエチルエステルまたは相当するN−ア
ルカノール化合物、N−ジアルキル−もしくはN−モノ
アルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミドたとえ
ばN−ジメナルアミノエチルアクリルアミド、または相
当するアルカノール化合物、および/または1個もしく
は2個以上の塩基性窒素原子を有する、ビニル含有腹累
壊化合物、たとえばN−ビニルイミダゾールがある。
リル酔N−ジアルキル−もしくはN−モノアルキルアミ
ノアルキルエステルたとえばメタクリル酸N−ジエチル
アミンエチルエステルもしくはアクリル酸N −tar
t−ブチルアミノエチルエステルまたは相当するN−ア
ルカノール化合物、N−ジアルキル−もしくはN−モノ
アルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミドたとえ
ばN−ジメナルアミノエチルアクリルアミド、または相
当するアルカノール化合物、および/または1個もしく
は2個以上の塩基性窒素原子を有する、ビニル含有腹累
壊化合物、たとえばN−ビニルイミダゾールがある。
遊離ラジカル重合に付すことができ、ヒドロキシル基を
含有するモノマーは、重合可能な不飽和基に加えて、C
2〜C20の直鎖状、分岐状または環状炭素骨格に少な
くとも1個のヒドロキシル基も含有する七ツマ−と理解
される。
含有するモノマーは、重合可能な不飽和基に加えて、C
2〜C20の直鎖状、分岐状または環状炭素骨格に少な
くとも1個のヒドロキシル基も含有する七ツマ−と理解
される。
これらの化合物は主として、一般式
%式%
(式中、R,R’およびXは上に定義したとおシで、B
は1〜3個のOH基を有する直鎖状または分岐状のC?
−6アルキル基である)で示される不飽和エステル化生
成物である。
は1〜3個のOH基を有する直鎖状または分岐状のC?
−6アルキル基である)で示される不飽和エステル化生
成物である。
(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、たと
えばアクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル、メタア
クリル酸2−ヒドロキシプロピルエステル、ブタン−1
,4−ジオールモノアクリレート、メタアクリル酸2,
3−ジヒドロキシプロピルエステル、ペンタエリスリト
ールモノメタアクリレートもしくはポリプロピレングリ
コールモノアクリレート、またそのほかフマール酸ジヒ
ドロキシアルキルエステルカトくに適当である。しかし
ながら、N−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミ
ドまたはヒドロキシアルキルフマール酸モノもしくはジ
アミド、たとえばN−とドロキシエチルアクリルアミド
またはN−(2−ヒドロキシプロピル)メタアクリルア
ミドの使用も可能である。(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シアルキルエステルとt−カプロラクタムの反応生成物
を用いると、とくに弾性を得ることができる。ヒドロキ
シル基を含有する他の化合物には、アリルアルコール、
ポリアルコールとくにジオールのモノビニルエーテルた
とえばエチレングリコールもしくはブタンジオールのモ
ノビニルエーテル、およびヒドロキシル基含有アリルエ
ーテルもしくはエステルたとえば2,3−ジヒドロキシ
プロピルモノアリルエーテル、トリメチルロールプロパ
ンモノアリルエーテルもしくは2,3−ジヒドロキシプ
ロピオン酸アリルエステルがある。ヒドロキシエタノー
ル、ヒドロキシプロパツールおよび/またはブタン−1
,4−ジオールのモノ(メタ)アクリレートはとくに適
当である。
えばアクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル、メタア
クリル酸2−ヒドロキシプロピルエステル、ブタン−1
,4−ジオールモノアクリレート、メタアクリル酸2,
3−ジヒドロキシプロピルエステル、ペンタエリスリト
ールモノメタアクリレートもしくはポリプロピレングリ
コールモノアクリレート、またそのほかフマール酸ジヒ
ドロキシアルキルエステルカトくに適当である。しかし
ながら、N−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミ
ドまたはヒドロキシアルキルフマール酸モノもしくはジ
アミド、たとえばN−とドロキシエチルアクリルアミド
またはN−(2−ヒドロキシプロピル)メタアクリルア
ミドの使用も可能である。(メタ)アクリル酸ヒドロキ
シアルキルエステルとt−カプロラクタムの反応生成物
を用いると、とくに弾性を得ることができる。ヒドロキ
シル基を含有する他の化合物には、アリルアルコール、
ポリアルコールとくにジオールのモノビニルエーテルた
とえばエチレングリコールもしくはブタンジオールのモ
ノビニルエーテル、およびヒドロキシル基含有アリルエ
ーテルもしくはエステルたとえば2,3−ジヒドロキシ
プロピルモノアリルエーテル、トリメチルロールプロパ
ンモノアリルエーテルもしくは2,3−ジヒドロキシプ
ロピオン酸アリルエステルがある。ヒドロキシエタノー
ル、ヒドロキシプロパツールおよび/またはブタン−1
,4−ジオールのモノ(メタ)アクリレートはとくに適
当である。
遊離ラジカル重合に付すことができ、ほかに反応性の基
を含まないモノマーの選択は、皮膜の機械的性質および
使用する樹脂の組合せの適合性に基づいて行われる。ア
クリル酸アルキルエステル、メタアクリル酸アルキルエ
ステル、マレイン酸ジアルキルエステルおよび/または
7マール酸ジアルキルエステルが使用され、この場合の
アルキル基は1〜20個の炭素原子を有し、直鎖状もし
くは分岐状脂肪族鎖としておよび/または脂環式および
/または(アルキル)芳香族基として配置される。ポリ
マーとして高いガラス転移温度を有する「硬質」モノマ
ーは、たとえば、スチレン、α−置換スチレンたとえば
α−メチルスチレン、0− m−およびp−アルキルス
チレンたとえばビニルトルエンもしく ハp −ter
t−ブチルスチレン、ハロゲン化ビニルベンゼンたとえ
ば0−もしくはp−クロロスチレンのようなビニル芳香
換型モノマー;短鎖を有するメタアクリル酸エステルた
とえばメタアクリル酸メチルエステル、メタアクリル酸
エチルエステル、メタアクリル酸フロビルエステル、メ
タアクリル酸ブチルエステル、メタアクリル絵シクロヘ
キシルエステル、メタアクリル酸インボルニルエステル
、メタアクリル酸ジヒドロジシクロペンタジェニルエス
テル、(メタ)アクリルアミドおよび/またはその他(
メタ)アクリロニトリルがある。一方、「軟質」七ツマ
−には、長いアルコール鎖を有するアクリル酸エステル
たとえばアクリル9n−ブチルエステル、アクリル酸イ
ソブチルエステル、アクIJ # 酸tert−ブチル
エステル、アクリル酸2−エチルヘキシルエステルおよ
び/またはアクリル酸ラウリルエステルがある。不飽和
エーテルたとえばメタアクリル酸エトキシエチルエステ
ルまたはアクリル酸テトラヒドロフルフリルエステルも
使用可能である。ビニルエステル型の七ツマー好ましく
はα−分岐モノカルボン酸のビニルエステル、とくにベ
ルサチン藪ビニルエステルも、適当な反応条件と反応コ
モノマーが選択されれば、重合単位として導入すること
ができる。エチレン性多不飽和モノマーとは、一般式 %式%) (式中、mは1〜6好ましくは1であシ、上述の意味に
加えてDは反応性二重結合の一般的基礎支持化学骨格で
ある)で示され、0離ラジカル重合を受けることができ
る少なくとも2個の二重結合を有する化合物を意味する
ものと理解される。Dの例としては、o−m−またはp
−フェニルラジカル、および、式−X−アルキル−x’
(式中、アルキルは好ましくは2〜18個の炭素原子を
有し、XおよびX′は同権もしくは異種の結合基で、た
とえば−〇−−CONH−COO−−NHCOO−また
は−NH−CO−NHで示される)がある。
を含まないモノマーの選択は、皮膜の機械的性質および
使用する樹脂の組合せの適合性に基づいて行われる。ア
クリル酸アルキルエステル、メタアクリル酸アルキルエ
ステル、マレイン酸ジアルキルエステルおよび/または
7マール酸ジアルキルエステルが使用され、この場合の
アルキル基は1〜20個の炭素原子を有し、直鎖状もし
くは分岐状脂肪族鎖としておよび/または脂環式および
/または(アルキル)芳香族基として配置される。ポリ
マーとして高いガラス転移温度を有する「硬質」モノマ
ーは、たとえば、スチレン、α−置換スチレンたとえば
α−メチルスチレン、0− m−およびp−アルキルス
チレンたとえばビニルトルエンもしく ハp −ter
t−ブチルスチレン、ハロゲン化ビニルベンゼンたとえ
ば0−もしくはp−クロロスチレンのようなビニル芳香
換型モノマー;短鎖を有するメタアクリル酸エステルた
とえばメタアクリル酸メチルエステル、メタアクリル酸
エチルエステル、メタアクリル酸フロビルエステル、メ
タアクリル酸ブチルエステル、メタアクリル絵シクロヘ
キシルエステル、メタアクリル酸インボルニルエステル
、メタアクリル酸ジヒドロジシクロペンタジェニルエス
テル、(メタ)アクリルアミドおよび/またはその他(
メタ)アクリロニトリルがある。一方、「軟質」七ツマ
−には、長いアルコール鎖を有するアクリル酸エステル
たとえばアクリル9n−ブチルエステル、アクリル酸イ
ソブチルエステル、アクIJ # 酸tert−ブチル
エステル、アクリル酸2−エチルヘキシルエステルおよ
び/またはアクリル酸ラウリルエステルがある。不飽和
エーテルたとえばメタアクリル酸エトキシエチルエステ
ルまたはアクリル酸テトラヒドロフルフリルエステルも
使用可能である。ビニルエステル型の七ツマー好ましく
はα−分岐モノカルボン酸のビニルエステル、とくにベ
ルサチン藪ビニルエステルも、適当な反応条件と反応コ
モノマーが選択されれば、重合単位として導入すること
ができる。エチレン性多不飽和モノマーとは、一般式 %式%) (式中、mは1〜6好ましくは1であシ、上述の意味に
加えてDは反応性二重結合の一般的基礎支持化学骨格で
ある)で示され、0離ラジカル重合を受けることができ
る少なくとも2個の二重結合を有する化合物を意味する
ものと理解される。Dの例としては、o−m−またはp
−フェニルラジカル、および、式−X−アルキル−x’
(式中、アルキルは好ましくは2〜18個の炭素原子を
有し、XおよびX′は同権もしくは異種の結合基で、た
とえば−〇−−CONH−COO−−NHCOO−また
は−NH−CO−NHで示される)がある。
Dはたとえばジビニルベンゼンの場合のようにベンゼン
環であってもよく、それはp−メチルジビニルベンゼン
または0−ノニルジビニルベンゼンのように任意に置換
されていてもよい。
環であってもよく、それはp−メチルジビニルベンゼン
または0−ノニルジビニルベンゼンのように任意に置換
されていてもよい。
適当な多不飽和モノマーの他の例は、すでに定義したよ
うな多価アルコールとくにジアルコールとα、β−不飽
和カルボン酸の反応生成物がある。これらの例としては
、エタンジオールジアクリレート、グリコールジメタア
クリレート、1.4−ブタンジオールジアクリレート、
1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオRンチ
ルグリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコ
ールジメタアクリレート、ポリグリコール400ジアク
リレート、グリセロールジメタアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレートおよび/またはペンタ
エリスリトールジアクリレートがある。
うな多価アルコールとくにジアルコールとα、β−不飽
和カルボン酸の反応生成物がある。これらの例としては
、エタンジオールジアクリレート、グリコールジメタア
クリレート、1.4−ブタンジオールジアクリレート、
1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオRンチ
ルグリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコ
ールジメタアクリレート、ポリグリコール400ジアク
リレート、グリセロールジメタアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレートおよび/またはペンタ
エリスリトールジアクリレートがある。
二官能性不飽和モノマーたとえばブタンジオールジアク
リレートまたはヘキサンジオールジアクリレートの使用
が好ましい。メタアクリル酸グリシジルエステルとメタ
アクリル酸を使用する場合、相当する化合物グリセロー
ルジメタアクリレートが重合中に自動的に生成する。多
不飽和上ツマ−の種類および鼠は、ゲル化することなく
所望の粘度を得るため、注意深く反応条件(触媒、反応
温度、溶媒)と適合させる必要がある。
リレートまたはヘキサンジオールジアクリレートの使用
が好ましい。メタアクリル酸グリシジルエステルとメタ
アクリル酸を使用する場合、相当する化合物グリセロー
ルジメタアクリレートが重合中に自動的に生成する。多
不飽和上ツマ−の種類および鼠は、ゲル化することなく
所望の粘度を得るため、注意深く反応条件(触媒、反応
温度、溶媒)と適合させる必要がある。
共重合は、遊離ラジカル開始剤と所望::より分子量調
節剤を添加し、50〜160℃の温度(=おいて、既知
の様式の溶液重合で行われる。これは七ツマ−とポリマ
ーがとも(=溶解する液体中で行われる。重合後のモノ
マーまたはポリマーの含量は約50〜90重量%である
。水で希釈できる有機溶媒中での溶液重合が好ましい。
節剤を添加し、50〜160℃の温度(=おいて、既知
の様式の溶液重合で行われる。これは七ツマ−とポリマ
ーがとも(=溶解する液体中で行われる。重合後のモノ
マーまたはポリマーの含量は約50〜90重量%である
。水で希釈できる有機溶媒中での溶液重合が好ましい。
このような溶媒(二はたとえばエチレングリコール、エ
トキシエタノール、ブトキシェタノール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール。
トキシエタノール、ブトキシェタノール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール。
ジエチレングリコールジメチルエーテル、フロピレンゲ
リコール、メトキシプロパツール、エトキシプロパノー
ル、シフロピレンクリコールモノメチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアル
コール、エタノール、イソプロパツール、5eC−ブタ
ノール、 tert−ブタノール、アセトン、メトキ
シプロパン、ジオキチン、テトラヒドロフラン、N−メ
チルピロリジンまたはこれらの混合物がある。一般(二
、溶媒または溶媒混合物を反応温度に加熱し、ついで七
ツマー混合物を数時間にわたって添加する。還流温度で
操作を行うことができるためには、開始剤を溶媒混合物
の沸点に適合させる。開始剤は通常、30分〜10時間
の半減期で分解する。開始剤は、室温で七ツマー混合物
に溶解させるか、または安全のため(−。
リコール、メトキシプロパツール、エトキシプロパノー
ル、シフロピレンクリコールモノメチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアル
コール、エタノール、イソプロパツール、5eC−ブタ
ノール、 tert−ブタノール、アセトン、メトキ
シプロパン、ジオキチン、テトラヒドロフラン、N−メ
チルピロリジンまたはこれらの混合物がある。一般(二
、溶媒または溶媒混合物を反応温度に加熱し、ついで七
ツマー混合物を数時間にわたって添加する。還流温度で
操作を行うことができるためには、開始剤を溶媒混合物
の沸点に適合させる。開始剤は通常、30分〜10時間
の半減期で分解する。開始剤は、室温で七ツマー混合物
に溶解させるか、または安全のため(−。
モノマー供給時(二別に計量、添加する。使用した七ツ
マ−の量に対して0.1〜5重量%、好ましくは0.5
〜6重量%の過酸化物および/またはアゾ化合物が、有
機溶媒:二可溶の開始剤として添加される。使用される
過酸化物の例には、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ
ーtart−ブヂルパーオキサイド、ハイドロパーオキ
サイドたとえばtert−ブチルハイドロパーオキサイ
ドまたはクメンハイドロパーオキサイド、およびパーエ
ステルたとえば過オクト酸tert−ブチルエステルま
たは過安息香酸tert−ブチルエステルがある。熱分
解を受けるアゾ化合物には、たとえば、 2.2’−ア
ゾビス−(2−シアノプロパン)または1.1′−アゾ
ビスシクロヘキサンカルボニトリルがある。遊離ラジカ
ルを生成するジベンジル型の化合物、たとえば1,2−
ビス−(4−メチルフェニル)−1,2−−、;カルヘ
トキシ−1,2−ジシアノエタンも開始剤として使用で
きる。調節剤の使用二より、公知の方法で分子量を減少
させることができる。メルカプタン、ハロゲン含有化合
物、および遊離ラジカルを転位させる他の物質がこの目
的での使用には好ましい。n−またはtert−ドデシ
ルメルカプタン、テトラキスメルカプトアセチルはンタ
エリスリトール、tert−ブチル−0−チオクレゾー
ル、チオサリチル酸、ブテン−1−オール、α−メチル
スチレンニ量体がとくに好ましい。
マ−の量に対して0.1〜5重量%、好ましくは0.5
〜6重量%の過酸化物および/またはアゾ化合物が、有
機溶媒:二可溶の開始剤として添加される。使用される
過酸化物の例には、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ
ーtart−ブヂルパーオキサイド、ハイドロパーオキ
サイドたとえばtert−ブチルハイドロパーオキサイ
ドまたはクメンハイドロパーオキサイド、およびパーエ
ステルたとえば過オクト酸tert−ブチルエステルま
たは過安息香酸tert−ブチルエステルがある。熱分
解を受けるアゾ化合物には、たとえば、 2.2’−ア
ゾビス−(2−シアノプロパン)または1.1′−アゾ
ビスシクロヘキサンカルボニトリルがある。遊離ラジカ
ルを生成するジベンジル型の化合物、たとえば1,2−
ビス−(4−メチルフェニル)−1,2−−、;カルヘ
トキシ−1,2−ジシアノエタンも開始剤として使用で
きる。調節剤の使用二より、公知の方法で分子量を減少
させることができる。メルカプタン、ハロゲン含有化合
物、および遊離ラジカルを転位させる他の物質がこの目
的での使用には好ましい。n−またはtert−ドデシ
ルメルカプタン、テトラキスメルカプトアセチルはンタ
エリスリトール、tert−ブチル−0−チオクレゾー
ル、チオサリチル酸、ブテン−1−オール、α−メチル
スチレンニ量体がとくに好ましい。
アミノ−(メタ)アクリレート樹脂はポリマー変換反応
(=よっても製造できる。すなわち、たとえばアクリル
アミド基を含有するコポリマーはホルムアルデヒドおよ
び二級アミンおよび/またはアミノアルコールと反応さ
せることができる。とく(=好ましい方法はDE−A−
3436546に記載されている。この場合、エポキシ
基を含有するモノエチレン性不飽和七ツマ−を最初、コ
ポリマー中(二共重合単位として導入する。次(二過剰
のアンモニア、−級および/または二級モノアミンおよ
び/またはモノアミノアルコールとの反応を行い、つい
で過剰のアミンを留去する。類似の反応は、たとえば、
二級アミノ基と1個または2個以上の一級アミノ基を含
有するポリアミンのケチミンたとえばメチルイソブチル
ケトンとメチルアミノプロピルアミンのモノケチミンま
たはメチルイソブチルケトンとジエチレントリアミンの
ジケチミンと、当量を用いて行うことが好ましい。
(=よっても製造できる。すなわち、たとえばアクリル
アミド基を含有するコポリマーはホルムアルデヒドおよ
び二級アミンおよび/またはアミノアルコールと反応さ
せることができる。とく(=好ましい方法はDE−A−
3436546に記載されている。この場合、エポキシ
基を含有するモノエチレン性不飽和七ツマ−を最初、コ
ポリマー中(二共重合単位として導入する。次(二過剰
のアンモニア、−級および/または二級モノアミンおよ
び/またはモノアミノアルコールとの反応を行い、つい
で過剰のアミンを留去する。類似の反応は、たとえば、
二級アミノ基と1個または2個以上の一級アミノ基を含
有するポリアミンのケチミンたとえばメチルイソブチル
ケトンとメチルアミノプロピルアミンのモノケチミンま
たはメチルイソブチルケトンとジエチレントリアミンの
ジケチミンと、当量を用いて行うことが好ましい。
オニウム塩の基を含む樹脂には、たとえば四級アンモニ
ウム塩の基、四級ホスホニウム塩の基および/または三
元スルホニウム塩の基を含有する樹脂がある。これらの
樹脂はたとえば、エポキシ樹脂を三級アミン塩、スルフ
ィド/酸混合物またはホスフィン/酸混合物と反応させ
ること(:よって製造できる。反応温度にはとくに制限
はないが、出発原料およびその反応速度の函数として選
択される。多くの場合、反応は、室温または70℃まで
の加熱温度で十分急速に起こる。場合によっては約11
0℃までの高温の使用が推められる。溶媒は一般的(ユ
は必要ではないが反応のよりよい制御のため(=シばし
ば使用される。適当な溶媒の例としては、芳香族炭化水
素、エチレングリコールまたはプロピレングリコールの
モノアルキルエーテルおよび脂肪族アルコールがある。
ウム塩の基、四級ホスホニウム塩の基および/または三
元スルホニウム塩の基を含有する樹脂がある。これらの
樹脂はたとえば、エポキシ樹脂を三級アミン塩、スルフ
ィド/酸混合物またはホスフィン/酸混合物と反応させ
ること(:よって製造できる。反応温度にはとくに制限
はないが、出発原料およびその反応速度の函数として選
択される。多くの場合、反応は、室温または70℃まで
の加熱温度で十分急速に起こる。場合によっては約11
0℃までの高温の使用が推められる。溶媒は一般的(ユ
は必要ではないが反応のよりよい制御のため(=シばし
ば使用される。適当な溶媒の例としては、芳香族炭化水
素、エチレングリコールまたはプロピレングリコールの
モノアルキルエーテルおよび脂肪族アルコールがある。
使用される酸は一般に相当する四級アンモニウム塩、ス
ルホニウム塩またはホスホニウム塩を形成する酸である
。解離定数が約10−5以上の有機酸が好ましい。四級
アンモニウム塩の製造(二適当な置換または非置換アミ
ンは、アミン塩とポリエポキシドとの反応を妨害せず、
ゲル化を生じないアミンである。好ましいアミンは三級
トリアルキルアミンたとえばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリイソプコピルアミン、メチルジブチル
アミン、ジエチルブチルアミンまたは他(ニジメチルア
ミノエタノールもしくはN−メチルジイソプロパツール
アミンがある。
ルホニウム塩またはホスホニウム塩を形成する酸である
。解離定数が約10−5以上の有機酸が好ましい。四級
アンモニウム塩の製造(二適当な置換または非置換アミ
ンは、アミン塩とポリエポキシドとの反応を妨害せず、
ゲル化を生じないアミンである。好ましいアミンは三級
トリアルキルアミンたとえばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリイソプコピルアミン、メチルジブチル
アミン、ジエチルブチルアミンまたは他(ニジメチルア
ミノエタノールもしくはN−メチルジイソプロパツール
アミンがある。
三級スルホニウム塩基を含む樹脂の製造には。
エポキシ基と反応し、反応を妨害する基を含まない任意
のスルフィドの使用が可能である。スルフィドは脂肪族
、混合脂肪族−芳香族、アラールキルまたは環状のいず
れでもよい。このようなスルフィドの例としては、ジア
ルキルスルフィドたとえばジエチルスルフィド、ジプロ
ピルスルフィド、ジブチルスルフィドもしくはジアキル
スルフィド、マたはアルキルフェニルスルフィドたとえ
ばジフェニルスルフィドもしくはエチルフェニルスルフ
ィド、脂環式スルフィドたとえばテトラメチレンスルフ
ィドもしくははンタメチレンスルフイド、ヒドロキシア
ルキルスルフィドたとえばジェタノール、ジブロバノー
ルもしくはジブタノールチオエーテルがある。ポリエポ
キシドをメルカプタンと反応させ、ついで酸の存在下1
.2−エポキシドの反応により三元スルホニウム塩を生
成させることもできる。
のスルフィドの使用が可能である。スルフィドは脂肪族
、混合脂肪族−芳香族、アラールキルまたは環状のいず
れでもよい。このようなスルフィドの例としては、ジア
ルキルスルフィドたとえばジエチルスルフィド、ジプロ
ピルスルフィド、ジブチルスルフィドもしくはジアキル
スルフィド、マたはアルキルフェニルスルフィドたとえ
ばジフェニルスルフィドもしくはエチルフェニルスルフ
ィド、脂環式スルフィドたとえばテトラメチレンスルフ
ィドもしくははンタメチレンスルフイド、ヒドロキシア
ルキルスルフィドたとえばジェタノール、ジブロバノー
ルもしくはジブタノールチオエーテルがある。ポリエポ
キシドをメルカプタンと反応させ、ついで酸の存在下1
.2−エポキシドの反応により三元スルホニウム塩を生
成させることもできる。
四級ホスホニウム塩の基を有する樹脂は、妨害する基を
含まない任意ホスフィンを用いて製造できる。このよう
なホスフィンの例には脂肪族、芳香族または脂環式ホス
フィンがある。特定の例としては以下のホスフィン、低
級トリアルキルホスフィンたとえばトリメチルホスフィ
ン、メチルジエチルホスフィン、トリエチ・ルホスフイ
ン、トリプロピルホスフィンもしくはトリブチルホスフ
ィン、混合低級アルキルフェニルホスフィンたとえばフ
エニルジメチルホスフィン、フエニルジエチルホスフィ
ン、フエニルジプロピルホスフィン、ジフェニルメチル
ホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニル
プロピルホスフィンもしくはトリフェニルホスフィン、
および脂環式ホスフィンたとえばテトラメチレンメチル
ホスフィンがある。
含まない任意ホスフィンを用いて製造できる。このよう
なホスフィンの例には脂肪族、芳香族または脂環式ホス
フィンがある。特定の例としては以下のホスフィン、低
級トリアルキルホスフィンたとえばトリメチルホスフィ
ン、メチルジエチルホスフィン、トリエチ・ルホスフイ
ン、トリプロピルホスフィンもしくはトリブチルホスフ
ィン、混合低級アルキルフェニルホスフィンたとえばフ
エニルジメチルホスフィン、フエニルジエチルホスフィ
ン、フエニルジプロピルホスフィン、ジフェニルメチル
ホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、ジフェニル
プロピルホスフィンもしくはトリフェニルホスフィン、
および脂環式ホスフィンたとえばテトラメチレンメチル
ホスフィンがある。
三級アミン、スルフィドまたはホスフィンと酸の比(:
はとくに制限はない。オニウム塩への変換を所望の各1
モルに対して少なくとも1当量の酸を用いるのが好まし
い。アミン酸塩、スルホニウム塩またはホスホニウム塩
とエポキシ化合物の比は任意(;変動できる。至適量は
特定の出発原料の如何(−よる。一般に、ポリエポキシ
ド約100部(二ついて約1〜約50ii部の塩が使用
できる。場合(二よっては、窒素の100曝未溝が四級
アンモニウム塩の基の形にする。
はとくに制限はない。オニウム塩への変換を所望の各1
モルに対して少なくとも1当量の酸を用いるのが好まし
い。アミン酸塩、スルホニウム塩またはホスホニウム塩
とエポキシ化合物の比は任意(;変動できる。至適量は
特定の出発原料の如何(−よる。一般に、ポリエポキシ
ド約100部(二ついて約1〜約50ii部の塩が使用
できる。場合(二よっては、窒素の100曝未溝が四級
アンモニウム塩の基の形にする。
これはたとえば、四級アンモニウム塩の基を有する樹脂
の製造に一級および二級アミンを使用する場合である。
の製造に一級および二級アミンを使用する場合である。
オニウム塩の基を有するポリマー樹脂はたとえば遊離ラ
ジカル重合(−付すことができ、反応性不飽和二重結合
に加えて四級アンモニウム基。
ジカル重合(−付すことができ、反応性不飽和二重結合
に加えて四級アンモニウム基。
三級スルホニウム塩または四級ホスホニウム塩基を含有
する不飽和モノマー たとえば(メタ)アクリル酸グリ
シジルエステルとトリアルキルアミンの反応生成物を、
水または酸の存在下(二共重合すること;−よって製造
できる。
する不飽和モノマー たとえば(メタ)アクリル酸グリ
シジルエステルとトリアルキルアミンの反応生成物を、
水または酸の存在下(二共重合すること;−よって製造
できる。
組成の異なる2種の完全にブロックされたポリイソシア
ネートの選ばれた混合物が架橋剤として用いられる(成
分B)。
ネートの選ばれた混合物が架橋剤として用いられる(成
分B)。
成分B(ii)は、遊離のOH基を含まず、ウレタン基
および所望(二より尿素基を含有し、末端−NGO基が
ブロックされ、平均分子t750〜s、oooの修飾ジ
イソシアネートである。分子量の下限は好ましくはto
oo、と<(′″−好ましくは1.500であり、分子
量の上限は好ましくはべ000、とくに好ましくは4.
()00である。溶解性を改善するためには、成分B(
ii)に三級アミンを含有させ、アミン数を30〜15
0とする。アミン数の上限は好ましくは100、とくに
好ましくは60である。
および所望(二より尿素基を含有し、末端−NGO基が
ブロックされ、平均分子t750〜s、oooの修飾ジ
イソシアネートである。分子量の下限は好ましくはto
oo、と<(′″−好ましくは1.500であり、分子
量の上限は好ましくはべ000、とくに好ましくは4.
()00である。溶解性を改善するためには、成分B(
ii)に三級アミンを含有させ、アミン数を30〜15
0とする。アミン数の上限は好ましくは100、とくに
好ましくは60である。
成分B(ii)は、活性水素を含有する二官能性化合物
を、室温から100℃までの反応温度で、NGO基に不
活性な溶媒の存在下ジイソシアネートと、または110
〜180℃でブロックされたジイソシアネートと反応さ
せて製造される。使用されるH−反応性二官能性化合物
はジアルコール、ジアミン、アミノアルコールおよび/
またはポリエステルジオールである。
を、室温から100℃までの反応温度で、NGO基に不
活性な溶媒の存在下ジイソシアネートと、または110
〜180℃でブロックされたジイソシアネートと反応さ
せて製造される。使用されるH−反応性二官能性化合物
はジアルコール、ジアミン、アミノアルコールおよび/
またはポリエステルジオールである。
適当なジヒドロキシ化合物の例は、2〜20個の炭素原
子と2個の二級および/または一級ヒドロキシル基を有
する直鎖状、分岐状および環状炭化水素化合物の各種異
性体であるが、炭素領内(−または側鎖として三級アミ
ノ基を含有させることもできる。これらの化合物の典型
的な例としては、エチレングリコール、プロピレン1.
2− り9コール、フロピレン1.3−クリコール、ブ
タン1,4−ジオール、ネオにンテルグリコール、はン
タンー1.5−)オール、ヘキサン−116−ジオール
、ヘキシレングリコール、トリメチ2レヘギせノー1,
6−ジオール、デカン−1,10−ジオール、ビス−(
ヒドロキシメチレン)−ンフロヘキサン、ビスエトキシ
化もしくはビスプロポキシ化ビスフェノールAもしくは
相当する水素添加生成物、N−メチルジェタノールアミ
ン、N−エチルジェタノールアミン、N−メチルジイソ
プロパツールアミン、N−メチルエタノールアミンまた
は2−ジメチルアミノ−2−メチルプロパン−1,3−
ジオールがある。
子と2個の二級および/または一級ヒドロキシル基を有
する直鎖状、分岐状および環状炭化水素化合物の各種異
性体であるが、炭素領内(−または側鎖として三級アミ
ノ基を含有させることもできる。これらの化合物の典型
的な例としては、エチレングリコール、プロピレン1.
2− り9コール、フロピレン1.3−クリコール、ブ
タン1,4−ジオール、ネオにンテルグリコール、はン
タンー1.5−)オール、ヘキサン−116−ジオール
、ヘキシレングリコール、トリメチ2レヘギせノー1,
6−ジオール、デカン−1,10−ジオール、ビス−(
ヒドロキシメチレン)−ンフロヘキサン、ビスエトキシ
化もしくはビスプロポキシ化ビスフェノールAもしくは
相当する水素添加生成物、N−メチルジェタノールアミ
ン、N−エチルジェタノールアミン、N−メチルジイソ
プロパツールアミン、N−メチルエタノールアミンまた
は2−ジメチルアミノ−2−メチルプロパン−1,3−
ジオールがある。
比較的高分子量のジヒドロキシ化合物には、たとえば、
ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、
ポリカプロラクタムジオールまたはポリエーテルジオー
ルがある。ポリエステルジオールは、たとえば、上述の
ジオールを脂肪族、脂環式または芳香族ジカルボン酸、
たとえばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スペリン酸、アゼライン酸、セパチン酸またはテト
ラデカン−1,4−ジカルボン酸およびシクロヘキサン
ジカルボン酸の各異性体、またはフタル酸がある。隣接
基が以後のエステル化に影響する結果として、急速な加
水分解を受けないジカルボン酸が好ましい。ジアルコー
ルの代わりに、またはこれらの一部分の代わりに、長鎖
の一級および二級アミンたとえば1.6−へキチンジア
ミン、2モルのグリシジルエーテルもしくはグリシジル
エステルとヘキサンジアミンのアダクト、ビスーN、y
−シアノエチルエチレンジアミンまたはビスーN、y−
シアノエチルポリオキシプロピレンジアミンを使用する
ことも可能である。脂肪族ポリエステルジオールたとえ
ばネオはンテルグリコールヒドロキシヒバレート、およ
びたとえばアジピン酸とブタン−1,4−ジオール、セ
パチン酸とネオはンチルグリコール、アゼライン酸とへ
キナンー1.6−ジオールを所望によるある割合のN−
メチルジェタノールアミンを添加して反応させて得られ
た生成物がとくに好ましい。とくに好ましい脂肪族、H
9エステルポリオールは直鎖状で分岐をもたず、ジヒド
ロキシ化合物(n+1)モルとジカルボン酸nモルのモ
ル比で、不活性溶媒たとえばキシレンの存在下に反応さ
せた、平均分子量数250〜3,000、下限好ましく
は400゜とく(−好ましくは600のものである。上
限は好ましくは2,000、と<(:好ましくは1.5
00である。分子量が小さすぎると得られる皮膜の水抵
抗性が劣り、他方、分子量が大きすぎると他の層への付
着性が低下する。
ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、
ポリカプロラクタムジオールまたはポリエーテルジオー
ルがある。ポリエステルジオールは、たとえば、上述の
ジオールを脂肪族、脂環式または芳香族ジカルボン酸、
たとえばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スペリン酸、アゼライン酸、セパチン酸またはテト
ラデカン−1,4−ジカルボン酸およびシクロヘキサン
ジカルボン酸の各異性体、またはフタル酸がある。隣接
基が以後のエステル化に影響する結果として、急速な加
水分解を受けないジカルボン酸が好ましい。ジアルコー
ルの代わりに、またはこれらの一部分の代わりに、長鎖
の一級および二級アミンたとえば1.6−へキチンジア
ミン、2モルのグリシジルエーテルもしくはグリシジル
エステルとヘキサンジアミンのアダクト、ビスーN、y
−シアノエチルエチレンジアミンまたはビスーN、y−
シアノエチルポリオキシプロピレンジアミンを使用する
ことも可能である。脂肪族ポリエステルジオールたとえ
ばネオはンテルグリコールヒドロキシヒバレート、およ
びたとえばアジピン酸とブタン−1,4−ジオール、セ
パチン酸とネオはンチルグリコール、アゼライン酸とへ
キナンー1.6−ジオールを所望によるある割合のN−
メチルジェタノールアミンを添加して反応させて得られ
た生成物がとくに好ましい。とくに好ましい脂肪族、H
9エステルポリオールは直鎖状で分岐をもたず、ジヒド
ロキシ化合物(n+1)モルとジカルボン酸nモルのモ
ル比で、不活性溶媒たとえばキシレンの存在下に反応さ
せた、平均分子量数250〜3,000、下限好ましく
は400゜とく(−好ましくは600のものである。上
限は好ましくは2,000、と<(:好ましくは1.5
00である。分子量が小さすぎると得られる皮膜の水抵
抗性が劣り、他方、分子量が大きすぎると他の層への付
着性が低下する。
成分B(ii)の製造に適当なジイソシアネートは次の
一般式(ii<S)、 (ii7)および(ii8)l
二相当するものである。
一般式(ii<S)、 (ii7)および(ii8)l
二相当するものである。
(ii6) 0=C=N−R−N−C=0式中、Rは
、1個もしくは2個以上のアルキルで置換されているか
もしくはメチレン僑を有していてもよく、炭素原子針6
〜15個をもつ芳香族炭化水素基、炭素原子2〜18個
好ましくは6〜10個を有する分岐状もしくは直鎖状の
炭化水素基、6〜15個の炭素原子を有する環式炭化水
素基、または複素環である。
、1個もしくは2個以上のアルキルで置換されているか
もしくはメチレン僑を有していてもよく、炭素原子針6
〜15個をもつ芳香族炭化水素基、炭素原子2〜18個
好ましくは6〜10個を有する分岐状もしくは直鎖状の
炭化水素基、6〜15個の炭素原子を有する環式炭化水
素基、または複素環である。
M機ジイソシアネートのすべての異性体または異性体混
合物が使用できる。適当な芳香族ジイソシアネートは、
たとえば、フェニレンジイソシアネート、トルエンジイ
ソシアネート、キシレンジイソシアネート、ビフェニレ
ンジイソシアネートおよびナツタレンジ1°ソシアネー
トである。
合物が使用できる。適当な芳香族ジイソシアネートは、
たとえば、フェニレンジイソシアネート、トルエンジイ
ソシアネート、キシレンジイソシアネート、ビフェニレ
ンジイソシアネートおよびナツタレンジ1°ソシアネー
トである。
(式中、基Rは同一でも異種でもよく、水素、または炭
素原子1〜8個、好ましくは1〜2個とくに−CH3で
あり、nは1〜10好ましくは1〜3の整数である)で
示される脂肪族−芳香族ジイソシアネートの使用が好ま
しい。この型のジイソシアネートの典型例はジフェニル
メタン−2,4’−および/または−4,41−ジイソ
シアネート、6.2′−ジシアナトー4−メチルジフェ
ニルメタンおよびジフェニルプロパンジイソシアネート
である。
素原子1〜8個、好ましくは1〜2個とくに−CH3で
あり、nは1〜10好ましくは1〜3の整数である)で
示される脂肪族−芳香族ジイソシアネートの使用が好ま
しい。この型のジイソシアネートの典型例はジフェニル
メタン−2,4’−および/または−4,41−ジイソ
シアネート、6.2′−ジシアナトー4−メチルジフェ
ニルメタンおよびジフェニルプロパンジイソシアネート
である。
使用が好ましいジイソシアネートの他の群(;は、NG
O基が直接、直鎖状、分岐状または脂環式基に結合して
いるジイソシアネートがある。
O基が直接、直鎖状、分岐状または脂環式基に結合して
いるジイソシアネートがある。
このようなジイソシアネートは、式
%式%
(式中、γは2〜20.とく(二6〜Bの整数であり、
基Rは同種でも異種でもよく、水素または炭素原子1〜
8個、好ましくは1〜2侭を有するアルキル基である)
で示される。
基Rは同種でも異種でもよく、水素または炭素原子1〜
8個、好ましくは1〜2侭を有するアルキル基である)
で示される。
これらの化合物には、たとえば、プロピレンジイソシア
ネート、エチルエチレンジイソシアネート、ジメチルエ
チレンジイソシアオ・−ト、メチルトリメチレンジイソ
シアネート、トリメチルヘキサンジイソシアネート、シ
クロはンチレンジイソシアネートおよびインフオロンジ
イソシアネートがある。この式によって定義され。
ネート、エチルエチレンジイソシアネート、ジメチルエ
チレンジイソシアオ・−ト、メチルトリメチレンジイソ
シアネート、トリメチルヘキサンジイソシアネート、シ
クロはンチレンジイソシアネートおよびインフオロンジ
イソシアネートがある。この式によって定義され。
その−NCO基が−CH2−を介して直鎖状、分岐状ま
たは脂環式とく(″−非分岐直鎖状脂肪族基であるジイ
ソシアネートがとくに好ましい。これらの化合物の典型
的な例(ユはトリメチレン1,3−ジイソシアネート、
テトラメチレン1,4−ジイソシアネート、はフタメチ
レン1.5−ジイソシアネート、ヘキサメチレン1,6
−ジイソシアネート、ドデカン1.12−ジイソシアネ
ートおよびオクタデカン1.18−ジイソシアネートが
ある。
たは脂環式とく(″−非分岐直鎖状脂肪族基であるジイ
ソシアネートがとくに好ましい。これらの化合物の典型
的な例(ユはトリメチレン1,3−ジイソシアネート、
テトラメチレン1,4−ジイソシアネート、はフタメチ
レン1.5−ジイソシアネート、ヘキサメチレン1,6
−ジイソシアネート、ドデカン1.12−ジイソシアネ
ートおよびオクタデカン1.18−ジイソシアネートが
ある。
成分B (Ii)として使用されるポリイソシアネート
は、成分B(ii)とは、一般に、保護基(二よってブ
ロックされている、1分子あたり5個以上の反応性イソ
シアネートが架橋のために有利に与えられている点で異
なる。6価および多価、たとえば3価〜5価、とくに好
ましくは3価の、芳香族および/または脂肪族遮断ポリ
イソシアネートで、数平均分子i1 Mn 500〜1
.500のものがこの目的)二使用するのに好ましい。
は、成分B(ii)とは、一般に、保護基(二よってブ
ロックされている、1分子あたり5個以上の反応性イソ
シアネートが架橋のために有利に与えられている点で異
なる。6価および多価、たとえば3価〜5価、とくに好
ましくは3価の、芳香族および/または脂肪族遮断ポリ
イソシアネートで、数平均分子i1 Mn 500〜1
.500のものがこの目的)二使用するのに好ましい。
とくに適当なことが明らか;二されたポリイソシアネー
トは、既述のジイソシアネ−1から製造される、いわゆ
る「塗装用ポリイソシアネー)J(Coat−ingp
olyiSocyanates)である。これらの化合
物は、たとえば、オリゴマー化、ジイソシアネートと水
との反応またはジイソシアネートと官能性水素を有する
低分子量6価もしくは多価化合物たとえばポリアルコー
ル、ポリアミンおよびアミノアルコールとの反応によっ
て製造できる。
トは、既述のジイソシアネ−1から製造される、いわゆ
る「塗装用ポリイソシアネー)J(Coat−ingp
olyiSocyanates)である。これらの化合
物は、たとえば、オリゴマー化、ジイソシアネートと水
との反応またはジイソシアネートと官能性水素を有する
低分子量6価もしくは多価化合物たとえばポリアルコー
ル、ポリアミンおよびアミノアルコールとの反応によっ
て製造できる。
14足できることが明らかにされているトリイソシアイ
・−トはジイソシアネートのトリマー化またはジイソシ
アネートとOHもしくはNH基を含有する三官能性化合
物の反応によって形成される生成物である。すなわち、
トリス−(6−インジアナトヘキシル)−ビューレット
は、たとえばヘキサンジイソシアネートと水とから形成
される。ヘキサンジイソシアネートのトリマー化では、
たとえはトリス−(6−インジアナトヘキシル)インシ
アヌレートが、多分その高重合類縁体との混合物として
得られる。その他の例にはイソフオロンジイソシアネー
ト、ジイソシアナトルエンまたはジイソシアナトトルエ
ンの混合物およびヘキサメチレンジイソシアネートから
得られるイソシアヌレートがある。他のきわめて有用な
ポリイソシアネートには、ウレタン基を有し、たとえば
過剰量の2.4−ジイソシアナトトルエンを単純な、分
子量65〜300の多価アルコールたとえばトリメチロ
ールプロ・セン、トリメチロールエタンまたはグリセロ
ールと、必要であれば未変換の過剰ジイソシアネートを
蒸留によって除去しながら反応させること(二より得ら
れる。他の群の多官能性イソシアネート1二は、トリメ
チロールプロパンとの付加反応に付すことができるオキ
サジアジントリオンアルキルジイソシアネートがある。
・−トはジイソシアネートのトリマー化またはジイソシ
アネートとOHもしくはNH基を含有する三官能性化合
物の反応によって形成される生成物である。すなわち、
トリス−(6−インジアナトヘキシル)−ビューレット
は、たとえばヘキサンジイソシアネートと水とから形成
される。ヘキサンジイソシアネートのトリマー化では、
たとえはトリス−(6−インジアナトヘキシル)インシ
アヌレートが、多分その高重合類縁体との混合物として
得られる。その他の例にはイソフオロンジイソシアネー
ト、ジイソシアナトルエンまたはジイソシアナトトルエ
ンの混合物およびヘキサメチレンジイソシアネートから
得られるイソシアヌレートがある。他のきわめて有用な
ポリイソシアネートには、ウレタン基を有し、たとえば
過剰量の2.4−ジイソシアナトトルエンを単純な、分
子量65〜300の多価アルコールたとえばトリメチロ
ールプロ・セン、トリメチロールエタンまたはグリセロ
ールと、必要であれば未変換の過剰ジイソシアネートを
蒸留によって除去しながら反応させること(二より得ら
れる。他の群の多官能性イソシアネート1二は、トリメ
チロールプロパンとの付加反応に付すことができるオキ
サジアジントリオンアルキルジイソシアネートがある。
さらに高い官能性を有するポリイソシアネートも2モル
のトリイソシアネートを、活性水素を有する二官能性化
合物、たとえばジアルコール、ジアミンまたはアミノア
ルコールたとえばエタノールアミンまたはN−メチルジ
ェタノールアミンと反応させて製造することができる。
のトリイソシアネートを、活性水素を有する二官能性化
合物、たとえばジアルコール、ジアミンまたはアミノア
ルコールたとえばエタノールアミンまたはN−メチルジ
ェタノールアミンと反応させて製造することができる。
遊離イソシアネート基(成分B(i)およびB 11)
における)は、それらが室温では水または(−スレジン
の活性水素原子(ヒドロキシルまたはアミンの水素基)
と反応しないよう、−緒(二または個々:ニブロックさ
れている。適当なブロッキング剤は酸性水素およびただ
1個のアミン、アミド、イミド、ラクタム、チオまたは
ヒドロキシル基を含有する一官能性化合物である。−般
(−1活性水素を有し、低分子量の、好ましくは300
未満、さらに好ましくは200未満の揮発性化合物が用
いられる。これらの化合物はイソシアネート基と50℃
以上、好ましくは80〜120℃の温度で有利(=反応
する。ブロッキング剤はNC01当量あたり1当量のプ
ロツキング剤が存在するような量で使用され、必要に応
じて慣用の触媒たとえば塩基性触媒たとえば三級アミン
、または少量の錫塩たとえばuI(ii)オクトエート
またはジラウレートを同時に使用してもよい。適当なブ
ロッキング剤の例は、二級もしくは三級脂肪族または脂
環式アルコールたとえばインプロパツール、tert−
ブタノール、2−エチルヘキサノール、フルフロール、
シクロヘキサノールまたはヒドロキシアルキルエステル
、ジアルキルアミノアルコールたとえばジメチルアミノ
エタノール、オキシムたとえばホルムアルデヒドオキシ
ム、アセトアルデヒドオキシム、メチレンケトキシム、
シクロへキサノンオキシム、トリメチルシクロへキサノ
ンオキシム、2.2.6.6−チトラメチルピベリドー
4−オンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフ
ェノンオキシムもしくはりエチルグリオキシム、ラクタ
ムたとえば砿−カプロラクタム、γ−パレロラクタム、
γ−ブチロラクタム、ピロリド−2−オン、ヒドロキサ
ム酸およびそのエステルたとえばアセトヒドロキサム酸
もしくはベンズヒドロキサム酸、フェノールたとエバフ
ェノール、クレゾール、tert−ブチルフェノールも
しくはジメチルアミノフェノール、N−アルキルアミド
たとえばメチルアセトアミド、イミダゾールたとえば2
−メチルイミダゾール。
における)は、それらが室温では水または(−スレジン
の活性水素原子(ヒドロキシルまたはアミンの水素基)
と反応しないよう、−緒(二または個々:ニブロックさ
れている。適当なブロッキング剤は酸性水素およびただ
1個のアミン、アミド、イミド、ラクタム、チオまたは
ヒドロキシル基を含有する一官能性化合物である。−般
(−1活性水素を有し、低分子量の、好ましくは300
未満、さらに好ましくは200未満の揮発性化合物が用
いられる。これらの化合物はイソシアネート基と50℃
以上、好ましくは80〜120℃の温度で有利(=反応
する。ブロッキング剤はNC01当量あたり1当量のプ
ロツキング剤が存在するような量で使用され、必要に応
じて慣用の触媒たとえば塩基性触媒たとえば三級アミン
、または少量の錫塩たとえばuI(ii)オクトエート
またはジラウレートを同時に使用してもよい。適当なブ
ロッキング剤の例は、二級もしくは三級脂肪族または脂
環式アルコールたとえばインプロパツール、tert−
ブタノール、2−エチルヘキサノール、フルフロール、
シクロヘキサノールまたはヒドロキシアルキルエステル
、ジアルキルアミノアルコールたとえばジメチルアミノ
エタノール、オキシムたとえばホルムアルデヒドオキシ
ム、アセトアルデヒドオキシム、メチレンケトキシム、
シクロへキサノンオキシム、トリメチルシクロへキサノ
ンオキシム、2.2.6.6−チトラメチルピベリドー
4−オンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフ
ェノンオキシムもしくはりエチルグリオキシム、ラクタ
ムたとえば砿−カプロラクタム、γ−パレロラクタム、
γ−ブチロラクタム、ピロリド−2−オン、ヒドロキサ
ム酸およびそのエステルたとえばアセトヒドロキサム酸
もしくはベンズヒドロキサム酸、フェノールたとエバフ
ェノール、クレゾール、tert−ブチルフェノールも
しくはジメチルアミノフェノール、N−アルキルアミド
たとえばメチルアセトアミド、イミダゾールたとえば2
−メチルイミダゾール。
イミドたとえばフタルイミドもしくはN−ヒドロキシマ
レイミド、およびエノル化を受ける化合物たとえばNH
官能基を有するマロン酸エステル、酢酸エステルまたは
エナミンがある。
レイミド、およびエノル化を受ける化合物たとえばNH
官能基を有するマロン酸エステル、酢酸エステルまたは
エナミンがある。
しかしながら、β−ヒドロキシグリコールまたはグリコ
ールエーテルおよびグリコールアミドも推薦できる。オ
キシムおよびラクトンは、これらの化合物でブロックさ
れたポリイソシアネートが比較的低温で反応するので、
ブロッキング剤としてとくに興味がもたれる。ブロック
のため(=2種類以上の保護基を用いることも可能であ
り、反応性の異なる保護基を用いることが好ましい。す
なわち、異なる保護基でブロックされた2種もしくは5
4以上のポリイソシアネートの混合物を用いること、ま
たは2種もしくは3種以上の保護基でブロックされた1
種のポリイソシアネートを用いることが可能である。
ールエーテルおよびグリコールアミドも推薦できる。オ
キシムおよびラクトンは、これらの化合物でブロックさ
れたポリイソシアネートが比較的低温で反応するので、
ブロッキング剤としてとくに興味がもたれる。ブロック
のため(=2種類以上の保護基を用いることも可能であ
り、反応性の異なる保護基を用いることが好ましい。す
なわち、異なる保護基でブロックされた2種もしくは5
4以上のポリイソシアネートの混合物を用いること、ま
たは2種もしくは3種以上の保護基でブロックされた1
種のポリイソシアネートを用いることが可能である。
本発明においてと<(=好ましいブロッキング剤は、式
%式%
で示され、式中Xは
−0−N−(I)
で表される。
好ましい例は、ε−カプロラクタム、メチルエチルケト
オキシムおよびブトキシェタノールである。このブロッ
キング反応を行うためには、一般(二、イソシアネート
成分を最初に取り1反応試薬を加える。反応は無溶媒で
、または適当な(不活性)溶媒の存在下に行うことかで
きる。
オキシムおよびブトキシェタノールである。このブロッ
キング反応を行うためには、一般(二、イソシアネート
成分を最初に取り1反応試薬を加える。反応は無溶媒で
、または適当な(不活性)溶媒の存在下に行うことかで
きる。
ブロックされたポリイソシアネートは任意の順序でまた
は混合物として塩基性樹脂中に攪拌下(二加える。成分
B(ii)とB (ii1)の混合比は1:1〜1:1
0好ましくは1:2〜1:5である。至適混合比は架橋
密度とストーンチップインパクト試験(stone−c
hip impact test)の結果をたがいに採
用して実験的に求める。成分B(ii)のレポルが増加
すると焼付は皮膜はストーンチップに対してより耐抗性
となり、成分B (if)のレベルが上昇すると皮膜の
溶媒抵抗性が増大する。被塗物をイソシアネートのブロ
ッキングが除去されるのに十分な温度まで加熱すると、
塗装は架橋または硬化して、保護不溶性皮膜が得られる
。保護基は210℃未満の焼付は温度、好ましくは19
0℃未満、とくに180C未満、他方110℃以上、好
ましくは140℃以上、とくに好ましくは150℃以上
の焼付は温度で除去され、遊離したイソシアネート基は
塩基性樹脂と反応できる。
は混合物として塩基性樹脂中に攪拌下(二加える。成分
B(ii)とB (ii1)の混合比は1:1〜1:1
0好ましくは1:2〜1:5である。至適混合比は架橋
密度とストーンチップインパクト試験(stone−c
hip impact test)の結果をたがいに採
用して実験的に求める。成分B(ii)のレポルが増加
すると焼付は皮膜はストーンチップに対してより耐抗性
となり、成分B (if)のレベルが上昇すると皮膜の
溶媒抵抗性が増大する。被塗物をイソシアネートのブロ
ッキングが除去されるのに十分な温度まで加熱すると、
塗装は架橋または硬化して、保護不溶性皮膜が得られる
。保護基は210℃未満の焼付は温度、好ましくは19
0℃未満、とくに180C未満、他方110℃以上、好
ましくは140℃以上、とくに好ましくは150℃以上
の焼付は温度で除去され、遊離したイソシアネート基は
塩基性樹脂と反応できる。
水希釈性ベースレジンのブロックされたポリイソシアネ
ートによる架橋は必要1:応じて、固体樹脂(=対して
0.01〜2重債チ、とくに0.5〜1重t%の触媒、
たとえば強塩基性三級アミンおよび/または活性金属化
合物を添加することによって加速できる。析出した樹脂
の塩基性媒体とビスマス、鉛、コバルト、鉄、アンチモ
ンおよび/または錫(n)、錫(fV)の金属塩化合物
との組合せにより、特殊な効果、時(二は相剰効来が達
成される。鉄(III)アセチルアセトン、亜鉛アセチ
ルアセトン、ジプチル懇ジラウレート、ジ−n−ブチル
錫オキサイド、ジブチル錫ジオクチルマレイン酸塩、オ
フトン酸部、オレイン酸部、テトラブチルチタイ・−ト
および、′またはコバルト2−エチルヘキサノエートの
ような触媒はとくに好ましい。好ましい触媒は、電着浴
中の限定された範囲にのみ溶解し、塗装とともに微粉化
された形状で電気泳動的に析出し、焼付は時(=平滑化
の問題(lsvellingproblems)を生じ
ることなく皮膜内に均一(二分布する触媒である。樹脂
中に不飽和二重結合が存在すると、慣用の金属乾燥剤を
所望(二よりエマルジョンとして添加し、硬化性を改善
することができる。
ートによる架橋は必要1:応じて、固体樹脂(=対して
0.01〜2重債チ、とくに0.5〜1重t%の触媒、
たとえば強塩基性三級アミンおよび/または活性金属化
合物を添加することによって加速できる。析出した樹脂
の塩基性媒体とビスマス、鉛、コバルト、鉄、アンチモ
ンおよび/または錫(n)、錫(fV)の金属塩化合物
との組合せにより、特殊な効果、時(二は相剰効来が達
成される。鉄(III)アセチルアセトン、亜鉛アセチ
ルアセトン、ジプチル懇ジラウレート、ジ−n−ブチル
錫オキサイド、ジブチル錫ジオクチルマレイン酸塩、オ
フトン酸部、オレイン酸部、テトラブチルチタイ・−ト
および、′またはコバルト2−エチルヘキサノエートの
ような触媒はとくに好ましい。好ましい触媒は、電着浴
中の限定された範囲にのみ溶解し、塗装とともに微粉化
された形状で電気泳動的に析出し、焼付は時(=平滑化
の問題(lsvellingproblems)を生じ
ることなく皮膜内に均一(二分布する触媒である。樹脂
中に不飽和二重結合が存在すると、慣用の金属乾燥剤を
所望(二よりエマルジョンとして添加し、硬化性を改善
することができる。
酸によるプロトン化で、架橋剤と混合した陽イオン性結
合剤は、それ自体公知の方法(;より水希釈性(二なる
。酸の例としては、フマール酸、乳酸、酢酸、プロピオ
ン酸、クエン酸、マロン酸、アクリル酸、リン酸および
アルキルリン酸がある。低分子量−塩基性有機カルボン
酸が好ましい。陽イオン結合剤と架橋剤の安定なエマル
ジョンの生成に少なくとも十分な酸の添加が必要である
。過剰の酸、すなわち、100%を越える中和程度は避
けるのが有利である。MEQ値(固体樹脂100?に対
する酸のミリ当量)は一般(二20〜80である。でき
る限り高い析出当量を得るためには、可能な限り低いM
EQ値が望ましい。
合剤は、それ自体公知の方法(;より水希釈性(二なる
。酸の例としては、フマール酸、乳酸、酢酸、プロピオ
ン酸、クエン酸、マロン酸、アクリル酸、リン酸および
アルキルリン酸がある。低分子量−塩基性有機カルボン
酸が好ましい。陽イオン結合剤と架橋剤の安定なエマル
ジョンの生成に少なくとも十分な酸の添加が必要である
。過剰の酸、すなわち、100%を越える中和程度は避
けるのが有利である。MEQ値(固体樹脂100?に対
する酸のミリ当量)は一般(二20〜80である。でき
る限り高い析出当量を得るためには、可能な限り低いM
EQ値が望ましい。
塗装材料中たとえばt7if塗装浴中の有機溶媒の含量
は10%未満、とく(ii3%未満とすべきである。使
用される溶媒は、アルコール、グリコールエーテルおよ
びケトアルコールならびに様々な鎖長の脂肪族および/
または芳香族炭化水素である。選択に際しては、架橋剤
は水に可溶性でなく、適当な溶媒の配合が分散過程を促
進し、安定化することに留意すべきである。
は10%未満、とく(ii3%未満とすべきである。使
用される溶媒は、アルコール、グリコールエーテルおよ
びケトアルコールならびに様々な鎖長の脂肪族および/
または芳香族炭化水素である。選択に際しては、架橋剤
は水に可溶性でなく、適当な溶媒の配合が分散過程を促
進し、安定化することに留意すべきである。
溶媒含量が増大すると均一電着性が悪化し、析出した皮
膜厚は増加し、過剰塗装を生じることがある。水不溶性
溶媒はこの点で、水溶性溶媒(ニルべて大きい効果があ
る。平らさを改善し、皮膜抵抗性を低下させるためには
、ある割合の水不溶性、高沸点溶媒たとえばヘキシレン
グリコール、フェノキシエタノール、フェノキジブロバ
ノール、エチルヘキサノール、インデカノールまたは2
,2.4− )ジメチルベンタン−1,3−ジオールモ
ノイソブテレートを添加することもできる。
膜厚は増加し、過剰塗装を生じることがある。水不溶性
溶媒はこの点で、水溶性溶媒(ニルべて大きい効果があ
る。平らさを改善し、皮膜抵抗性を低下させるためには
、ある割合の水不溶性、高沸点溶媒たとえばヘキシレン
グリコール、フェノキシエタノール、フェノキジブロバ
ノール、エチルヘキサノール、インデカノールまたは2
,2.4− )ジメチルベンタン−1,3−ジオールモ
ノイソブテレートを添加することもできる。
本発明(−よって製造された結合剤分散液から塗装材料
または上塗を調製するためには、製造過程の適当な箇所
で慣用方法により、分散色黒充填剤、クレータ−防止剤
、腐食阻止剤および/または慣用の塗装助剤を導入する
ことによって可能である。低溶媒含量の分散液を製造す
る場合(:は、水性分散液の製造前または製造後に溶媒
を留去する。水より沸点の低い水希釈性溶媒たとえばエ
タノールを使用する場合は、溶媒は穏和な条件下、真空
中40〜50℃で留去できる。
または上塗を調製するためには、製造過程の適当な箇所
で慣用方法により、分散色黒充填剤、クレータ−防止剤
、腐食阻止剤および/または慣用の塗装助剤を導入する
ことによって可能である。低溶媒含量の分散液を製造す
る場合(:は、水性分散液の製造前または製造後に溶媒
を留去する。水より沸点の低い水希釈性溶媒たとえばエ
タノールを使用する場合は、溶媒は穏和な条件下、真空
中40〜50℃で留去できる。
溶媒が水希釈性でなく共沸混合物を作るものを用いる場
合、分離器を介して循環水ととも(=留去する。
合、分離器を介して循環水ととも(=留去する。
本発明の塗装材料(たとえば電着塗装浴)の固体含量は
、水で希釈後5〜60重量%であることが有利である。
、水で希釈後5〜60重量%であることが有利である。
上塗塗料を25〜50重量%好ましくは50〜45重量
%の高固体含量(二調整すると、浸漬法、スプレー法、
ローラー塗装等に適用できる水希釈性焼付塗料が得られ
る。他方、希釈を固体含量5〜Sot量チ、好ましくは
10〜20重t%まで行うと、この塗料は電気泳動メツ
キに適している。陰極表面を均一な温度:二保持し、分
散液中の不溶性成分たとえば色素の沈殿を防止するため
(−1浴は絶えず攪拌する。塗装材料のpi((たとえ
ば電着塗装浴の)は一般に4.0〜8.0、好ましくは
5.5〜75である。
%の高固体含量(二調整すると、浸漬法、スプレー法、
ローラー塗装等に適用できる水希釈性焼付塗料が得られ
る。他方、希釈を固体含量5〜Sot量チ、好ましくは
10〜20重t%まで行うと、この塗料は電気泳動メツ
キに適している。陰極表面を均一な温度:二保持し、分
散液中の不溶性成分たとえば色素の沈殿を防止するため
(−1浴は絶えず攪拌する。塗装材料のpi((たとえ
ば電着塗装浴の)は一般に4.0〜8.0、好ましくは
5.5〜75である。
…が低すぎると、酸がタンク、パイプラインおよびポン
プの鉄を腐食させる。電気泳動メツキは、浴の調製後2
4時間以上経過してから行うのが有利である。24時間
後までは、均一な分布が得られるように絶えず攪拌して
おくのが有利である。使用する陽極は電導性の、さび止
めをしていない、たとえばステンレス鋼またはグラファ
イトの電極とする。陰極?=おいて塗装する被塗物およ
び陽極は、電気泳動メツキについてよく知られている方
法で水性浴中に浸漬する。
プの鉄を腐食させる。電気泳動メツキは、浴の調製後2
4時間以上経過してから行うのが有利である。24時間
後までは、均一な分布が得られるように絶えず攪拌して
おくのが有利である。使用する陽極は電導性の、さび止
めをしていない、たとえばステンレス鋼またはグラファ
イトの電極とする。陰極?=おいて塗装する被塗物およ
び陽極は、電気泳動メツキについてよく知られている方
法で水性浴中に浸漬する。
すべての金属伝導性製品、たとえば銅、アルミニウム、
錫、亜鉛、鉄およびこれらの金属の合金が塗装できる。
錫、亜鉛、鉄およびこれらの金属の合金が塗装できる。
析出時、浴の温度は好ましくは約15〜35℃に保持す
る。固体含量、析出温度および析出時間ならびに電圧は
、限外PMおよび/または水での洗浄ならびに160〜
230’Cの温度で焼付は後(二所望の皮膜厚が得られ
るように選択される。すなわち、たとえば皮膜厚は塗装
時間および塗装電圧の上昇ととも(二増大する。金属伝
導性製品と対向電極の間(−有利(二は50〜500ボ
ルトの電圧をかけて電流を流すと、水希釈性塩基性樹脂
は陽極に凝集する。それととも(二本不溶性架橋剤、色
素、触媒等も輸送される。この操作の間に、析出皮膜中
の色素と合成樹脂結合剤の比は色素が多い方(二変化す
る。
る。固体含量、析出温度および析出時間ならびに電圧は
、限外PMおよび/または水での洗浄ならびに160〜
230’Cの温度で焼付は後(二所望の皮膜厚が得られ
るように選択される。すなわち、たとえば皮膜厚は塗装
時間および塗装電圧の上昇ととも(二増大する。金属伝
導性製品と対向電極の間(−有利(二は50〜500ボ
ルトの電圧をかけて電流を流すと、水希釈性塩基性樹脂
は陽極に凝集する。それととも(二本不溶性架橋剤、色
素、触媒等も輸送される。この操作の間に、析出皮膜中
の色素と合成樹脂結合剤の比は色素が多い方(二変化す
る。
同時に、水および中和のために使用した酸は浴中(−蓄
積する。したがって、量の比率の変動によるこの変化を
補償するため濃縮された上塗塗料を用いて置換を行なわ
なければならない。この補正は、適当な装置(二より、
たとえは電気透析または限外濾過で行うこともできろ。
積する。したがって、量の比率の変動によるこの変化を
補償するため濃縮された上塗塗料を用いて置換を行なわ
なければならない。この補正は、適当な装置(二より、
たとえは電気透析または限外濾過で行うこともできろ。
本発明(二よれば、たとえばオニウム塩を含有し、たと
えば固体含量約85〜50上量係で水希釈用濃縮ペース
ト結合剤を製造することもできる。これには、恨用方法
(=より、ボールミル、三段ボールミルまたは六−ルミ
ル中で色素を添加することができる。この目的では、た
とえばDIN 55,944に記載されているような慣
用の色素、充填剤、腐食防止剤および金製補剤たとえば
クレータ−防止剤、平滑化剤または消泡剤を添加するこ
とができる。もちろん選択される物質は、酸性ないし中
性の媒体中で水(二よりやつかいな反応を受けないもの
、水溶性の異種イオンを伴出しないもの、老化時(二攪
拌によって再懸濁できない形の沈殿を生じないものでな
ければならない。この上塗塗料は金属の電着塗装(=と
くに適していて、好ましくは15〜45分間、140〜
180℃での焼付は後、耐屈曲性でストーンチップ耐性
が改善された、平滑な地層塗を与える。色素/結合剤比
は結合剤の分散性および粘度に依存し、一般に0.1:
1〜1.5:1である。
えば固体含量約85〜50上量係で水希釈用濃縮ペース
ト結合剤を製造することもできる。これには、恨用方法
(=より、ボールミル、三段ボールミルまたは六−ルミ
ル中で色素を添加することができる。この目的では、た
とえばDIN 55,944に記載されているような慣
用の色素、充填剤、腐食防止剤および金製補剤たとえば
クレータ−防止剤、平滑化剤または消泡剤を添加するこ
とができる。もちろん選択される物質は、酸性ないし中
性の媒体中で水(二よりやつかいな反応を受けないもの
、水溶性の異種イオンを伴出しないもの、老化時(二攪
拌によって再懸濁できない形の沈殿を生じないものでな
ければならない。この上塗塗料は金属の電着塗装(=と
くに適していて、好ましくは15〜45分間、140〜
180℃での焼付は後、耐屈曲性でストーンチップ耐性
が改善された、平滑な地層塗を与える。色素/結合剤比
は結合剤の分散性および粘度に依存し、一般に0.1:
1〜1.5:1である。
中間体:攪拌器、滴下F斗および還流冷却器を付した反
応フラスコ中、キシレン582v、ビスフェノールAを
基剤としたエポキシ当*重量188のエポキシ樹脂1.
504 ?およびn−オクチルフェノール824fを、
不活性気体下(2100℃に加熱した。50%濃度のテ
トラブチルアンモニウムクロリドの水溶液0.8fを加
えたのち、混合物を150℃(=加熱し、この温度にエ
ポキシ当量M−Itが640(=なるまで保持した。つ
いで、混合物を50℃に冷却し、キシレン720tとエ
チレンジアミン7201の混合物を加えると、発熱反応
で温度は約105℃に上昇した。この温度;二3時間保
持し、真空を適用して過剰のエチレンジアミンを留去し
た。アミン残留物を、留出液のアミン数が0.3未満に
なるまで水蒸気蒸留した。
応フラスコ中、キシレン582v、ビスフェノールAを
基剤としたエポキシ当*重量188のエポキシ樹脂1.
504 ?およびn−オクチルフェノール824fを、
不活性気体下(2100℃に加熱した。50%濃度のテ
トラブチルアンモニウムクロリドの水溶液0.8fを加
えたのち、混合物を150℃(=加熱し、この温度にエ
ポキシ当量M−Itが640(=なるまで保持した。つ
いで、混合物を50℃に冷却し、キシレン720tとエ
チレンジアミン7201の混合物を加えると、発熱反応
で温度は約105℃に上昇した。この温度;二3時間保
持し、真空を適用して過剰のエチレンジアミンを留去し
た。アミン残留物を、留出液のアミン数が0.3未満に
なるまで水蒸気蒸留した。
固体含量: 93.5重量%(ii80℃に30分間加
熱後) アミン数:177(固体樹脂1kgあたりのKOHpg
) 中間体1. OOOfをメチルイソブチルケトン580
tと、水が溶媒ととも(二分離するまで加熱した。水2
61が分離したのち、混合物を40〜45℃に冷却し、
ヘキサンジイソシアネート2441の乾燥メチルイソブ
チルケトン4882中溶液を2時間を要して徐々に滴加
した。ついで、温度を80℃に上昇させ、この温度にh
rco数が0になるまで保持した。溶媒を真空中で留去
し、残留物をエトキシプロパノール1502で希釈した
。
熱後) アミン数:177(固体樹脂1kgあたりのKOHpg
) 中間体1. OOOfをメチルイソブチルケトン580
tと、水が溶媒ととも(二分離するまで加熱した。水2
61が分離したのち、混合物を40〜45℃に冷却し、
ヘキサンジイソシアネート2441の乾燥メチルイソブ
チルケトン4882中溶液を2時間を要して徐々に滴加
した。ついで、温度を80℃に上昇させ、この温度にh
rco数が0になるまで保持した。溶媒を真空中で留去
し、残留物をエトキシプロパノール1502で希釈した
。
固体金t:84.7重量%(ii50℃で30分間加熱
後) アミン数:68 粘度: 590 mPa、s (エトキシプロパノール
に25℃で50重量%(=希釈後) 架橋剤B(+) ポリエステル:攪拌器、温度計、およびビグローカラム
を付した三頚フラスコ(=、アジピン酸2,044Fと
ブタン−1,4−ジオール1.89Qrを取り、注意深
く熔融した。ついで混合物を、反応水を除去しながら2
30℃に加熱した。しかし、カラムの頂部温度は98〜
110℃に保持された。酸数が2未満(=なったとき反
応を終結させた。
後) アミン数:68 粘度: 590 mPa、s (エトキシプロパノール
に25℃で50重量%(=希釈後) 架橋剤B(+) ポリエステル:攪拌器、温度計、およびビグローカラム
を付した三頚フラスコ(=、アジピン酸2,044Fと
ブタン−1,4−ジオール1.89Qrを取り、注意深
く熔融した。ついで混合物を、反応水を除去しながら2
30℃に加熱した。しかし、カラムの頂部温度は98〜
110℃に保持された。酸数が2未満(=なったとき反
応を終結させた。
ポリウレタン樹脂:攪拌器と温度計を付した三頚フラス
コ中、不活注気体の気流下に、ポリエステル98C1,
N−メチルエタノールアミン2382およびN−メチル
ピロリドン2682を混合し、65℃に加熱した。つい
で、インフォロジイソシアネートtioorとN−メチ
ルピロリドン476?の混合物を1時間を要して滴加し
た。
コ中、不活注気体の気流下に、ポリエステル98C1,
N−メチルエタノールアミン2382およびN−メチル
ピロリドン2682を混合し、65℃に加熱した。つい
で、インフォロジイソシアネートtioorとN−メチ
ルピロリドン476?の混合物を1時間を要して滴加し
た。
反応温度は80℃に上昇した。Ncoaが4.2で、混
合物を50℃に冷却し、メチルエチルケトオキシム20
62を加えた。発熱反応により温度は上昇した。NCO
数がα1未満になるまで、混合物を80℃(二保持した
。
合物を50℃に冷却し、メチルエチルケトオキシム20
62を加えた。発熱反応により温度は上昇した。NCO
数がα1未満になるまで、混合物を80℃(二保持した
。
固体含量二818重量%(循環オープン中150℃に6
0分間加熱後) 7’ ミニ/a : 42.81体樹脂1 f アタ1
,1 (7) KOHing数) 粘度: 1.9 Pa、s (N−メチルピロリドンで
601i優に希釈後) 架橋剤B (++) Desmodur L■875 F、および予め酢酸エ
チル;ニア5%強度溶液に溶解した、1モルのトリメチ
ロールゾロ!2ノと6モルのトルイレンジイソシアネー
トの反応生成物を、湿気を除き乾燥不活性気体を上方に
通過させた溶液中で90℃に加熱し、90℃で完全に混
合した。ε−力プロラクタム642?を3時間を要して
徐々に1反応塩度が100℃を越えないように加えた。
0分間加熱後) 7’ ミニ/a : 42.81体樹脂1 f アタ1
,1 (7) KOHing数) 粘度: 1.9 Pa、s (N−メチルピロリドンで
601i優に希釈後) 架橋剤B (++) Desmodur L■875 F、および予め酢酸エ
チル;ニア5%強度溶液に溶解した、1モルのトリメチ
ロールゾロ!2ノと6モルのトルイレンジイソシアネー
トの反応生成物を、湿気を除き乾燥不活性気体を上方に
通過させた溶液中で90℃に加熱し、90℃で完全に混
合した。ε−力プロラクタム642?を3時間を要して
徐々に1反応塩度が100℃を越えないように加えた。
温度はNCO数が0.1%未満に低下するまで上記温度
に保持した。真空中で溶媒をほぼ完全1=除去し、つい
で残留物をブトキシェタノールで80重量%に希釈した
。
に保持した。真空中で溶媒をほぼ完全1=除去し、つい
で残留物をブトキシェタノールで80重量%に希釈した
。
比較試験
二酸化チタン2082およびカーボンブラック21を、
溶解器(ii00回転/分)を用いて水希釈性合成樹脂
結合剤AI 248f中エトキシゾロパノール162
2を加え、約50℃で50分間粉砕した。ついで水希釈
性AI 49.6t、架橋剤B(II)21or、ジ
プチル錫ジラウレート5りおよびギ酸6.42を添加混
合し、次に混合物を脱イオン水2゜6092で徐々(=
希釈した。
溶解器(ii00回転/分)を用いて水希釈性合成樹脂
結合剤AI 248f中エトキシゾロパノール162
2を加え、約50℃で50分間粉砕した。ついで水希釈
性AI 49.6t、架橋剤B(II)21or、ジ
プチル錫ジラウレート5りおよびギ酸6.42を添加混
合し、次に混合物を脱イオン水2゜6092で徐々(=
希釈した。
例
比較試験を行なうために、以下の1を使用1−たO
水希釈性塩基性樹脂A1
エトキシプロパノール
二酸化チタン
カーボンブラック
水希釈性ベースレジンA
1 49、6 f
架橋剤B (II) 157.5
を架橋剤B (ii) 51.3
tジプチル錫ジラウレー) 5rギ酸
6.1f脱イオン水
2.61051上述の浴を用いて、リン酸塩処
理した鋼板上(=、下記の条件で電気泳動塗装を行り、
)、以下の結果を得た。
を架橋剤B (ii) 51.3
tジプチル錫ジラウレー) 5rギ酸
6.1f脱イオン水
2.61051上述の浴を用いて、リン酸塩処
理した鋼板上(=、下記の条件で電気泳動塗装を行り、
)、以下の結果を得た。
…
浴伝導度(μ3cm−1)
固体含量
西Q値
電圧/皮膜圧
析出出量(C/f)
塗装皮膜抵抗
(Ωx 105)
5.6 5.7
17重量% 17重量%
2五5 19
2′65°260V 2’50°210■18μ
m 18μm 4i0 5150 はンデュラム硬度 衝撃試験 ゴバン目試験 溶媒抵抗性 158′ 20インチポンド 1〜2 (n、s、) 130′ 35インチボンド 0(S) ストーンチップインパクト試験: 単一ストーンチップ+20℃ 一20℃ 多重ストーンチップ チップ面積 f12 f12 n、s。
m 18μm 4i0 5150 はンデュラム硬度 衝撃試験 ゴバン目試験 溶媒抵抗性 158′ 20インチポンド 1〜2 (n、s、) 130′ 35インチボンド 0(S) ストーンチップインパクト試験: 単一ストーンチップ+20℃ 一20℃ 多重ストーンチップ チップ面積 f12 f12 n、s。
311+2
6絹2
S=満足
n、s、 =不満足
外
名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(A)酸で中和することによつて水希釈性となる数
平均分子量(Mn)が500〜20,000のベースレ
ジン40〜90重量%、および(B)(i)場合によつ
ては三級アミノ基を含有していてもよいH−反応性二官
能性化合物とジイソシアネートとの反応で得られる生成
物であつて、ウレタン基および場合によつては尿素基を
含有し、OH基をもたない、数平均分子量(Mn)が7
50〜8,000、アミン数が30〜150の1種また
は2種以上の末端がブロックされたジイソシアネートと
、(ii)2個よりも多いブロックされたイソシアネー
ト基を有し、数平均分子量(Mn)が500〜1,50
0の芳香族および/または脂肪族のブロックされたポリ
イソシアネートとからなる完全にブロックされたポリイ
ソシアネート混合物10〜60重量%を含有し、成分B
(i)およびB(ii)は1:1〜1:10の重量比で
存在するものであることを特徴とする水希釈性結合剤。 2)ベースレジン(A)は、場合によつてはオニウム塩
の基に加えて一級および/または二級および/または三
級アミノ基を有する特許請求の範囲第1項に記載の水希
釈性結合剤。 3)水希釈性のベースレジン(A)は三級、一級もしく
は二級アミノ基および/またはオニウム塩の基に加えて
ヒドロキシル基を有する特許請求の範囲第1項に記載の
水希釈性結合剤。 4)水希釈性ベースレジン(A)はアミノエポキシ樹脂
またはアミノアクリレート樹脂である特許請求の範囲第
1項から第3項までのいずれかに記載の水希釈性結合剤
。 5)成分B(i)は数平均分子量1,000〜8,00
0を有する特許請求の範囲第1項から第4項までのいず
れかに記載の水希釈性結合剤。 6)成分B(i)はアミン数30〜100を有する特許
請求の範囲第1項から第5項までのいずれかに記載の水
希釈性結合剤。 7)成分B(i)はH−反応性二官能性化合物としてジ
アルカノールから形成された特許請求の範囲第1項から
第6項までのいずれかに記載の水希釈性結合剤。 8)成分B(i)は三級アミノ基を含有する特許請求の
範囲第1項から第7項までのいずれかに記載の水希釈性
結合剤。 9)ジアルカノールは数平均分子量(@Mn@)が25
0〜3,000を有する線状脂肪族ポリエステルジオー
ルである特許請求の範囲第6項または第8項に記載の水
希釈性結合剤。 10)成分B(i)の生成に用いられるジイソシアネー
トは一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、基Rは同種または異種であつて、水素もしくは
1〜8個の炭素原子を有するアルキル基であり、nは1
〜10の整数である)および/または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、rは2〜20の整数であり、基Rは同種でも異
種でもよく、水素または1〜8個の炭素原子を有するア
ルキル基である)で表される1種または2種以上のジイ
ソシアネートである特許請求の範囲第7項から第9項ま
でのいずれかに記載の水希釈性結合剤。 11)成分B(ii)はジイソシアネートの三量体化に
よつて生成された特許請求の範囲第1項から第10項ま
でのいずれかに記載の水希釈性結合剤。 12)成分B(ii)は3個のヒドロキシル基を含有す
る化合物とジイソシアネートの等モル反応によつて得ら
れた特許請求の範囲第1項から第11項までのいずれか
に記載の水希釈性結合剤。 13)成分B(ii)は水とジイソシアネートの反応に
よつて生成された特許請求の範囲第1項から第12項ま
でのいずれかに記載の水希釈性結合剤。 14)成分B(ii)は3〜5個のブロックされたイソ
シアネート基を有する特許請求の範囲第1項から第13
項までのいずれかに記載の水希釈性結合剤。 15)水性塗装材料の製造のための特許請求の範囲第1
項から第14項までのいずれかに記載の水希釈性結合剤
の使用。 16)水性陰極塗装材料の製造のための特許請求の範囲
第1項から第14項までのいずれかに記載の水希釈性結
合剤の使用。 17)塗装系における下塗りの目的での特許請求の範囲
第1項から第14項までのいずれかに記載の水希釈性結
合剤の使用。 18)車輌、自動車類ならびにそれらの部品および補助
具の塗装に際しての特許請求の範囲第1項から第14項
までのいずれかに記載の水希釈性結合剤の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3812251.0 | 1988-04-13 | ||
DE3812251A DE3812251A1 (de) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | Wasserverduennbare bindemittel und deren verwendung fuer ueberzugsmittel insbesondere im kraftfahrzeugbau |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0211676A true JPH0211676A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=6351883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1090901A Pending JPH0211676A (ja) | 1988-04-13 | 1989-04-12 | 水希釈性結合剤 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0337422B1 (ja) |
JP (1) | JPH0211676A (ja) |
AU (1) | AU618084B2 (ja) |
CA (1) | CA1338690C (ja) |
DE (2) | DE3812251A1 (ja) |
DK (1) | DK175889A (ja) |
YU (1) | YU71089A (ja) |
ZA (1) | ZA892647B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004359952A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-24 | Bayer Materialscience Ag | ポリウレタンを含む水性被覆組成物 |
JP2006002003A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗料組成物 |
JP2013072002A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | オキサゾリン基含有重合体の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
CA2019566A1 (en) * | 1989-07-05 | 1991-01-05 | Paul R. Van Rheenen | Cationic latex coatings |
EP0642558B2 (de) † | 1992-05-29 | 2001-10-24 | Solutia Austria GmbH | Katalysierte kationische lackbindemittel, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
DE4415292A1 (de) * | 1994-04-30 | 1995-11-02 | Herberts Gmbh | Modulsystem und Verfahren zur Herstellung wäßriger Überzugsmittel |
AT410213B (de) * | 1998-08-04 | 2003-03-25 | Solutia Austria Gmbh | Wasserverdünnbare bindemittel für ''soft-feel''-lacke |
DE10001222A1 (de) | 2000-01-14 | 2001-08-09 | Basf Coatings Ag | Beschichtung, enthaltend kolloidal verteiltes metallisches Bismut |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1048672A (en) * | 1969-11-24 | 1979-02-13 | Howard H. Leiner | Cathodic electrocoating process and composition |
DE3325814A1 (de) * | 1983-07-18 | 1985-01-31 | Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal | Fluessige beschichtungskompositionen auf der basis von amidgruppenhaltigen aminoharnstoffharzen mit gegebenenfalls urethan- oder thiourethangruppierungen |
US4596744A (en) * | 1985-01-29 | 1986-06-24 | Inmont Corporation | Oxime blocked isocyanate cross-linker for cathodic electrocoat |
US4605690A (en) * | 1985-04-15 | 1986-08-12 | Inmont Corporation | Low volatile organic content cathodic electrodeposition baths |
DE3545205C1 (de) * | 1985-12-20 | 1987-07-16 | Herberts Gmbh | Kathodisch abscheidbares waessriges Elektrotauchlack-UEberzugsmittel und dessen Verwendung zum Beschichten von Gegenstaenden |
US4872961A (en) * | 1987-08-28 | 1989-10-10 | The Dow Chemical Company | Corrosion resistant, low temperature cured cathodic electrodeposition coating |
-
1988
- 1988-04-13 DE DE3812251A patent/DE3812251A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-04-10 YU YU00710/89A patent/YU71089A/xx unknown
- 1989-04-11 ZA ZA892647A patent/ZA892647B/xx unknown
- 1989-04-12 DK DK175889A patent/DK175889A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-04-12 JP JP1090901A patent/JPH0211676A/ja active Pending
- 1989-04-12 EP EP89106501A patent/EP0337422B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-12 CA CA000596500A patent/CA1338690C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-12 DE DE58909491T patent/DE58909491D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-13 AU AU32782/89A patent/AU618084B2/en not_active Ceased
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004359952A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-24 | Bayer Materialscience Ag | ポリウレタンを含む水性被覆組成物 |
JP2006002003A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗料組成物 |
JP2013072002A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | オキサゾリン基含有重合体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU618084B2 (en) | 1991-12-12 |
EP0337422A2 (de) | 1989-10-18 |
DK175889D0 (da) | 1989-04-12 |
YU71089A (en) | 1990-12-31 |
DE3812251A1 (de) | 1989-10-26 |
EP0337422A3 (en) | 1990-04-11 |
CA1338690C (en) | 1996-11-05 |
EP0337422B1 (de) | 1995-11-15 |
DK175889A (da) | 1989-10-14 |
ZA892647B (en) | 1989-12-27 |
DE58909491D1 (de) | 1995-12-21 |
AU3278289A (en) | 1989-10-19 |
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