JPH02102552A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH02102552A JPH02102552A JP25480188A JP25480188A JPH02102552A JP H02102552 A JPH02102552 A JP H02102552A JP 25480188 A JP25480188 A JP 25480188A JP 25480188 A JP25480188 A JP 25480188A JP H02102552 A JPH02102552 A JP H02102552A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、フィルムキャリアを用いた半導体装置の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
[従来の技術]
半導体装置は、一般にリードフレームに設けたダイパッ
ドに半導体チップを取付け、半導体チップの外部電極と
リードフレームの端子とをそれぞれワイヤで接続し、半
導体チップとワイヤの周囲及び端子の一部を熱硬化性樹
脂あるいはセラミックでパッケージしたのち端子部分で
切断し、端子を適宜折曲げて製造している。このため、
パッケージが厚くなり、全体として大形になっている。
ドに半導体チップを取付け、半導体チップの外部電極と
リードフレームの端子とをそれぞれワイヤで接続し、半
導体チップとワイヤの周囲及び端子の一部を熱硬化性樹
脂あるいはセラミックでパッケージしたのち端子部分で
切断し、端子を適宜折曲げて製造している。このため、
パッケージが厚くなり、全体として大形になっている。
ところで、最近は電子機器の小形化、薄形化に伴なって
、これに使用する半導体装置も高密度実装するため、小
形で薄いものが要望されている。
、これに使用する半導体装置も高密度実装するため、小
形で薄いものが要望されている。
このような要望に応えるべく、絶縁樹脂フィルムのデバ
イスホールに半導体チップを配設し、この導体チップと
デバイスホールにオーバーハングしたフィンガーとを接
続した半導体装置(TAB実装方式)を液状樹脂で封止
する方法が実用化されている。
イスホールに半導体チップを配設し、この導体チップと
デバイスホールにオーバーハングしたフィンガーとを接
続した半導体装置(TAB実装方式)を液状樹脂で封止
する方法が実用化されている。
第6図は従来のTAB実装の一例を示すもので、先ず、
(a)図に示すように、フィルムキャリア1のデバイス
ホール2に半導体チップ5を配設し、半導体チップ5と
、フィルムキャリア1のデバイスホール2内にオーバー
ハングしたフィンガー3とを接続する。この状態で半導
体チップ5及びフィンガー3を含むフィルムキャリア1
に刷毛等により液状樹脂を塗布して硬化させ、あるいは
(b)図に示すように、注射筒の如き樹脂供給器17に
入れられた液状樹脂16に圧力を加えてノズル18から
滴下させ、(C)図に示すように、半導体チップ5及び
フィンガー3を被覆して硬化し、封止19する。
(a)図に示すように、フィルムキャリア1のデバイス
ホール2に半導体チップ5を配設し、半導体チップ5と
、フィルムキャリア1のデバイスホール2内にオーバー
ハングしたフィンガー3とを接続する。この状態で半導
体チップ5及びフィンガー3を含むフィルムキャリア1
に刷毛等により液状樹脂を塗布して硬化させ、あるいは
(b)図に示すように、注射筒の如き樹脂供給器17に
入れられた液状樹脂16に圧力を加えてノズル18から
滴下させ、(C)図に示すように、半導体チップ5及び
フィンガー3を被覆して硬化し、封止19する。
また、第7図に示すように、フィンガー3を含む半導体
チップ5を封止する範囲20に対応した大きさ、形状を
有する窓21を備えたマスク22を用いる方法が提案さ
れ、実用化されている。この方法は、第8図(a) 、
(b)に示すように、半導体チップ5が取付けられた
フィルムキャリア1に、窓21内に半導体チップ5が入
るようにマスク22を重ね合せ、マスク22上に載せた
液状の樹脂16を例えばスキージ23で矢印方向に移動
させて窓21内に充填し、(C)図に示すようにマスク
22を除去して硬化させ、封止19するようにしたもの
である。
チップ5を封止する範囲20に対応した大きさ、形状を
有する窓21を備えたマスク22を用いる方法が提案さ
れ、実用化されている。この方法は、第8図(a) 、
(b)に示すように、半導体チップ5が取付けられた
フィルムキャリア1に、窓21内に半導体チップ5が入
るようにマスク22を重ね合せ、マスク22上に載せた
液状の樹脂16を例えばスキージ23で矢印方向に移動
させて窓21内に充填し、(C)図に示すようにマスク
22を除去して硬化させ、封止19するようにしたもの
である。
[発明が解決しようとする課8]
第6図に示したTAB実装では、手作業又はロボット等
を使用し、半導体チップの形状に合せて1個ずつ封止し
ているので、きわめて面倒で多大の工数を要し、その上
半導体チップの形状に合わせてポツティングすること(
形状コントロール)が困難であった。さらに、ポツティ
ングの中央が盛り上って高くなり易いため薄くすること
が困難で、ときには頂面を削るようなこともあった。
を使用し、半導体チップの形状に合せて1個ずつ封止し
ているので、きわめて面倒で多大の工数を要し、その上
半導体チップの形状に合わせてポツティングすること(
形状コントロール)が困難であった。さらに、ポツティ
ングの中央が盛り上って高くなり易いため薄くすること
が困難で、ときには頂面を削るようなこともあった。
さらに、第8図で説明したTAB実装では、窓に液状封
止材料を充填した際、窓の下部から基板とマスクとの間
に毛細管現象により液状樹脂が侵入し、マスクを除去す
ると、(C)図に示すように封止19シた樹脂の外周が
パリ状に裾19aを引き、封止面積が大きくなるばかり
でなく、形状も不規則になって外観もよくないという問
題があった。
止材料を充填した際、窓の下部から基板とマスクとの間
に毛細管現象により液状樹脂が侵入し、マスクを除去す
ると、(C)図に示すように封止19シた樹脂の外周が
パリ状に裾19aを引き、封止面積が大きくなるばかり
でなく、形状も不規則になって外観もよくないという問
題があった。
また、特に重要なことは、何れの場合も耐湿性や耐熱衝
撃性の面で劣り、信頼性に欠けるという問題がある。
撃性の面で劣り、信頼性に欠けるという問題がある。
本発明は、上記の課題を解決すべくなされたもので、半
導体チップを自動的に封止することができ、しかも耐湿
性や耐熱衝撃性に優れた半導体装置を得ることのできる
半導体装置の製造方法を実現することを目的としたもの
である。
導体チップを自動的に封止することができ、しかも耐湿
性や耐熱衝撃性に優れた半導体装置を得ることのできる
半導体装置の製造方法を実現することを目的としたもの
である。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る半導体装置の製造方法は、長さ方向に等間
隔で形成された多数のデバイスホールにそれぞれ半導体
チップを配設し、該半導体チップの外部電極と前記各デ
バイスホールに設けたフィンガーとを接続してなる帯状
のフィルムキャリアを有し、該フィルムキャリアを間欠
的に射出成型機に送り込んで1個又は複数個の半導体チ
ップ及び前記フィンガーの一部を樹脂によりそれぞれ封
止するようにしたものである。
隔で形成された多数のデバイスホールにそれぞれ半導体
チップを配設し、該半導体チップの外部電極と前記各デ
バイスホールに設けたフィンガーとを接続してなる帯状
のフィルムキャリアを有し、該フィルムキャリアを間欠
的に射出成型機に送り込んで1個又は複数個の半導体チ
ップ及び前記フィンガーの一部を樹脂によりそれぞれ封
止するようにしたものである。
[発明の実施例]
第1図は本発明を実施するフィルムキャリアに半導体チ
ップを実装した状態を示す平面図、第2図はそのA−A
断面図である。図において、1は長さ方向に等間隔で多
数のデバイスホール2゜2a、2b、・・・が設けられ
たポリイミドフィルムからなる帯状のフィルムキャリア
(以下フィルムという)である。3はフィルム1に設け
られた銅の如き導電率の良好な金属からなる多数のフィ
ンガーで、先端部はデバイスホール2,2a、2b。
ップを実装した状態を示す平面図、第2図はそのA−A
断面図である。図において、1は長さ方向に等間隔で多
数のデバイスホール2゜2a、2b、・・・が設けられ
たポリイミドフィルムからなる帯状のフィルムキャリア
(以下フィルムという)である。3はフィルム1に設け
られた銅の如き導電率の良好な金属からなる多数のフィ
ンガーで、先端部はデバイスホール2,2a、2b。
・・・内にそれぞれ突出してオーバーハングしている。
4はフィルム1を搬送するためのスプロケット穴である
。5,5a、5b、・・・はデバイスホール2゜2a、
2b、・・・内に配設された半導体チップで、その外部
電極には各フィンガー3が直接接続されている。
。5,5a、5b、・・・はデバイスホール2゜2a、
2b、・・・内に配設された半導体チップで、その外部
電極には各フィンガー3が直接接続されている。
上記のような半導体チップ5,5a、5b、・・・が実
装されたフィルム1は、例えばリール12に巻回され、
第3図に示すように射出成型機8の一方の側に配設され
る。13は射出成型機8の他方の側に設けられた巻取り
リールである。
装されたフィルム1は、例えばリール12に巻回され、
第3図に示すように射出成型機8の一方の側に配設され
る。13は射出成型機8の他方の側に設けられた巻取り
リールである。
次に、フィルム1を矢印方向に送り出し、パッケージの
形状に整合した複数個の凹部が設けられた上型9と下型
lOとの間に、凹部に対応して半導体チップ5,5a、
5b、・・・が送り込まれたときは、フィルム1の送り
を停止する。ついで、第4図に示すように上型9を下降
させ、下型10を上昇させて凹部9a、lOaの間に半
導体チップ5゜5a、5b、・・・を含むフィルム1を
密封する。この状態で、注入穴11から各凹部9a、l
oa内に熱可塑性樹脂を高圧で注入し、半導体チップら
の下面を除く周囲及びフィンガー3の一部を封止し、パ
ッケージ6.6a、6b、・・・を成型する。
形状に整合した複数個の凹部が設けられた上型9と下型
lOとの間に、凹部に対応して半導体チップ5,5a、
5b、・・・が送り込まれたときは、フィルム1の送り
を停止する。ついで、第4図に示すように上型9を下降
させ、下型10を上昇させて凹部9a、lOaの間に半
導体チップ5゜5a、5b、・・・を含むフィルム1を
密封する。この状態で、注入穴11から各凹部9a、l
oa内に熱可塑性樹脂を高圧で注入し、半導体チップら
の下面を除く周囲及びフィンガー3の一部を封止し、パ
ッケージ6.6a、6b、・・・を成型する。
パッケージ6.6a、6bが固化したときは、上型9と
下型lOを開放して巻取リリール13を回転させ、成型
が終ったパッケージ6.6a、6b。
下型lOを開放して巻取リリール13を回転させ、成型
が終ったパッケージ6.6a、6b。
・・・を上型9と下型lOの外へ移動させ、次の半導体
チップを上型9と下型10の間に位置させる。同様にし
て半導体チップ5を1個又は複数個ずつパッケージし、
順次巻取りリール13に巻取る。このようにして、半導
体チップ5.5a、5b、・・・が実装された帯状のフ
ィルム1は、間欠的に送られてすべての半導体チップ5
,5a、5b、・・・かパッケージされ、巻取りリール
13に巻取られる。
チップを上型9と下型10の間に位置させる。同様にし
て半導体チップ5を1個又は複数個ずつパッケージし、
順次巻取りリール13に巻取る。このようにして、半導
体チップ5.5a、5b、・・・が実装された帯状のフ
ィルム1は、間欠的に送られてすべての半導体チップ5
,5a、5b、・・・かパッケージされ、巻取りリール
13に巻取られる。
パッケージされた半導体装置7を基板に実装する場合は
、フィルム1を巻取りリール13から巻戻し、第1図に
示すようにパッケージ6の1点鎖線Cの位置でフィンガ
ー3を切断すれば、薄くかっ小形の半導体装置7が得ら
れる。次に、第5図に示すようにこの半導体装置7を基
板14の表面に当接し、各フィンガー3を基板14に設
けた配線パターン15にそれぞれ接続すれば、実装が完
了する。
、フィルム1を巻取りリール13から巻戻し、第1図に
示すようにパッケージ6の1点鎖線Cの位置でフィンガ
ー3を切断すれば、薄くかっ小形の半導体装置7が得ら
れる。次に、第5図に示すようにこの半導体装置7を基
板14の表面に当接し、各フィンガー3を基板14に設
けた配線パターン15にそれぞれ接続すれば、実装が完
了する。
上記のような半導体装置の製造方法において、パッケー
ジに使用する熱可塑性樹脂には、分子が一方向に配向す
る液晶ポリマやポリフェニルサルフオン(P P S)
の如く線膨張率の小さい樹脂に、フィシ(シリカ等)を
混入して線膨張率を2 X 10−5以下に調整し、か
つはんだ耐熱試験温度(260℃)によっても熱変形し
ないものを使用した。この結果大形の半導体チップ(6
X9關)にパッケージを施した場合でも、クラックが生
じなかった。
ジに使用する熱可塑性樹脂には、分子が一方向に配向す
る液晶ポリマやポリフェニルサルフオン(P P S)
の如く線膨張率の小さい樹脂に、フィシ(シリカ等)を
混入して線膨張率を2 X 10−5以下に調整し、か
つはんだ耐熱試験温度(260℃)によっても熱変形し
ないものを使用した。この結果大形の半導体チップ(6
X9關)にパッケージを施した場合でも、クラックが生
じなかった。
上記のようにして製造した半導体装置と、従来の液状封
止剤を使用して封止したTAB実装半導体装置とを、−
65℃(30分)、常温(10分)150℃(30分)
、常温(10分)の80分サイクルで繰返して温度試験
を行なった結果を、表1に示す。
止剤を使用して封止したTAB実装半導体装置とを、−
65℃(30分)、常温(10分)150℃(30分)
、常温(10分)の80分サイクルで繰返して温度試験
を行なった結果を、表1に示す。
表 1
[注コ表1中分母は試験個数、分子は不良発生個数を示
す。
す。
表1から明らかなように、従来のTAB実装半導体装置
は、250サイクルで約13%の不良品が発生し、t、
oooサイクルで全数不良品となったが、本発明によっ
て製造した半導体装置は750〜1.000サイクルで
約3%の不良品が発生したにすぎなかった。
は、250サイクルで約13%の不良品が発生し、t、
oooサイクルで全数不良品となったが、本発明によっ
て製造した半導体装置は750〜1.000サイクルで
約3%の不良品が発生したにすぎなかった。
また、温度85℃、湿度85%の雰囲気中に半導体装置
を配設し、6Vの電圧を印加して通電耐湿試験を行なっ
た結果を、表2に示す。
を配設し、6Vの電圧を印加して通電耐湿試験を行なっ
た結果を、表2に示す。
表 2
このように、従来のTAB実装半導体装置は500時間
で不良品が発生し始め、2000時間では40%以上の
不良品が発生したが、本発明に係る半導体装置は1.5
00時間で不良品が発生し、2000時間でも僅かに6
〜7%に止まった。
で不良品が発生し始め、2000時間では40%以上の
不良品が発生したが、本発明に係る半導体装置は1.5
00時間で不良品が発生し、2000時間でも僅かに6
〜7%に止まった。
表1、表2から明らかなように、本発明によって製造し
た半導体装置は、液状封止剤を使用して封止した従来の
TAB実装半導体装置に比べて、信頼性の面で各段に優
れていることが明らかになった。
た半導体装置は、液状封止剤を使用して封止した従来の
TAB実装半導体装置に比べて、信頼性の面で各段に優
れていることが明らかになった。
本発明に係る半導体装置の製造にあたり、パッケージに
熱可塑性樹脂を使用した場合は、成型の際に成型歩留り
落ちした樹脂(20〜30%ある)を再生できるので材
料費を低減することができる。
熱可塑性樹脂を使用した場合は、成型の際に成型歩留り
落ちした樹脂(20〜30%ある)を再生できるので材
料費を低減することができる。
また、成型後の冷却時間も極く短かいので全体として成
型時間を大幅に短縮することができ、生産性を向上させ
ることができる。
型時間を大幅に短縮することができ、生産性を向上させ
ることができる。
上記の説明では、半導体チップが取付けられた帯状のフ
ィルムをリールに巻いて射出成型機の近傍に配置し、こ
れを間欠的に射出成型機に送り込[注]表2中分母は試
験個数、分子は不良発生個数を示す。
ィルムをリールに巻いて射出成型機の近傍に配置し、こ
れを間欠的に射出成型機に送り込[注]表2中分母は試
験個数、分子は不良発生個数を示す。
んでパッケージする場合について説明したが、必ずしも
リールに巻回する必要はなく、帯状のま−で射出成型機
に送り込んでもよい。また、熱可塑性樹脂によりパッケ
ージを成型する場合について説明したが、若干能率が悪
く、成型歩留り落ちの利用もできない欠点はあるけれど
も、熱硬化性樹脂を用いてパッケージを成型してもよい
。
リールに巻回する必要はなく、帯状のま−で射出成型機
に送り込んでもよい。また、熱可塑性樹脂によりパッケ
ージを成型する場合について説明したが、若干能率が悪
く、成型歩留り落ちの利用もできない欠点はあるけれど
も、熱硬化性樹脂を用いてパッケージを成型してもよい
。
[発明の効果]
以上の説明から明らかなように、本発明はフィルムキャ
リアに半導体チップを取付け、帯状のままで射出成型機
によりパッケージを成型して小形かつ薄形の半導体装置
を製造するようにしたので、自動化が容易になるばかり
でなく、従来の液状封止剤によるTAB実装方式の半導
体装置に比べて生産性が大幅に向上し、また耐熱衝撃性
や耐湿性が著しく向上して信頼性を高めることができる
等、実施による効果大である。
リアに半導体チップを取付け、帯状のままで射出成型機
によりパッケージを成型して小形かつ薄形の半導体装置
を製造するようにしたので、自動化が容易になるばかり
でなく、従来の液状封止剤によるTAB実装方式の半導
体装置に比べて生産性が大幅に向上し、また耐熱衝撃性
や耐湿性が著しく向上して信頼性を高めることができる
等、実施による効果大である。
第1図は本発明に係るフィルムキャリアに半導体チップ
を実装した例を示す平面図、第2図はそのA−A断面図
、第3図はパッケージの成型状態を示す模式図、第4図
は射出成型機によるパッケージの成型を説明するための
断面図、第5図は本発明によって製造した半導体装置の
実施例を示す断面図、第6図(a)〜(C)は従来のポ
ツティングによるTAB実施例を示す説明図、第7図は
印刷用マスクの一例の説明図、第8図(a)〜(c)は
従来の印刷によるTAB実施例の説明図である。 1:フィルム、2.2a、2b:デバイスホール、3:
フィンガー 5.5a、5b二半導体チップ、6.5a
、6b:パッケージ、7;半導体装置、8:射出成型機
。
を実装した例を示す平面図、第2図はそのA−A断面図
、第3図はパッケージの成型状態を示す模式図、第4図
は射出成型機によるパッケージの成型を説明するための
断面図、第5図は本発明によって製造した半導体装置の
実施例を示す断面図、第6図(a)〜(C)は従来のポ
ツティングによるTAB実施例を示す説明図、第7図は
印刷用マスクの一例の説明図、第8図(a)〜(c)は
従来の印刷によるTAB実施例の説明図である。 1:フィルム、2.2a、2b:デバイスホール、3:
フィンガー 5.5a、5b二半導体チップ、6.5a
、6b:パッケージ、7;半導体装置、8:射出成型機
。
Claims (1)
- 長さ方向に等間隔で形成された多数のデバイスホールに
それぞれ半導体チップを配設し、該半導体チップの外部
電極と前記各デバイスホールに設けたフィンガーとを接
続してなる帯状のフィルムキャリアを有し、該フィルム
キャリアを間欠的に射出成型機に送り込んで1個又は複
数個の半導体チップ及び前記フィンガーの一部を樹脂に
よりそれぞれ封止することを特徴とする半導体装置の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63254801A JPH07120683B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63254801A JPH07120683B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02102552A true JPH02102552A (ja) | 1990-04-16 |
JPH07120683B2 JPH07120683B2 (ja) | 1995-12-20 |
Family
ID=17270081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63254801A Expired - Lifetime JPH07120683B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07120683B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019225525A1 (ja) * | 2018-05-22 | 2019-11-28 | デンカ株式会社 | 半導体封止プロセス用離型フィルム及びそれを用いた電子部品の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59204245A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の樹脂封止方法 |
JPS6142616A (ja) * | 1984-08-03 | 1986-03-01 | Hamamatsu Photonics Kk | 音響光学素子によるフレネルゾ−ンプレ−ト |
JPS6148257A (ja) * | 1984-08-15 | 1986-03-08 | Hitachi Ltd | 通信回線制御装置 |
-
1988
- 1988-10-12 JP JP63254801A patent/JPH07120683B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07120683B2 (ja) | 1995-12-20 |
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