JPH01161724A - 表面実装用半導体装置の製造方法 - Google Patents
表面実装用半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH01161724A JPH01161724A JP62318500A JP31850087A JPH01161724A JP H01161724 A JPH01161724 A JP H01161724A JP 62318500 A JP62318500 A JP 62318500A JP 31850087 A JP31850087 A JP 31850087A JP H01161724 A JPH01161724 A JP H01161724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- pattern
- semiconductor device
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 23
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 abstract description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 16
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 16
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16245—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は小型・薄型な表面実装用半導体装置の製造およ
び生産性向上に関するものである。
び生産性向上に関するものである。
表面実装用半導体装置の代表的なものとしてスモールア
ウトラインパッケージ(sop )、ファラドフラット
パッケージ(QFP)、プラスチックリープイツトチッ
プキャリア(PLCC)等が挙げられるが、どれもリー
ドフレームを使用して電極を取り出し、高価な金型を用
いトランスファーモールド法により樹脂封止される。さ
らに外部リードを切り離してリードを独立させた後、リ
ードを所定の形に折り曲げる工程を経ている。
ウトラインパッケージ(sop )、ファラドフラット
パッケージ(QFP)、プラスチックリープイツトチッ
プキャリア(PLCC)等が挙げられるが、どれもリー
ドフレームを使用して電極を取り出し、高価な金型を用
いトランスファーモールド法により樹脂封止される。さ
らに外部リードを切り離してリードを独立させた後、リ
ードを所定の形に折り曲げる工程を経ている。
以上の如〈従来技術においてはリードフレームを使用す
るために、表面実装用半導体装置の小型化φ薄型化が困
難であり、さらに高価な金型を用いる樹脂封止やリード
加工の工程を有するために生産性、製品の不均一性など
の問題点がある。
るために、表面実装用半導体装置の小型化φ薄型化が困
難であり、さらに高価な金型を用いる樹脂封止やリード
加工の工程を有するために生産性、製品の不均一性など
の問題点がある。
本発明はこのような欠点を解消させ、小型・薄型で生産
性の高い表面実装用半導体装置の製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
性の高い表面実装用半導体装置の製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
本発明の構成は、所定のパターンを形成した樹脂系基板
上に、半導体素子の電極を導電性物質を用いて接続し、
封止樹脂により樹脂系基板の片面をパターンと半導体素
子を覆うように封止した後。
上に、半導体素子の電極を導電性物質を用いて接続し、
封止樹脂により樹脂系基板の片面をパターンと半導体素
子を覆うように封止した後。
樹脂系基板を除去し前記パターンを半導体装置の電極と
する工程を有することを特徴とする表面実装用半導体装
置の製造方法である。
する工程を有することを特徴とする表面実装用半導体装
置の製造方法である。
本発明によると従来技術では必要とされたリードフレー
ムが不要となり従来よりも小型で薄型な表面実装用半導
体装置が得られ、さらに樹脂系基板の片面のみの樹脂封
止により従来技術に比べ金型が安価となること、リード
加工工程も不要であることから、生産性の向上、製品の
均一化が計れる。
ムが不要となり従来よりも小型で薄型な表面実装用半導
体装置が得られ、さらに樹脂系基板の片面のみの樹脂封
止により従来技術に比べ金型が安価となること、リード
加工工程も不要であることから、生産性の向上、製品の
均一化が計れる。
以下図面を用いて本発明の詳細な説明する。
実施例1
本発明の表面実装用半導体装置における第1の実施例を
第1図(a)、(b)を用いて説明する。
第1図(a)、(b)を用いて説明する。
第1図[a)に示すように、銅を材料とし所定のパター
ン12を形成したポリイミド系の・基板14上に突起電
極16を設けた半導体素子18を導電性物質20例えば
導電ペーストを用いてフェイスダウンボンディングする
。その後、封止樹脂22として例えばエポキシ系封止樹
脂を使用しトランス ′ファーモールド法によりポリイ
ミド系の基板140片側に位置する半導体素子18とポ
リイミド系の基板14との空隙および半導体素子18の
表面を樹脂封止する。
ン12を形成したポリイミド系の・基板14上に突起電
極16を設けた半導体素子18を導電性物質20例えば
導電ペーストを用いてフェイスダウンボンディングする
。その後、封止樹脂22として例えばエポキシ系封止樹
脂を使用しトランス ′ファーモールド法によりポリイ
ミド系の基板140片側に位置する半導体素子18とポ
リイミド系の基板14との空隙および半導体素子18の
表面を樹脂封止する。
次に第1図(b)に示すよ5にポリイミド系の基板14
を剥離する。
を剥離する。
第1図(a)の断面構造において、ポリイミド系の基板
14のパターン12を形成すえ側の表面を鏡面にし、こ
の面に無電界メツキ法等によって銅を所定めパターン1
2に形成する。
14のパターン12を形成すえ側の表面を鏡面にし、こ
の面に無電界メツキ法等によって銅を所定めパターン1
2に形成する。
さらにパターン12の封止樹脂22のエポキシ系封止樹
脂と接する側は機械的処理や化学的処理により粗面にす
ることによって、ポリイミド系の基板14を剥離する際
パターン12は、封止樹脂22に接合したまま、ポリイ
ミド系の基板14のみが剥離され第1図(b)の断面構
造および第2図の底面を有する表面実装用半導体装置を
完成する。
脂と接する側は機械的処理や化学的処理により粗面にす
ることによって、ポリイミド系の基板14を剥離する際
パターン12は、封止樹脂22に接合したまま、ポリイ
ミド系の基板14のみが剥離され第1図(b)の断面構
造および第2図の底面を有する表面実装用半導体装置を
完成する。
実施例1ではポリイミド系基板14と半導体素子18の
突起電極16との接続に導電性ペーストを、また樹脂封
止法としてトランスファーモールド法を用いたが、基板
14と半導体素子18の電極との接続には一般的なワイ
ヤボンディング法やフリップチップ法を、また樹脂封止
法として注型法や滴下法を用いても同じ効果がある。
突起電極16との接続に導電性ペーストを、また樹脂封
止法としてトランスファーモールド法を用いたが、基板
14と半導体素子18の電極との接続には一般的なワイ
ヤボンディング法やフリップチップ法を、また樹脂封止
法として注型法や滴下法を用いても同じ効果がある。
第3図は、ワイヤボンディング法によりポリイミド基板
14上に半導体素子18を接続し、実施例1と同様に完
成した表面実装用半導体装置の断面図である。
14上に半導体素子18を接続し、実施例1と同様に完
成した表面実装用半導体装置の断面図である。
実施例2
本発明の表面実装用半導体装置における第2の実施例を
第4図(a)、(b)を用いて説明する。
第4図(a)、(b)を用いて説明する。
第4図(a)に示すように表面に高さ50μm程度の突
起を半導体素子18の電極と対応する位置に設けたポリ
イミド系の基板24上に、導電性物質26として例えば
エポキシ系導電ペーストを所定のパターンにスクリーン
印刷し、半導体素子18の電極がポリイミド系の基板2
4表面の突起上の導電性物質26のエポキシ系導電ペー
ストにより機械的かつ電気的に接続されるよう半導体素
子18をフェイスダウンボンディングする。その後、エ
ポキシ系の封止樹脂22を使用しトランスファーモール
ド法によりポリイミド系の基板240片側に位置する半
導体素子18と基板24との空隙および半導体素子18
の表面を樹脂封止する。
起を半導体素子18の電極と対応する位置に設けたポリ
イミド系の基板24上に、導電性物質26として例えば
エポキシ系導電ペーストを所定のパターンにスクリーン
印刷し、半導体素子18の電極がポリイミド系の基板2
4表面の突起上の導電性物質26のエポキシ系導電ペー
ストにより機械的かつ電気的に接続されるよう半導体素
子18をフェイスダウンボンディングする。その後、エ
ポキシ系の封止樹脂22を使用しトランスファーモール
ド法によりポリイミド系の基板240片側に位置する半
導体素子18と基板24との空隙および半導体素子18
の表面を樹脂封止する。
次に第4図(b)に示すようにポリイミド系の基板24
を剥離する。
を剥離する。
第4図(a)の断面構造において、ポリイミド系の基板
24の突起を設けた側の表面を鏡面にすることにより、
ポリイミド系基板24を剥離する際エポキシ系導電ペー
スト26はエポキシ系封止樹脂22に接合したまま、ポ
リイミド系基板24のみが容易に剥離され、第4図(b
)の断面構造および第5図の底面を有する表面実装用半
導体装置が完成する。
24の突起を設けた側の表面を鏡面にすることにより、
ポリイミド系基板24を剥離する際エポキシ系導電ペー
スト26はエポキシ系封止樹脂22に接合したまま、ポ
リイミド系基板24のみが容易に剥離され、第4図(b
)の断面構造および第5図の底面を有する表面実装用半
導体装置が完成する。
実施例2では樹脂封止法としてトランスファーモールド
法を用いたが、注型法や滴下法を用いても同じ効果があ
る。
法を用いたが、注型法や滴下法を用いても同じ効果があ
る。
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、従来技
術では必要とされたリードフレームが不要となり従来よ
りも小型で薄型な表面実装用半導体装置が得られ、さら
に樹脂系基板の片面の為の樹脂封止で済むために従来技
術に比べ金型が安価となること、リード加工工程も不要
であることから、生産性の向上、製品の均一化が計れる
。
術では必要とされたリードフレームが不要となり従来よ
りも小型で薄型な表面実装用半導体装置が得られ、さら
に樹脂系基板の片面の為の樹脂封止で済むために従来技
術に比べ金型が安価となること、リード加工工程も不要
であることから、生産性の向上、製品の均一化が計れる
。
また実施例2では突起電極が不要であるとともに、ワイ
ヤボンディング法も用いないために製造コストの削減が
計られる。
ヤボンディング法も用いないために製造コストの削減が
計られる。
さらに本発明において樹脂系基板を長い帯状にすること
によって製造ラインを容易に連続化できるため、生産性
をより向上させることができる。
によって製造ラインを容易に連続化できるため、生産性
をより向上させることができる。
本発明によるところの表面実装用半導体装置の薄さは、
例えば実施例1において半導体素子の厚さを400μm
、突起電極の高さを50μm、パターンの厚さを70μ
m1半導体素子上層の封止樹脂の厚さを100μmとし
たとき、□全体の厚さは620μmとなる。
例えば実施例1において半導体素子の厚さを400μm
、突起電極の高さを50μm、パターンの厚さを70μ
m1半導体素子上層の封止樹脂の厚さを100μmとし
たとき、□全体の厚さは620μmとなる。
第1図(a)、lblは本発明における第1の実施例を
示す工程断面図、第2図は第1図(b)に対応する平面
図、第3図は本発明の第1の実施例における半導体素子
と基板をワイヤボンディングにより接続した状態を示す
断面図、第4図(a)、(b)は本発明における第2の
実施例を示す工程断面図、第5図は第4図(b)に対応
する平面図である。 12・・・・・・パターン、 14.24・・・・・・基板、 18・・・・・・半導体素子、 20.26・・・・・・導電性物質、 22・・・・・・封止樹脂。 第1図 第2図 第5図
示す工程断面図、第2図は第1図(b)に対応する平面
図、第3図は本発明の第1の実施例における半導体素子
と基板をワイヤボンディングにより接続した状態を示す
断面図、第4図(a)、(b)は本発明における第2の
実施例を示す工程断面図、第5図は第4図(b)に対応
する平面図である。 12・・・・・・パターン、 14.24・・・・・・基板、 18・・・・・・半導体素子、 20.26・・・・・・導電性物質、 22・・・・・・封止樹脂。 第1図 第2図 第5図
Claims (1)
- 所定のパターンを形成した樹脂系基板上に、半導体素
子の電極を導電性物質を用いて接続し、封止樹脂により
前記樹脂系基板の片面を前記パターンと半導体素子を覆
うように封止した後、前記樹脂系基板を除去し前記パタ
ーンを半導体装置の電極とする工程を有することを特徴
とする表面実装用半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62318500A JPH01161724A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 表面実装用半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62318500A JPH01161724A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 表面実装用半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01161724A true JPH01161724A (ja) | 1989-06-26 |
Family
ID=18099814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62318500A Pending JPH01161724A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 表面実装用半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01161724A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5273938A (en) * | 1989-09-06 | 1993-12-28 | Motorola, Inc. | Method for attaching conductive traces to plural, stacked, encapsulated semiconductor die using a removable transfer film |
US5554887A (en) * | 1993-06-01 | 1996-09-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plastic molded semiconductor package |
US5963433A (en) * | 1996-12-28 | 1999-10-05 | Lg Semicon Co., Ltd. | Bottom lead semiconductor package with recessed leads and fabrication method thereof |
EP0773584A3 (en) * | 1995-11-08 | 2000-02-02 | Fujitsu Limited | Device having resin package and method of producing the same |
US6159770A (en) * | 1995-11-08 | 2000-12-12 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for fabricating semiconductor device |
USRE37413E1 (en) * | 1991-11-14 | 2001-10-16 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Semiconductor package for a semiconductor chip having centrally located bottom bond pads |
US6329711B1 (en) * | 1995-11-08 | 2001-12-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and mounting structure |
US6573121B2 (en) | 1995-11-08 | 2003-06-03 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, method for fabricating the semiconductor device, lead frame and method for producing the lead frame |
DE4421077B4 (de) * | 1993-06-23 | 2007-01-04 | Goldstar Electron Co., Ltd., Cheongju | Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2014140080A (ja) * | 2014-05-07 | 2014-07-31 | Rohm Co Ltd | 高効率モジュール |
-
1987
- 1987-12-18 JP JP62318500A patent/JPH01161724A/ja active Pending
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5273938A (en) * | 1989-09-06 | 1993-12-28 | Motorola, Inc. | Method for attaching conductive traces to plural, stacked, encapsulated semiconductor die using a removable transfer film |
USRE37413E1 (en) * | 1991-11-14 | 2001-10-16 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Semiconductor package for a semiconductor chip having centrally located bottom bond pads |
US5554887A (en) * | 1993-06-01 | 1996-09-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plastic molded semiconductor package |
US5710062A (en) * | 1993-06-01 | 1998-01-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plastic molded semiconductor package and method of manufacturing the same |
US5834340A (en) * | 1993-06-01 | 1998-11-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plastic molded semiconductor package and method of manufacturing the same |
US6046071A (en) * | 1993-06-01 | 2000-04-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plastic molded semiconductor package and method of manufacturing the same |
DE4421077B4 (de) * | 1993-06-23 | 2007-01-04 | Goldstar Electron Co., Ltd., Cheongju | Halbleitergehäuse und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6573121B2 (en) | 1995-11-08 | 2003-06-03 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, method for fabricating the semiconductor device, lead frame and method for producing the lead frame |
US6159770A (en) * | 1995-11-08 | 2000-12-12 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for fabricating semiconductor device |
US6329711B1 (en) * | 1995-11-08 | 2001-12-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and mounting structure |
EP1284501A1 (en) * | 1995-11-08 | 2003-02-19 | Fujitsu Limited | Device having resin package and method of producing the same |
EP1291911A1 (en) * | 1995-11-08 | 2003-03-12 | Fujitsu Limited | Method having resin package and method of producing the same |
EP0773584A3 (en) * | 1995-11-08 | 2000-02-02 | Fujitsu Limited | Device having resin package and method of producing the same |
US6856017B2 (en) | 1995-11-08 | 2005-02-15 | Fujitsu Limited | Device having resin package and method of producing the same |
US7144754B2 (en) | 1995-11-08 | 2006-12-05 | Fujitsu Limited | Device having resin package and method of producing the same |
US5963433A (en) * | 1996-12-28 | 1999-10-05 | Lg Semicon Co., Ltd. | Bottom lead semiconductor package with recessed leads and fabrication method thereof |
JP2014140080A (ja) * | 2014-05-07 | 2014-07-31 | Rohm Co Ltd | 高効率モジュール |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4974057A (en) | Semiconductor device package with circuit board and resin | |
JPH0982741A (ja) | チップキャリアの構造およびその製造方法 | |
JPH10163405A (ja) | 集積回路パッケージ、パッケージ入りウエハおよびウエハ・レベル・パッケージ処理方法 | |
JPH0722474A (ja) | 半導体パッケージおよびその製造方法 | |
JP3837215B2 (ja) | 個別半導体装置およびその製造方法 | |
TWI642160B (zh) | 用於四方平面無引腳封裝的導線架結構、四方平面無引腳封裝及形成導線架結構的方法 | |
JPH01161724A (ja) | 表面実装用半導体装置の製造方法 | |
CN106128965A (zh) | 一种无基板封装器件的制作方法 | |
JPH10135366A (ja) | Bga半導体パッケージの外部端子の製造方法 | |
GB2247988A (en) | Lead frame for semiconductor device | |
JP3611463B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP2682200B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2002151531A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS589585B2 (ja) | デンシブヒンヨウリ−ドフレ−ム | |
KR0169818B1 (ko) | 반도체 소자의 마이크로 범프 제조방법 | |
JP2768160B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0722450A (ja) | 半導体製造装置 | |
KR0125781B1 (ko) | 반도체 패키지 및 그 제조공정 | |
JPH03105961A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JP2776697B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH09270435A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS63255954A (ja) | 混成集積回路装置 | |
JPH0536893A (ja) | 混成集積回路 | |
JPS63120454A (ja) | 半導体装置 | |
JPS62173746A (ja) | リ−ドフレ−ムとその製造方法 |