JPH02105155A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、基材への密着性、現像速度、レジスト形状、
レジスト剥離速度と剥離片の分散性のいずれもがすぐれ
ている感光性樹脂組成物に関するものである。

従来の技術 ポリエステルフィルムなどのベースフィルム上に感光性
樹脂組成物を層状に塗布成層し、その上からポリエチレ
ンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどの保
護フィルムを積層したラミネートフィルムは、一般にド
ライフィルムと称され、プリント配線板の製造用、金属
の精密加工用に広く使用されている。

その使用にあたっては、まずドライフィルムからベース
フィルムまたは保護フィルムのうち接着力の小さい方の
フィルムを剥離除去して感光性樹脂組成物層の側を銅張
基板の銅面に貼り付けた後、パターンマスクを他方のフ
ィルム上に当接すせた状態で露光しく当該他方のフィル
ムを剥離除去してから露光する場合もある）、ついでそ
の他方のフィルムを剥離除去して現像に供する。露光後
の現像方式としては、溶剤現像型のものと積アルカリ現
像型のものとがある。

ドライフィルムのほか、金属面に直接感光性樹脂組成物
を塗布成層し、その上に積層したポリエステルフィルム
などのフィルムを介してパターンマスクを密着させ、露
光を行う方法もよく知られている。

ドライフィルムの場合は、金属との密着性が小さいと、
ラミネート後のドライフィルムのカッティングの際、あ
るいは露光後現像前にフィルムを剥離除去する際、レジ
ストの一部が基板から浮き上ったり欠けたりするなどの
トラブルを生ずることがある。

また金属面との密着性が不足すると、現像液、さらには
エツチング液（プリントアンドエツチング法の場合）や
メツキ前処理剤・メツキ液（メツキ法の場合）が、レジ
ストと金属との界面から浸入し、レジスト浮き、エツチ
ング液の浸み込み、あるいはメツキもぐりなどを生じて
良好なパターン再現性が得られず、さらにはなはだしい
場合には断線やショートを惹き起こして不良品となるこ
ともある。

このように、銅張基板の銅面など金属面への感光性樹脂
組成物層の成層、露光、エツチング、メツキの段階では
レジスト−金属間の強固な密着性が要求されるが、その
後の工程である硬化レジスト除去工程においては、硬化
レジストが容易に剥離除去されることことが要求される
。

硬化レジストの剥離除去は、溶剤現像型の感光性樹脂組
成物の場合には溶剤を用いて比較的容易になされるが、
この種の溶剤として使われている塩化メチレンなどは毒
性を有しかつコストが高いので、工業的には制約がある
。

一方、！Ｉアルカリ現像型の感光性樹脂組成物の場合は
、硬化レジストの剥離除去をアルカリ剥離液を用いて行
うのが工業的には有利であり、最近ではこの方法が多く
採用されているが、剥離速度が遅いために生産性の低下
を招くこと、ハンダメツキの場合はＳｎ、Ｐｂのアルカ
リ溶出が起こることなどの問題点があり、また剥離状態
が不良であればレジスト残りや銅面の変色が生じ、エツ
チング不良やハンダ付は不良等の不良品を発生させるこ
とになる。

印刷配線板の高密度化が進むにつれて、回路形成のため
の稀アルカリ現像型レジストに要求される性能もきびし
くなり、■高感度、■高解像力、■迅速な現像スピード
、■良好なレジスト形成、■迅速なレジスト剥離速度と
剥離片の良好な分散性を同時に満足することが要求され
る。

特開昭６０−５７３３７号公報には、イソプロピルアル
コールを主成分とする溶媒中で溶液重合したバング−用
熱可塑性重合体溶液、分子中に少なくとも２個のエチレ
ン性不飽和基を有する架橋性単量体、および光重合開始
剤よりなる光重合性樹脂組成物につき開示があり、その
表３を見ると、剥離片がどのような形状で剥離するかが
示されている。

特開昭６２−４３６４２号公報には、−数式％式％ （式中、Ｒ，は水素原子またはメチル基、Ｒ２，は−Ｏ
Ｈ，０ＨＬ−ＯＲ３またはアルコール残基、Ｒ３は脂肪
酸残基または環式酸残基）のエチレン性不飽和化合物、
カルボキシル基含有フィルム形成性付与ポリマー、およ
び光開始剤または光開始剤系からなる光重合性組成物が
示されており、このものはアルカリ水溶液によるレジス
ト除去を、剥離片の形での膨潤除去でなく、アルカリ水
溶液中に完全溶解することにより除去できるとしている
。

特開昭６２−７５６３３号公報には、アクリル酸アルキ
ルエステル、メタクリル酸およびメタクリル酸アルキル
エステルを共重合成分とするアルカリ可溶のビニル系共
重合化合物であって、その共重合割合が異なるもの２種
の混合物からなる感光性樹脂組成物が示されており、こ
のものは、現像後のアルカリ水溶液によるレジストの剥
離除去に際し、剥離片が微細になるとしている。

特開昭６２−２０８０４４号公報には、剥離された光硬
化レジストが水酸化ナトリウム等の剥離液に難溶性とな
るようにするための光重合性８１Ｍ体として、カルボキ
シル基含有線状重合体に、式で示される化合物を光重合
可能なエチレン性不飽和化合物の少なくとも一部として
用いることが記載されている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来の技術の項で述べた■と■の要求性
能、すなわち、 ■　良好なレジスト形成。

■　迅速なレジスト剥離速度と剥離片の良好な分散性、 は相矛盾する性能であり、これら両者を同時に満足する
ことは難しい。

特開昭６０−５７３３７号公報の表３を見ると、バング
−用熱可塑性重合体の酸成分の共重合割合が多くなるほ
どレジストの剥離が容易になる反面、アルカリ水溶液に
対する溶解性が過度になることがわかり、酸成分が５０
重量％にもなると現像そのものが不可能になっている。

つまり、硬化レジストの剥離性を上げようとすると、現
像に際し未露光部だけでなく露光部まで溶解するおそれ
があり、そのバランスをとるのが難しいのである。

特開昭６２−４３６４２号公報においては、アルカリ水
溶液によるレジスト除去を、剥離片の形での膨潤除去で
なく、アルカリ水溶液中に「完全溶解」することにより
除去できるようにしているが、この方法はレジスト形状
の低下を招きやすい上、剥離処理後の剥離液の粘度が上
昇し、送水操作や排水処理が著しく行いにくくなるとい
う不利がある。

特開昭６２−７５６３３号公報は、共重合割合が異なる
もの２種のアルカリ可溶ビニル系共重合化合物の混合物
、つまり、■レジスト形状が良好で剥離片の分散性の劣
るポリマーと、■レジスト形状は劣るが剥離片の分散性
の良いポリマーとを併用することにより、現像後のアル
カリ水溶液によるレジストの剥離除去性を高めようとす
るものであるが、両ポリマーの欠点はそれぞれ内在して
いるため、必ずしも所期の目的を達成していない。

特開昭６２−２０８０４４号公報によれば、剥離片が剥
離液に難溶性とはなるが、剥離片の不溶率は実施例によ
れば５８〜８０％であってかなりの部分が溶解するため
、やはり所期の目的を十分には達成しえない。

本発明は、このような状況に鑑み、■高感度。

■高解像力、■迅速な現像スピード、■良好なレジスト
形成、■迅速なレジスト剥離速度と剥離片の良好な分散
性を同時に満足することができる感光性樹脂組成物を提
供することを目的になされたものである。

課題を解決するための手段 本発明の感光性樹脂組成物は、ベースポリマー（Ａ）、
光重合性モノマー（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）から
なる組成物であって、前記光重合性モノマー（Ｂ）の少
なくとも一部が、−数式 ＲはＨまたはＣ）１３　、　ｍ＋　ｎ＝　Ｏ〜２０）で
示されるトリシクロアルカン基含有アクリル系モツマ−
（ｂ）であることを特徴とするものである。

以下本発明の詳細な説明する。

ベースポリマー　Ａ ベースポリマー（Ａ）としては、従来よりベースポリマ
ー／光重合性モノマー／光重合開始剤系の感光性樹脂組
成物のベースポリマーとして用いられている種々のポリ
マー、たとえば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂
、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系
樹脂などが用いられる。

これらの中では、アクリル酸エステルまたは／およびメ
タクリル酸エステルを主成分とし、必要に応じエチレン
性不飽和カルボン酸や他の共重合可能な七ツマ−を共重
合したアクリル系樹脂が重要である。稀アルカリ現像型
とするときは、エチレン性不飽和カルボン酸を１５〜３
０重量％程度（酸価で１００〜２００■ｇＫＯＨ／ｇ程
度）共重合することが必要である。酸価が１００■ｇＫ
ＯＨ／ｇ未満では現像時間が長くなる上、粘着性が増加
し。

一方酸価が２００■ｇＫＯＨ／ｇを越えると、硬化物の
耐現像液性が低下して、像に歪が生ずるおそれがあるな
どレジスト形状に問題となる。アクリル系樹脂の重量平
均分子量は、塗膜性や膜強度の点から、３００００以上
であることが好ましい。

上記中アクリル酸エステルとしては、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルへ
キシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、グリシジルアクリレートなどが例示さ
れ、メタクリル酸エステルとしては、メチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２
−エチルへキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレートなどが例示される。

エチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン醸などのモノカルボン酸が好適に
用いられ、そのほか、マレイン酸、フマール酸、イタコ
ン酸などのジカルボン酸、あるいはそれらの無水物やハ
ーフエステルも用いることができる。これらの中では、
アクリル酸とメタクリル酸が好ましい、。

他の共重合可能上ツマ−としてはアクリルアミド、メタ
クリルアミド、アクリロニトリル１、メタクリレートリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテルなどが例示できる。

七ツマ−Ｂ 光重合性上ツマ−（Ｂ）としては、その少なくＲＲ ＲはＨまたはＣＨ３、ｍ＋　ｎ、＝　Ｏ〜２０）で示さ
れるトリシクロアルカン基含有アクリル系モノマ−（ｂ
）が用いられる。ｍ＋ｎが２０を越えると、親木性が過
多となってレジスト形状が悪くなる。

上記トリシクロアルカン基含有アクリル系モノマー（ｂ
）以外の光重合性モノマー（Ｂ）としては、エチレング
リコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジ
アクリレート、ブチレンゲリコールジアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、１．６−ヘキサ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、グリセリンジアクリレート、ペンタ
エリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート、２゜２−ビス（４−アクリロキシジェトキシ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシ
ポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３
−アクリロイルオキシプロピルアクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールアクリレート、エチレングリ
コールジグリシジルエーテルジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、１
．６−へキサメチルジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、フタル酸ジグリシジルエステルジアクリレート、グ
リセリンポリグリシジルエーテルポリアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジメタクリレート、ブチレンゲリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１．６−ヘキサンゲリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリ
セリンジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスストールトリメタクリレート
、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、２．
２−ビス（４−メタクリロキシジェトキシフェニル）プ
ロパン、２．２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキ
シフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−メタクリ
ロイルオキシプロピルメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ジエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、
１．６−へキサメチルジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、フタル酸ジグリシジルエステルジメタクリレー
ト、グリセリンポリグリシジルエーテルポリメタクリレ
ート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレー
トなどの多官能上ツマ−があげられる。これらの多官能
上ツマ−と共に、単官能モノマーを適当量併用すること
もできる。

単官能モノマーの例としては、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−フェノキシ−２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−アクリロイル
オキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロ
ロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセリン
モノアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルアシ
ッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフアクリレー
ト、Ｎ−メチロールアクリルアミドや、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−
フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
２−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフ
タレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、グリセリンモノメタクリレート、２−メタク
リロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル酸
誘導体のハーフメタクリレート、Ｎ−メチロールメタク
リルアミドなどがあげられる。

１ｒ　　　　　　　Ｃ 光重合開始剤（Ｃ）としては、たとえば、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
、ベンゾインインプロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブ
チルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジル
ジフェニルジスルフィド、ジベンジル、ジアセチル、ア
ントラキノン、ナフトキノン、３．３１−ジメチル−４
−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、ｐ。

Ｐ９−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４．４
”−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ヒバロイ
ンエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ｌ、１
−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロア
セトフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２．４−ジエチルチオキサントン、２
．２−ジェトキシアセトフェノン、２．２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、２．２−ジクロロ−４
−フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレー
ト、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベンゾスパ
ロン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒトａ
キシ−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４
−（メチルチオ）フェニル１−２−モルフォリノ−１−
７’ロバ／ン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロ
モメチルフェニルスルホンなどがあげられ、これらを適
当に組合せて、通常は染料と共に用いる。

醋丘皇邊 ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対する光重合性モ
ノマー（Ｂ）の割合は、１０〜２００重量部、特に４０
〜１００重量部の範囲から選ぶことが望ましい、光重合
性モノマー（Ｂ）の過少は硬化不良、可撓性の低下、現
像速度の遅延を招き、光重合性モノマー（Ｂ）の過多は
粘着性の増大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速
度低下をを招く。

光重合性モノマーＣＢ）に占めるトリシクロアルカン基
含有アクリル系モノマー（ｂ）の割合は、５〜１００重
量％、特に２０〜８０重量％であることが望ましい、ト
リシクロアルカン基含有アクリル系モノマー（ｂ）の割
合が余りに少ないときは所期の改善効果が達成されない
。

光重合開始剤（Ｃ）の配合割合は、ベースポリマー（Ａ
）と光重合性モノマー（Ｂ）との合計量に対し０．１〜
１０重量％程度とするのが適当である。

なお、上記各成分のほかに１重合禁止剤、溶剤、可塑剤
１着色剤１表面張カ改質剤、安定剤、消泡剤、密着性付
与剤、難燃剤などの公知の添加剤を配合することができ
る。

裏層１Ｂ 上記の感光性樹脂組成物は、これをポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルムな
どのベースフィルム面に塗工した後、その塗工面の上か
らポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィ
ルムなどの保護フィルムを被覆してドライフィルムとす
る。

ドライフィルムのほか、金属面に直接感光性樹脂組成物
を塗布成層することもできる。

ドライフィルムの場合は、ベースフィルムと感光性樹脂
組成物層との接着力および保護フィルムと感光性樹脂組
成物層との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルム
を剥離してから感光性樹脂組成物層の側を銅張基板の銅
面などの金属面に貼り付けた後、他方のフィルム上にパ
ターンマスクを密着させて露光する。感光性樹脂組成物
層が粘着性を有しないときは、前記他方のフィルムを剥
離してからパターンマスクを感光性樹脂組成物層に直接
接触させて露光することもできる。

金属面に直接塗工した場合は、その塗工面に直接または
ポリエステルフィルムなどを介してパターンマスクを接
触させ、露光に供する。

露光は通常紫外１照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
ャノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプなど
が用いられる。露光量は、４０〜１０００■Ｊ／Ｃ＠”
程度とすることが多い、紫外線照射後は、必要に応じ加
熱を行って硬化の完全を図ることもできる。

災Ｓ 露光後は、レジスト上のフィルムを剥離除去してから現
像を行う。

本発明の感光性樹脂組成物が稀アルカリ現像型であると
きは、露光後の現像は、炭酸ソーダ、水酸化ナトリウム
、炭酸カリウム、リン酸ソーダなどのアルカリの稀薄水
溶液を用いて行う、溶剤現像型であるときは、１，１．
１−トリクロロエタンなどの溶剤を用いて現像を行う。

ニー　ング　メ・キ エツチング法を採用するときは、塩化第二鉄水溶液や塩
化第二銅水溶液などのエツチング液を用いて常法に従っ
てエツチングを行う、メツキ法を採用するときは、脱脂
剤、ソフトエツチング剤などのメツキ前処理剤を用いて
前処理を行った後、メツキ液を用いてメツキを行う。

レジスト　　　　去 硬化レジストの剥離除去は、溶剤現像型の感光性樹脂組
成物の場合には、塩化メチレンなどの溶剤を用いて行う
、稀アルカリ現像型の感光性樹脂組成物の場合には、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの１〜５％程度の
濃度のアルカリ水溶液からなるアルカリ剥離液を用いて
行う。

ｆｆ１ｊ＆ 本発明の感光性樹脂組成物は、プリント配線板の製造用
、金属の精密加工用をはじめ１種々の用途に用いること
ができる。

作用および発明の効果 本発明の感光性樹脂組成物は、光重合性上ツマ−（Ｂ）
の少なくとも一部としてトリシクロアルカン基含有アク
リル系モノマ−（ｂ）を用いたため、金属との密着性が
良好であることはもとより、■高感度、■高解像力、■
迅速な現像スピード、■良好なレジスト形成、■迅速な
レジスト剥離速度と剥離片の良好な分散性を同時に満足
する、特に木来相矛盾するはずの■と■の性質を併せ有
するところが本発明の最大の特長点である。

実施例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

以下１部」、「％」とあるのは重量基準で表わしたもの
である。

（材料の準備〉 ベースポリマー　Ａ 重量平均分子量１０万、酸価１６０曽ｇＫＯＨ／ｇのメ
チルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／メタク
リル＃（重量比５５／２０／２５）共重合体のメチルエ
チルケトン／トルエン／メチルセロソルブ（重量比７０
／　ｌ　Ｏ／２０）混合溶剤による３５％溶液。

重量平均分子量８万、酸価１８０■ｇＫＯＨ／ｇのメチ
ルメタクリレート／２−エチルへキシルアクリレート／
ｎ−ブチルメタクリレート／メタクリル酸（重量比５０
／１８１５／２７）共重合体のメチルエチルケトン／ト
ルエン／メチルセロソルブ（重量比７０／１０／２０）
混合溶剤による３５％溶液。

−１（−モノマー　Ｂ ■トリシクロアルカン基含有アクリル系モノマー（ｂ） ＲはＨまたはＣＨ３、ｍ＋ｎ＝０〜２０）において、７
Ｈ３ とするとき。

ｂ−１：　　Ｙ＝ＹＩ、Ｒ＝Ｈ，ｍ＋ｎ＝０ｂ−２：　
　Ｙ＝Ｙ　　Ｒ＝Ｈ、ｔａ＋ｎ＝　２ｂ　−３：　　Ｙ
−Ｙ、、Ｒ＝Ｈ，！＋４！１＝１０ｂ　−４：　　　　
Ｙ−Ｙｚ、　　Ｒ−Ｈ、ｍ＋ｎ＝２０ｂ　−５：　　Ｙ
＝Ｙ、、Ｒ＝Ｈ，ｍ＋ｎ＝１０ｂ　−６：　　　　Ｙ＋
Ｙ２．、　　Ｒ−ＣＨ３、ｍａｎ−１０であるトリシク
ロアルカン基含有アクリル系モノマー。

■上記（ｂ）以外の光重合性子ツマ− ｂ　’−ｔ　　フェノキシポリエチレングリコールアク
リレート ｂ’−２トリメチロールプロパントリアクリレート ｂ’−３ポリエチレングリコール（ｎ　＝　１４）ジメ
タクリレート ｂ’−４２，２°−ビス（４−メタクリロキシポリエト
キシフェニル）プロパン Ｃよび の混合物。

（処方〉 下記の処方で感光性樹脂組成物を調製した。

実施例１の処方 また、上記処方におけるｂ−１２８部に代えて実施例２
ｂ−２２８部、 実施例３ｂ−３２８部、 実施例４ｂ−４２８部、 実施例５ｂ−５２８部、 実施例６ｂ−８２８部、 比較例１　　　ｂ’−２１０部とｂ’−３１８部、比較
例２　　　ｂ’−２１０部とｂ’−４１８部、比較例３
　　　ｂ’−３１０部とｂ’−４１８部を用いた場合（
比較例１〜３においてもｂｏ−１は使用）、および上記
処方におけるＡ−１に代えてＡ−２を１５４部用いた場
合（実施例６）につき。

それぞれ感光性樹脂組成物を調製した。

〈ドライフィルムの作成〉 上記組成物を均一に溶解後、２５　ｐ−ｒａ厚のポリエ
ステルフィルム上に塗布し、９５℃で１０分熱風乾燥機
にて乾燥後、その上から３０ｇｍ厚のポリエチレンフィ
ルムを積層した。乾燥後の感光性樹脂組成物層の厚みは
５０終膳であった。

〈銅張基板へのラミネート〉 このようにして得られたドライフィルムを、ラミネータ
ーを用いて、予め表面研磨、水洗、乾燥および加温を行
った銅厚３５終■の銅張基板各２枚に、ロール温度１１
０℃、ロール圧力３ｋｇ／Ｃ腸、ラミネート速度１．５
腸／ｓｅｃの条件でポリエチレンフィルムを剥離しなが
らラミネートした。

〈露光〉 次に、３ＫＷ超高圧水銀灯を光源とする露光機を用いて
、露光量が８０　ｍＪ／ｃｍ”となるように露光を行っ
た。

（現像〉 露光終了後、ポリエステルフィルムを剥離してから、温
度３０℃の１％炭酸ソーダ水溶液を使用して、スプレー
圧１．０ｋｇ／ｃ履２でスプレー現像を行った・ くエツチング〉 パターン露光基板につき、塩化第二銅酸性エツチング液
を用いて、液温５０℃、スプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ”
、　９０秒の条件でエツチングを行った。

〈硬化レジストの御離除去） 次に、３％水酸化ナトリウム水溶液を用いて、５０℃、
スプレー圧１　、５ｋｇ／ｃ■の条件で硬化レジスト（
大きさ１０ｃｍＸ　１０ｃｍ、全面露光）の剥離除去を
行った。

〈評価、測定〉 〈密着性） 露光した基板は、露光後１５分後および現像後１５分後
に、カッターでｉｔｓ角１００個のマス目の切り傷をつ
けてセロハン粘着テープによる剥離試験に供し、密着性
を調べた。

（現像速度およびレジスト形状） 露光を行わないものにつき上記の現像条件で現像を行い
、最小現像時間（銅面が完全に露出するまでの時間）を
測定した。

また、露光を行ったものにつき上記の現像条件で現像を
行い、レジスト形状（パターン切れの有無）を観察した
。

〈レジスト剥離速度、剥離片の分散性〉上述の剥離除去
操作において、完全剥離除去時間を測定すると共に、剥
離片の分散状態を観察した。

〈結果〉 以上、実施例１〜７および比較例１〜３の結果を第１表
に示す。

特許出願人　日本合成化学工業株式会社・「続７市−ｔ
−Ｌ　ｐシ　（ｚ：１発）平成１年　９Ｊ］　　９［１ 昭和６３年特、負願第２５９１２３Ｓ；２、発ＩＩの名
称 感光性樹脂組成物 ３、Ｊｌｔｉ正をする者 ・１９件との関係　　特許出願人 住所大阪市北区野崎町９番６号 名称　（４１０）　ＩＩ本合成化学工Ｘ株式会社代表者
　大　柿　雅　− ４、代理人　　〒５３３ 住　所　大阪市東淀用区東中島１丁［１１９番１１−３
大城ビル　　　　　　　（電話０６−：１２：ｌ−００
３８番）氏名　（８７８８）弁理士人石征部□−゛）５
、補正の対象 １５１則にの発明の詳細な説明の柚 ６、補正の内容 （１）本願１１Ｊ１１１．１；　ａ頁１０行の「へンダ
ー用」を「バインターＪＩＩＪと訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ベースポリマー（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）お
   よび光重合開始剤（Ｃ）からなる組成物であって、前記
   光重合性モノマー（Ｂ）の少なくとも一部が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｙ−は▲数式、化学式、表等があります▼ま
   たは▲数式、化学式、表等があります▼ ＲはＨまたはＣＨ＿３、ｍ＋ｎ＝０〜２０）で示される
   トリシクロアルカン基含有アクリル系モノマー（ｂ）で
   ある感光性樹脂組成物。 ２、ベースポリマー（Ａ）１００重量部に対する光重合
   性モノマー（Ｂ）の割合が１０〜２００重量部である請
   求項１記載の感光性樹脂組成物。 ３、光重合性モノマー（Ｂ）に占めるトリシクロアルカ
   ン基含有アクリル系モノマー（ｂ）の割合が５〜１００
   重量％である請求項１記載の感光性樹脂組成物。 ４、ベースポリマー（Ａ）がアクリル系樹脂である請求
   項１記載の感光性樹脂組成物。 ５、アクリル系樹脂がエチレン性不飽和カルボン酸成分
   を含む樹脂である請求項４記載の感光性樹脂組成物。 ６、ドライフィルム用の感光性樹脂組成物である請求項
   １記載の感光性樹脂組成物。