JPH0198891A - 連続処理装置 - Google Patents

連続処理装置

Info

Publication number
JPH0198891A
JPH0198891A JP62254278A JP25427887A JPH0198891A JP H0198891 A JPH0198891 A JP H0198891A JP 62254278 A JP62254278 A JP 62254278A JP 25427887 A JP25427887 A JP 25427887A JP H0198891 A JPH0198891 A JP H0198891A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
heated
moving
furnace
processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62254278A
Other languages
English (en)
Inventor
Seijiro Kawada
川田 静二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DENKOO KK
Denkoh Co Ltd
Original Assignee
DENKOO KK
Denkoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DENKOO KK, Denkoh Co Ltd filed Critical DENKOO KK
Priority to JP62254278A priority Critical patent/JPH0198891A/ja
Publication of JPH0198891A publication Critical patent/JPH0198891A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、連続処理装置に関し、例えば、熱処理その他
の処理を連続的に施す連続処理装置に関する。
口、従来技術 半導体部品や、セラミックス基板にスクリーン印刷によ
って所定の回路パターンを形成し、焼成してなる厚膜集
積回路、或いは配向膜や偏向膜が形成された液晶表示装
置用ガラス基板等の電子部品の熱処理にあっては、塵埃
の付着によって電子部品の品質が甚だしく劣化するので
、清浄な雰囲気中で熱処理がなされる必要がある。
上・配電子部品の熱゛処理を塵埃のない清浄な雰囲気中
で連続的にけう熱処理炉として、炉内に摺動する部分が
なく、従って塵埃の発生しない所謂ウオーキングビーム
式1般送機構を用いた連続熱処理炉の採用が考えられる
このウオーキングビーム搬送機構は、長形の炉本体の長
さ方向の一端側入口から他端側出口に亘って炉本体内を
貫通する複数本の位置固定された平行棒材からなる固定
ビームと、この固定ビームに平行して上記と同様に炉本
体内を貫通する複数本の平行棒材からな°りかつ前記固
定ビームに対する関係位置が上下及び長さ方向の前後に
変位可能に設けられた移動ビームとを備えている。そし
て、駆動装置によって前記移動ビームを駆動して、この
移動ビームを前記固定ビームに対して上昇、前進、下降
、後退の順に反復して周期的に変位運動させることによ
り、炉本体内で被加熱物を前記両ビームに交互に載置さ
せるようにしながら炉本体の長さ方向に漸次搬送するよ
うに構成されている。
このような搬送機構を備えた連続熱処理炉は、通宝、m
片や鋼管等の熱処理に使用されている。
上記のウオーキングビーム1絞送機構を備えた熱処理炉
では、固定ビームと移動ビームとの1対のビーム間で被
加熱物を交互に載置しながら搬送しているので、処理量
を大きくするには、炉長を長くして搬送速度を速めるか
、同種の熱処理炉を複数台設置するかしなければならず
、熱処理炉設置のために広いスペースを必要とするよう
になり、工場内のスペースの制約から、生産量の増大を
図ることが困難な場合が多い、従って、熱処理炉の占有
面積を甚だしくは大きくせずに処理量を増大することが
できる連続熱処理炉の開発が望まれている。また、処理
量が同じであっても、熱処理炉の占有面積を小さくでき
れば、これも好都合である。このようなことは、冷却処
理、雰囲気処理等熱処理以外の連続処理についても同様
である。
上記の要請に応える連続処理装置として、装置本体中に
複数のウオーキングビーム搬送機構を設け、これらを共
通の駆動装置によって駆動させる連続処理装置が考えら
れる。前記電子部品等の被処理物は、1個のカセットに
多数(例えば40個)収容された状態で装置の装入口近
くに1置送され、1個ずつカセットから取り出してウオ
ーキングビーム搬送機構上に載置される。ところが、こ
の被処理物の移換えを複数のウオーキングビーム搬送機
構に対して行うことは時間を要し、ウオーキングビーム
搬送機構の上に被処理物が広い間隔を隔てて載置される
ようになり、装置本体内で無駄なスペースができて処理
能力が低下し、甚だ不都合装置の処理能力が低下して生
産性の観点から同様に不都合である。このような問題は
、装置本体のハ0発明の目的 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、
占有面積又は占有容積に対して処理能力の大きい連続処
理装置を提供することを目的としている。
二8発明の構成 本発明は、処理装置本体と、第一〇載置部材及び第二の
載置部材からなる被処理物搬送手段とを有し、前記第二
の8置部材を前記第一の8置部材に対し反復して位置変
位させ、これによりこれら第一及び第二の8置部材間で
被処理物を交互に載置しながらこの被処理物を前記装置
本体内で搬送するように構成された連続処理装置に於い
て、前記被処理物搬送手段が複数設けられ、前記被処理
物を複数収容する又は収容させるための被処理物収容手
段と第一及び第二の前記被処理物搬送手段との間で前記
複数の被処理物を夫々移換える被処理物移換え手段を有
し、この被処理物移換え手段が前記被処理物収容手段に
対して相対的に上下動し、かつ前記被処理物移換え手段
を構成する第一及び第二の被処理物支持部材が前記被処
理物収容手段と前記第一及び第二の被処理物搬送手段と
の間を夫々往復動じ、前記被処理物収容手段に対する前
記第一及び第二の被処理物支持部材の相対的上下動と前
記往復動とによって前記複数の被処理物の前記移換えが
行われることを特徴とする連続処理装置に係る。
ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。
第1図及び第2図はウオーキングビーム式搬送機構を備
えた連続熱処理炉を示し、第1図は搬送方向に沿う断面
図、第2図は第1図のn−n線矢視側面図である。
炉壁、天井、炉床は断熱材3からなっていて、これらは
鋼板製外殻5に覆われ、天井と炉床との内側には平板状
の赤外線ヒータ2が配置され、炉内周面はヒータ2をも
含めてセラミックス又は石英からなる被riN4によっ
て被覆されている。これらによって筒状の炉本体1が構
成され、支持台23を介して基台8に裾付けられる。ま
た、炉本体1の−6111には開口1aによって装入口
が形成され、他端には開口1bによって排出口が形成さ
れている。
炉本体1内を貫通して、複数(この例では2本)の位置
固定された固定ビーム6.6と、固定ビーム6.6と平
行にかつ上下動時に固定ビーム6.6に当接又は接触し
ないように配設された移動可能な複数(この例では2本
を1組とする2組)の移動ビーム9A、9B、9A、9
Bとが位置し、固定ビーム6と移動ビーム9A、9Bと
は上記の組み合わせを1組として複数列(この例では2
列)互いに平行に設けられている(第2図にA列及びB
列で示しである。)、また、固定ビーム6は開口1a、
1bを通って炉外へ突出し、移動ビーム9A、9Bは同
じ高さに位置していて、移動ビーム9Aは開口1a;?
cJって炉外へ突出可能とし、移動ビーム9Bは開口1
bを通って炉外へ突出可能としである。固定ビーム6及
び移動ビーム9A、9Bは、いずれも石英製とし、被加
熱物の当接による発塵を防止するようにしている。固定
ビーム6は、基台8上に立設された支柱7.7によっ°
ζ炉本体外で支持されている。移動ビーム9A、9Bは
、上下及び長さ方向の前後に運動可能な移ur架枠11
に固定された支柱10.10に炉本体外で支持されてい
る。
移動ビーム9A19日は次のようにして上下及び長さ方
向の前後に駆動するようにしである。
即ち、炉本体1の両端近くにはリンク支持部材12.1
2が基台8上に立設され、リンク支持部材12.12に
はL字形のリンク13.13が回動可能に軸支され、リ
ンク13.13の先端にはローラ14.14が回動可能
に軸支され、ローラ14.14上に移動架枠11が載置
される。リンク13.13の後端はリンクパー15によ
って互いに連続されていて、一方のリンク13のリンク
パー15との連結部は、基台8上に支持部材16を介し
て回動可能に取付けられた油圧シリンダ17のピストン
ロンド端部に連結させである。これらによって上下動駆
動機構24Aが構成される。
図示しない駆動源によって油圧シリンダ17を作動させ
、リンク13.13を時計方向に回動させるとローラ1
4.14が時計方向に公転しながら下降し、ローラ14
.14に載置された移動架枠11が下降して移動ビーム
9A、9Bは破線矢印りのように下降し、固定ビーム6
よりも下方に位置する。この状態から油圧シリンダ17
を駆動させてリンク13.13を反時計方向に回動させ
ると、ローラ14.14は反時計方向に公転しながら上
昇し、移動ビーム9A、9Bは実線矢印Uで示すように
上昇して第15図(a)に部分正面図で、同図(b)に
側面図で示すように、移動ビーム9A。
9Bは実線位置から一点鎖線で示す位置に上昇し載置さ
れる。なお、第15図では固定ビーム6と移動ビーム9
A、9Bとは1組だけを示しである。
基台8には軸受20aを備えた2枚の駆動軸支持板20
.20が立設され、雄ねじが螺刻された駆動軸19が、
軸受20a、20aによって駆動軸支持板20.20に
回動可能に支持され、モータト8によって回動するよう
になっている。駆動軸19には、その雄ねじに螺合する
雌ねじが螺設された往復動駆動部材22が組合わされて
いて、往復動駆動部材22は駆動軸支持板20.20間
に固定された案内軸21に案内され、モータ18の駆動
による駆動軸19の回動によって往復動駆動部材22が
前進、後退するようになっている。
往復動駆動部材22は移動架枠11から延設された建設
部11aの図示しない貫通孔を雪通して上方に突出して
いて、往復動駆動部材22の上記前進、後退に伴って移
動架枠11が前進、後退するようにしである。これらに
よって前進、後退駆動機構24Bが構成される。
前進、後退駆動機構24日の上記駆動により、移動架枠
11はローラ14.14を回動させながらこれらの上を
前進又は後退し、これに伴って支柱10.10を介して
移動架枠11に取付けられた移動ビーム9A、9Bが前
進又は後退する。
次に、前記の上下動駆動機構24A及び前進、後退駆動
機構24Bによって被加熱物を炉本体内で1般送し、熱
処理を施す方法を説明する。
まず、ヒータ2に給電して炉本体1内を所定の温度分布
に加熱する。次に、第1図のように移動ビーム9A、9
Bを固定ビーム6の下方に位置させる。それには、図示
しない駆動源により油圧シリンダ17を駆動してリンク
パー15により連動するリンク13.13を時計方向に
回動させることにより、ローラ14.14を下降させて
移動架枠11を下降させる。また、モータ18を比較的
高速で運転して往復動駆動部材22を駆動することによ
り移動架枠11を矢印Rの向きに速やかに移動させて、
移動ビーム9A、9Bを被加熱物搬送方向に対して所定
位置まで後退させておく。
以上の準備態勢をとってから、被加熱物(この例では厚
さ1龍程度の液晶表示装置用ガラス基板)Wは炉の装入
口1a側の後述するフォーク26.27上に載置させる
。そして、油圧シリンダ17を上記と逆に駆動して、リ
ンク13.13を反時計方向に回動させローラ14.1
4を上昇させることにより、移動ビーム9A、9Bを矢
印Uの方向に上昇させる。この上昇過程で、フォーク2
6.27の上に載っていた被加熱物Wは移動ビーム9A
により押し上げられてフォーク26.27から離れ、第
15図に一点鎖線で示すように移動ビーム9Aにより保
持される。第15図(al、(blはこの被加熱物移動
動作を示したものである。その後、モータ18を所定の
時間だけ低速運転して往復動駆動部材22を前記と逆に
駆動することにより、移動ビーム9A、9Bを矢印Fの
方向に所定の距離りだけ徐々に移動させる。これにより
、第15図(alに示したように、被加熱物Wが搬送方
向に距離りだけ緩やかに搬送される0次に、最初のよう
にシリンダ17を駆動して、リンク13.13を介しロ
ーラ14.14を下降させる(第1図の矢印D)ことに
より、第15図(a)、(b)に実線で示したように、
移動ビーム9A、9日を始めの低位置に下降させる。こ
の下降過程で、被加熱物Wは前記と逆に移動ビーム9A
、9Bの上から固定ビーム6の上に移し変えられる。こ
の後、最初に述べたようにモータ18を高速で運転して
往復動駆動部材22を駆動し、移動ビーム9A、9Bを
速やかに始めの所定位置まで後退させる。
上記のようにして、移動ビーム9A、9Bは固定ビーム
6に対して第16図に示すように移動変位するのを1サ
イクルとして繰り返し駆動させる。
この駆動で、前進を緩速、後退を急速にするのは、時間
的な加熱特性曲線が段階状にならないよう、緩やかに温
度変化させるためである。このようにとして便利に使用
できる。
前述した移動ビーム9A、9Bの周期的な変位運動によ
り、被加熱物Wは炉本体1内を前記の距離りずつ徐々に
搬送方向に搬送されて、所定の温度領域を所定の時間で
通過し、所要の熱処理が施される。
上記のように固定ビーム6と移動ビーム9A、9日とを
互いに平行に複数列(この例では2列)設けることによ
り、装置の占有面積を甚だしく拡げることなり、処理能
力を2倍にすることができる。また、同種の装置を2台
併設するよりも設備費が遥かに低くて済む。その上、上
下動駆動機構24A及び前進、後退駆動機構24Bは各
移動ビされる。
移動ビームは、固定ビーム6と同数としても良いのであ
るが、万一炉内で破損した場合、被加熱物Wが落下する
のを防ぐため、固定ビーム6の2本に対して移動ビーム
9A、9Bを2本ずつにしている。
炉本体1の装入口Ia側には、固定ビーム30及び移動
ビーム31を有するウオーキングビーム搬送装置29、
カセットプラットフォームフォーク26、27を有する
移載装″I125が位置し、被加熱物Wを多数(この例
では40枚)収容したカセット40が、ウオーキングビ
ーム)般送装置29によって搬送され、カセットプラン
トフオーム28に載置される。更に、被加熱物Wはフォ
ーク26、27によってカセットプラットフォーム上の
カセット40からA列及びB列(第2図参照)の移動ビ
ーム9Aに1枚ずつ移載されるようになっている。炉本
体1の排出口1b側には、固定ビーム37及び移動ビー
ム38を有する滞留部36、位置補正部39、装入口側
と同様の移載装置25、同じ(カセットプラントフオー
ム28、同じくウオーキングビーム搬送装2229が位
置していて、処理済みの被加熱物Wは、A列及びB列の
移動ビーム9日から、滞留部36、位置補正部39を経
て、移載装225のフォーク26、27によってカセッ
トプラットフォーム28上の空のカセット40に2枚ず
つ順次装入される.空のカセット40は、排出口Ib側
のウオーキングビーム1般送装置29によって供給され
、排出口1b側のカセットプラットフォーム28に移載
される。
第3図は上述した被加熱物の搬送の経路を示す要部概略
平面図である。
装入口側(図に於いて左側)のウオーキングビーム29
によIって搬送されてくるカセット40は、カセットブ
ラ・ントフォーム28に載置され、カセット40に対し
て移載装置25のフォーク26、27が矢印a方向に移
動してカセット40中の未処理の被加熱物Wを1枚ずつ
支持する。この支持の方法については後に説明する。次
に、フォーク26、27は矢印すのように分かれて、移
動し、フォーク26に支持された被加熱物Wは炉本体の
A列の移動ビーム9Aに移され、フォーク27に支持さ
れた被加熱物Wは炉本体のB列の移動ビーム9Aに移さ
れる。この移換えはA列、B列に対して同時に1枚ずつ
順次行われ、移動ビーム9A、9Bの前述した動作によ
って被加熱物WはA列、B例に沿って炉本体中を移動し
ながら熱処理が施される。カセットプラットフォーム2
8上で被加熱物Wが全部持去られて空になったカセッ)
40は、A列、B列の方向に直交するウオーキングビー
ム1M送装置33によって所定位置に搬送される。
この)12送は固定ビーム34及び移動ビーム35によ
ってなされる。
熱処理の終了した被加熱物Wは、移動ビーム9Bによっ
て滞留部36に移される。滞留部36は固定ビーム37
及び移動ビーム38を有するウオーキングビーム搬送装
置であって、被加熱物Wは滞留部36から位置補正部3
9に移される。滞留部36と位置補正部39とには、A
列、B列毎に被加熱物Wの3枚分の領域で滞留可能とな
っていて、排出口側で新しい空のカセットを供給する燥
作に支障をきたした場合、これに対応する時間を稼げる
ようになっている.位置補正部39では、被加熱物Wは
、上下動可能な2本のビーム39a上に載置され、搬送
中に生じた位置すれかA列、8列6個ずつのブツシャ3
9bによって位置補正されて正規の位置に位置するよう
にしである.移載装置25のフォーク26、27は、矢
印C方向に移動してA列、B列の位置補正部36上の被
加熱物Wを支持し、次いで矢印d方向に移動して、カセ
ットプラットフォーム28上の空のバスケット40に2
枚ずつネ々と装入する。矢印d方向の移動の途中で、3
個のブツシャ25aによって被加熱物Wは再び位置補正
される。かくして、処理済みの被加熱物Wを所定枚数収
容したカセット40は、排出口側(図に於いて右側)の
ウオーキングビーム搬送装置33(固定ビーム34及び
移動ビーム35を有する)によって所定位置に世道され
る。
左右側のウオーキングビーム搬送装置29、29、33
、33及びA列、B列の滞留部36、36の搬送機構は
、第15図及び第16図によって説明した機構と同様の
機構によっている。
第4図は第3図のIV−IV線矢視断面図で、同図(5
)〜(clは、装入口側でウオーキングビーム1112
 送’装置29上のカセット40をカセットプラントフ
オーム28に移換え、前述したようにカセット40中の
被加熱物Wを次々に取り出して空になったカセット40
をウオーキングビーム搬送装置33に移換える手順を示
す。
カセットプラットフォーム2日は上下動可能としてあり
、第4図(a)はカセットプラントフオーム28上のカ
セフ)40中の被加熱物Wが全部取出されてカセット4
0が空になった状態を示し、この状態ではカセソトプラ
フトフォーJ328は最下。
位に位置している。
次に第4図fb)に示すように、カセットプラットフォ
ーム28が最上位に上昇し、続いてウオーキングビーム
1般送装置33の移動ビーム35が矢印のように後退し
て空になったカセット40下に挿入される。
次に第4図(clに示すように、移動ビーム35が矢印
のように上昇して空のカセット40を支持し被加熱物W
人のカセット40を支持し、続いて前進して先頭のカセ
ット40をカセットプラットフォーム28上に前進させ
、移動ビーム31の下降によって先頭のカセット40が
カセットプラットフォーム28上に載置される。
次に第4図(G)に示すように、ウオーキングビーム搬
送装置29の移動ビーム31が矢印のように後退し、ウ
オーキングビーム搬送装置33の移動ビーム35の矢印
の運動によって空のカセット40が1般送される。
かくして、ウオーキングビーム29によっ°ζ1般送さ
れてくる被加熱物入りのカセット40は、次々にカセッ
トプラントフオーム28に移され、ここで空になってウ
オーキングビーム1jA送装置33に移され、所定位置
に)Ll送される。
第5図〜第9図は、対のフォーク26.27によってカ
セット40中の被加熱物Wを炉本体の移動ビーム9Aに
移換える手順を示す要部概略図で、夫々+alは平面図
、(b)は正面図である。なお、第5図〜第9図では、
炉本体の固定ビーム6、移動ビーム9A、9B以外の固
定ビーム、移動ビームは図示省略してあり、移載装置(
第1図の25)はフォーク26.27のみを図示してあ
り、各部の運動は矢印で示しである。
第5図は被加熱物Wを収容したカセフt−40がカセッ
トプラットフォーム28上に載置された状態を示す、カ
セット40の互いに対向する側壁には図示しない多数の
溝が設けられ、これらの溝に被加熱物Wが上下方向に十
分な遊びを以て所定ピッチで収容されている。
まず第6図に示すように、フォーク2′6.27が上下
に重なり合った状態でカセット40の最下位及びその上
の被加熱物W、Wの下に移動し、次にカセットプラット
フォーム28が僅か下降してフォーク26.27が被加
熱物W、Wを1枚ずつ支持して被加熱物Wはカセット4
0から離れ、次いで、第7図のようにフォーク26.2
7が元の位置に戻る。
次に第8図に示すように、フォーク26.27は炉本体
のウオーキングビーム搬送装置のA列、B列に分かれる
と共に、移動ビーム9Aが後退してフォーク26.27
に支持された被加熱物W、W下に位置する。
次に第9図に示すように、移りjビーム9Aが上昇して
フォーク26.27上の被加熱物W1Wを載置し、フォ
ーク26.27は元の位置に戻る。
また、カセットプラントフオーム28は被加熱物Wの2
枚分だけ下降する。
以上の第6図〜第9図の動作を繰返してカセッ)40中
の被加熱物Wは2枚ずつ次々に取出され、A列、B列に
分けられて移動ビーム9A上に載置され、第15図及び
第16図で説明した移動ビーム9A、9日のυノ作によ
って炉本体内を搬送され、熱処理を施される。
炉本体から排出された処理済みの被加熱物Wは、第3図
で説明したように、滞留部36に移されて前進し、更に
滞留部36から位置補正部39に於いて位置ずれを矯正
される。次に移載装置250対のフォーク26.27に
よってA列、B列の被加熱物W、Wは重ね合わされて空
のバスケット4゜に装入される。
排出口側で位置補正部39.39がら空のバスケット4
0へ処理済みの被加熱物W、Wを移換えるには、カセッ
トプラットフォームを下降させてその上のバスケット4
0を最下位に位置させておき、第5図〜第9図で説明し
た手順の逆の手順に従って移換えを行う。即ち、フォー
ク26.27によって被加熱物W1Wをバスケラ)40
中に上から2枚ずつ順次移換え、バスケット40の最下
位及びその上に被加熱物W、Wが装入された時点でカセ
ットプラットフォーム28が最上位に位置するようにす
る。
第10図は第3図のX−X線矢視断面図で、同図(al
〜(g+はカセットプラットフォーム28上で処理済み
の被加熱物Wを所定枚数収容したカセット40をウオー
キングビーム搬送装置33によって搬送し、ウオーキン
グビーム搬送装置29によって搬送されてくる空のカセ
ット40をカセットプラットフォーム28上に移す手順
を示す。
第10図(a)に示すように、カセットプラットフォー
ム28上でカセット40に被加熱物Wが所定枚数収容さ
れると、ウオーキングビーム搬送装置33の移動ビーム
35がカセット4oの下に後退し、同図(b)のように
移動ビーム35が一ヒ昇してカセット40を支持する。
次に第10図(C)に示すように、移動ビーム35が前
進してから下降し、カセット4oは前進して固定ビーム
34上に載置され、同図(d)のように移動ビーム35
の運動によって処理済みの被加熱物Wを収容したカセッ
ト40はウオーキングビーム搬送装置33上を搬送され
る。
次に第10図(e)に示すように、ウオーキングビーム
搬送装置29の移動ビーム31が上昇して空のカセット
40を支持し、続いて同図([1のように移動ビーム3
1が前進及び下降して空のカセット40をカセットプラ
ントフオーム28上に載置する。
次に第10図(g)に示すように、カセットプラントフ
オーム28が最下位に下降し、これと共に下降した空の
カセット40に前述した手順に従って処理済みの被加熱
物(図示せず)が2枚ずつ上から下へと順次収容され、
それと共にカセットプラットフォームが上昇し、カセッ
トが所定枚数の被加熱物を収容するとウオーキングビー
ム搬送装置33の移動ビーム35が後退して第10図(
、mlの状態に戻る。
かくして、被加熱物Wを所定枚数収容したカセット40
はウオーキングビーム1般送装置33によって次々に所
定位置に向かって搬送されると共に、ウオーキングビー
ム用送装’Fl 29によって搬送されてくる空のカセ
ット40は、次々に方セットプラットフォーム28上に
8置され、被加熱物Wの収容に供される。なお、第10
図(C)の動作と同図ff)の動作とを同時に行っても
良い。
以上のようにして、被加熱物の移換えが順調になされ、
炉本体内に2列のウオーキングビーム搬送装置には、被
加熱物の移換えが滞ることによる空いたスペースが形成
されたりこれらのウオーキングビーム搬送装置の駆動を
停止せざるを得なくなったりすることがない、従って、
処理能力を完l灰l前進、後退駆動機構24B、炉壁等
多くの部分を共通にできて装置全体の占有面積も甚だし
く太き(ならないで済む。
第11図は移載装置25の一例を示す斜視図である。
スプライン軸48に往復動可能に亀付けられたベアリン
グハウジング(ベアリングは図示省略す)47上には支
柱46を介して台板45が取付けられている0台板45
上にはこれと摺動可能にフォーク支持台42A、42日
が載置され、フォーク支持台42A、42B内に設けら
れたボールねしく図示せず)に螺合する送り軸43A、
43日がフォーク支持台42A、42B中に嵌入してい
る。
送り軸43A、43日の先端には互いに噛合する平歯車
44A、44Bが夫々固定されていて、図せ、フォーク
支持台42A、42日が互いに逆方向に往復動する。フ
ォーク支持台42A、42B上には支柱41A、41B
を介してフォーク26.27が夫々固定されている。こ
の例では、図示しない駆動装置によってベアリングハウ
ジング47がスプライン軸48に案内されてX方向に往
復動する。また、図示しない他のgA駆動装置よって送
り軸43A、43Bが互いに逆方向に回転し、これと螺
合するフォーク支持台42A、42E1の互いに逆方向
の往復動によってフォーク26.27がX方向の互いに
逆方向に往復動し、上下方向に互いに重なり合った状態
(第11図の状態)と左右に開いた状態との間で位置変
更する。
向並びにC方向及びd方向の運動がなされる。フォーク
26.27の高さ方向の位置は、カセット中の被加熱物
のピッチに合わせて差を持たせである。従ってフォーク
26.27の高さは同じではないが、この高さの差はウ
オーキングビーム搬送装置の移動ビームの上下動寸法よ
りも十分に小さいので、被加熱物の移換えには何等差し
支えない。
第12図は移載装置中でのフォーク26.27の移動機
構の他の例を示す斜視図である。
スプライン軸51には第11図のベアリングハウジング
47と同様の2個のベアリングハウジング52A、52
Bが往復動可能に取付けられ、ベアリングハウジング5
2A、52Bに夫々取付けられた突出部53A、53B
には軸54A、54E3が夫々取付けられ、軸54A、
54Bの先☆111には回転軸58を避けるように湾曲
する7−ム55A、55BがlO1勤可能に取付けられ
ている。アーム55A、55日の先端は、回転軸58に
固定された円板57に互いに対称の位置でピン56A、
56Bによって回動可能に接続している。ベアリングハ
ウジング52A、52Bには支柱41A、41Elを介
してフォーク26.27が夫々固定されている。
図示しない駆動装置によって回転軸58を反時計方向に
180度回軸回転ると、円板57が反時計方向に180
度回軸回転ピン56A、56Bの位置が左右逆に入れ替
わってアーム55A、55Bによって軸54A、54B
、突出部53A、53Bが夫々互いに離れるようになり
、ベアリングハウジング52A、52E3はスプライン
軸51に案内されて矢印方向に移動し、これに伴ってフ
ォーク26.27は夫々y4方向、y、方向に移動して
互いに離れる。この状態から第12図のようにフォーク
26.27が上下に重なり合うように位置させるには、
回転軸58を時計方向に180 e@転させれば良い。
このフォーク移動機構では、始動時及び停止時にはフォ
ーク26.27の移動速度が小さくなる。
従って、始動時、停止時のショックが少なくなるので、
フォーク移動に要する時間を短縮することができる。
第11図、第12図の移載装置に於いて、支柱41A、
41日をフォークの前後方向に設けずにフォークの移動
方向(開又は閉の方向)に位置させると、上側のフォー
ク27を下側のフォーク26と同じ長さにできて好都合
である。第14図は、支柱41Aをフォーク26の図に
於いて右側に、支柱41日をフォーク27の左側に固定
させ、支柱41A、41日をフォークの上記移動方向に
並べた例を示す。この例では、少なくとも下側のフォー
ク26には、上側のフォーク27の支柱41Bの邪魔に
ならぬよう、「逃げ」26rを設けである。
第14図は他の例による移載装置の斜視図である。
スプライン軸48にはベアリングハウジング47(第1
1図の47と同じ構造)が往復動可能に取付けられ、ベ
アリングハウジング47−ヒには平歯車52を固定した
回転軸53が突出している。ベアリングハウジング47
上にはモータM2が固定され、その軸には平歯車52と
噛合する平歯車54が固定されている。平歯車52上に
はギヤボックス(内部の歯車は図示省略す)51が固定
してあって、平歯車52上に固定されたモータM1の軸
はギヤボックス51内の歯車に接続している。ギヤボッ
クス51内の歯車には4本のアーム50A150A、5
0B、50日が取付けられ、1対のアーム50A、50
Aの先端部はフォーク26の後端から下方へ延在する板
状体26aに取付けられ、他の1対のアーム50B、5
0日の先端部はフォーク27の後端から下方へ延在する
板状体27aに取付けられている。
第11図に於けると同様に、図示しない駆動装置によっ
てベアリングハウジング47が矢印X方向に往復動する
。モータM1の駆動によってギヤボックス51を介して
1対のアーム50A、50A及び他の1対のアーム50
B、50Elが移IJJL、フォーク26.27は夫々
矢印yA、y、方向に移動する。モータM2の駆動によ
って平歯車52が矢印rの゛ように回動し、フォーク2
6.27はその向きを180度変えることができる。こ
のようにフォーク26.27の向きを180度変えるこ
とによりフォーク26.27が前進又は後退するときに
その向きを移動方向に向けることができ、被加熱物Wの
カセット40からの取出し及び移動ビーム9A又は空の
カセット40への移換え(第3図参英製としているが、
熱処理温度が更に高い場合は、高温強度が高く、高温に
於ける剛性、耐クリープ性に優れる窒化珪素の如き耐熱
セラミックス性とするのが良い。更にその外周面を石英
で被覆すると、被加熱物の当接による発塵を防止するの
に有効である。
また、炉本体内外のウオーキングビームIB送装置は、
A列、B列の2列とするほか、3列以上とし、この列数
に応じたフォークを使用することができ、フォークや移
動ビームの駆動機構も前記の例のばか適宜の機構として
良い。
前記の実施例は、液晶表示装置用ガラス基板の熱処理の
例であるが、本発明に基づく連続処理装置は、上記ガラ
ス基板以外に、厚膜集稍回路、各種プリンタ用の感熱記
録ヘッド等の電子部品、更処理にも通用できる。また、
これらの処理は、加熱処理のほか、冷却処理、雰囲気処
理、ショットピーニング等の機械的表面処理等種々の処
理を連続的に施す装置として本発明が適用可能である。
これらの場合、固定ビーム及び移動ビームは、適宜の形
状の載置部材として良く、その材料も被処理物、処理の
種類に応じて適宜の材料を使用することができる。
へ0発明の詳細 な説明したように、本発明に基づく連続処理装置は、被
処理物Ill送手段を複数設け、複数の被処理物を収容
する又は収容させるための被処理物収容手段と複数の被
処理物搬送手段との間で複数の被処理物を夫々移換える
被処理物移換え手段を設けているので、次のような効果
が奏せられる。
複数の被処理物1般送手段に対して装置の多(の部分を
共通とすることができる上に、被処理物収容手段と複数
の被処理物1般送手段との間での被処理物の移換え及び
被処理物の処理が順調に遂行される。その結果、装置全
体の占有容積を甚だしく大きくせずに被処理物の処理が
効果的に遂行され、処理能力が大幅に増大する。
【図面の簡単な説明】
図面はいずれも本発明の実施例を示すものであって、 第1図は連続熱処理装置の搬送方向に沿う断面図・ 第2図は第1図のn−n線矢視側面図、第3図は連続熱
処理装置の要部概略平面図、第4図は第3図のrV−I
V線矢視断面図で、同図。 Ca)、tb)、[C)、(d)及びle)はカセット
移換えの手順を示し、 第5図Cal、第6図(8)、第7図(al、第8図(
al及び第9図(a)はカセト中の被加熱物を移動ビー
ムに移換える手順を示す平面図、第5図(bl、第6図
(bl、第7図(b)、第8図(b)及び第9図tb)
は同じく正面図・ 第10図は第3図のX−X線矢?I Itli面図で、
同図Tal、(b)、(C)、(d)、(e)、(n及
びfg)はカセット移換えの手順を示し、 第11図及び第12図は夫々被加熱物移載装置の構造の
一例を示す斜視図、 第13図は他の例によるフォークを示す斜視図、第14
図は(色の例による被加熱物移載装置の構造を示す斜視
図、 第15図は移動ビーム及び被加熱物の運動を説明するた
めの概略図で、同図(11は概略部分正面図、同図(b
lは概略側面図、 第16図は移動ビームの変位運わjを説明するための説
明図 である。 なお、図面に示す符号に於いて、 1・・・・・・・・・炉本体 1a・・・・・・・・・装入口 1b・・・・・・・・・排出口 2・・・・・・・・・ヒータ 6.30.34.37・・・・・・・・・固定ビーム9
A19日、31.38.39a ・・・・・・・・・移動ビーム 24A・・・・・・・・・上下動駆動機構24B・・・
・・・・・・前進、後退駆動機構25・・・・・・・・
・移載装置 26.27・・・・・・・・・フォーク28・・・・・
・・・・カセットプラットフォーム29.33.36 ・・・・・・・・・ウオーキングビーム1般送装置39
・・・・・・・・・位置補正部 40・・・・・・・・・カセット W・・・・・・・・・被加熱物 である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.処理装置本体と、第一の載置部材及び第二の載置部
    材からなる被処理物搬送手段とを有し、前記第二の載置
    部材を前記第一の載置部材に対し反復して位置変位させ
    、これによりこれら第一及び第二の載置部材間で被処理
    物を交互に載置しながらこの被処理物を前記装置本体内
    で搬送するように構成された連続処理装置に於いて、前
    記被処理物搬送手段が複数設けられ、前記被処理物を複
    数収容する又は収容させるための被処理物収容手段と第
    一及び第二の前記被処理物搬送手段との間で前記複数の
    被処理物を夫々移換える被処理物移換え手段を有し、こ
    の被処理物移換え手段が前記被処理物収容手段に対して
    相対的に上下動し、かつ前記被処理物移換え手段を構成
    する第一及び第二の被処理物支持部材が前記被処理物収
    容手段と前記第一及び第二の被処理物搬送手段との間を
    夫々往復動し、前記被処理物収容手段に対する前記第一
    及び第二の被処理物支持部材の相対的上下動と前記往復
    動とによって前記複数の被処理物の前記移換えが行われ
    ることを特徴とする連続処理装置。
JP62254278A 1987-10-08 1987-10-08 連続処理装置 Pending JPH0198891A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62254278A JPH0198891A (ja) 1987-10-08 1987-10-08 連続処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62254278A JPH0198891A (ja) 1987-10-08 1987-10-08 連続処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0198891A true JPH0198891A (ja) 1989-04-17

Family

ID=17262743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62254278A Pending JPH0198891A (ja) 1987-10-08 1987-10-08 連続処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0198891A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009094182A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Furukawa Co Ltd リフトピン機構、加熱処理装置、減圧乾燥装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62195143A (ja) * 1986-02-21 1987-08-27 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 基板の高速変換装置及び方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62195143A (ja) * 1986-02-21 1987-08-27 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 基板の高速変換装置及び方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009094182A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Furukawa Co Ltd リフトピン機構、加熱処理装置、減圧乾燥装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100361130B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR100266401B1 (ko) 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법
JPH0198891A (ja) 連続処理装置
JPH05347349A (ja) 加熱炉におけるトレイ連続搬送装置
JPH1179388A (ja) ガラス類枚葉処理装置
JP3851784B2 (ja) 多段加熱板式熱処理装置
JPH01271321A (ja) 搬送装置
JPH04106952A (ja) 半導体製造装置
JPS645757Y2 (ja)
JP2020145329A (ja) 基板収容装置
JP3113822B2 (ja) 熱処理装置の物品搬送装置
JP2003014375A (ja) 被焼成板の連続式焼成炉装置
KR100463382B1 (ko) 기판 자동 인쇄장치
JP2522901B2 (ja) ウォ―キングビ―ム式搬送装置
JP5795174B2 (ja) 基板移載装置
SU1761431A1 (ru) Лини дл изготовлени сварных изделий
JP2933263B2 (ja) 熱処理装置の物品搬送装置
JP3040991B2 (ja) 半導体製造装置
JP3486761B2 (ja) 連続熱処理装置
JP3516352B2 (ja) 多段処理装置
JP3782263B2 (ja) 基板の配列方法及び配列装置
JPH0715743U (ja) ガラス基板類の連続熱処理装置
JPS6352307B2 (ja)
JP2003100847A (ja) 半導体製造装置、ウェーハ処理方法
JP2005010221A (ja) ガラス基板熱処理装置