JP2933263B2

JP2933263B2 - 熱処理装置の物品搬送装置

Info

Publication number: JP2933263B2
Application number: JP35183093A
Authority: JP
Inventors: 勉平田
Original assignee: TABAI ESUPETSUKU KK
Current assignee: TABAI ESUPETSUKU KK
Priority date: 1993-12-29
Filing date: 1993-12-29
Publication date: 1999-08-09
Anticipated expiration: 2014-08-09
Also published as: JPH07198262A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、内部で複数の物品を処
理する熱処理装置内に間欠的に物品を搬入して内部で移
動させて熱処理し間欠的に搬出する熱処理装置の物品搬
送装置に関し、各種電気・電子装置、その部品や各種材
料等を所定温度にさらして熱処理する装置に利用され
る。

【０００２】

【従来の技術】電気・電子部品等の物品では同一製品が
多数製造されるが、これらを熱処理する場合には、多数
の物品を熱処理装置に収容して１タクト毎に１物品を出
し入れして熱処理する方法が便利である。この場合に
は、熱処理装置内で１タクト毎に物品を搬送させる搬送
装置が必要になる。

【０００３】このような装置としては、例えば、熱処理
装置内にそれぞれ１組の固定回転棒と昇降回転棒とを設
け、これらの棒に、回転により搬入された物品を支持す
る位置と退避した位置との間を往復する爪を設けた装置
が提案されている（特公昭６３ー５２３０７号公報参
照）。この装置では、物品を搬入したときには固定側の
爪に載せ、これを１ピッチ上に送るときには、昇降側を
１ピッチ上昇させて固定側の爪より下にある昇降側の爪
で物品を１ピッチ持ち上げ、固定側爪を退避させ、昇降
側を更に１／３ピッチ上昇させ、固定側爪を支持位置に
し、昇降側を１／３ピッチ降下させて物品を固定側爪に
あずけ、昇降側の爪を退避させ、昇降側を更に１ピッチ
降下させ、昇降側の爪を支持位置にして初期状態に復帰
させている。しかしながら、このような方法では、物品
を載せた荷重状態での上下動が５／３ピッチになると共
に３回発生するので、炉内雰囲気の乱れが大きくなると
共に、装置の動作時間や動力消費が大きくなる。

【０００４】又上記公報では、実施例として、物品を上
送りさせる上昇部と下送りさせる下降部との２列を組み
合わせた熱処理装置が示されている。この装置では最上
段で物品を１列目から２列目に移送させる横送り装置が
必要になるが、上記例では、熱処理装置の外部から搬送
方向にビームを挿入して物品を移送させている。しか
し、このように上部にも開口部を設けると、炉内の清浄
度や熱遮蔽性が低下し、外部から侵入する物品受け部の
温度変化により物品が悪影響を受ける場合がある。更
に、上記横送り装置は昇降機構を有しないので、横送り
時に炉内の昇降装置も駆動しなければならない。従っ
て、動作制御が複雑化すると共に、多数の物品が不必要
な動きをすることにもなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術に於
ける上記問題を解決し、請求項１乃至３の発明は、内部
雰囲気の乱れや動力消費の低減された熱処理装置の物品
搬送装置を提供することを課題とする。請求項４の発明
は、上記に加えて、内部の清浄度や遮蔽性の向上した熱
処理装置の物品搬送装置を提供することを課題とする。
請求項５の発明は、請求項４の発明の課題に加えて、熱
処理装置への搬入／搬出部を含めて全体の構造及び動作
が簡素化された熱処理装置の物品搬送装置を提供するこ
とを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、請求項１の発明は、内部で複数の物品を処
理する熱処理装置内に間欠的に物品を搬入して内部で移
動させて熱処理し間欠的に搬出する熱処理装置の物品搬
送装置において、前記熱処理装置内において前記物品の
搬入経路外に立設されたそれぞれ１組の第１縦部材及び
第２縦部材であってそれぞれ最下段から最上段まで等間
隔の支持面を持つ複数の第１支持部材及び第２支持部材
を備えた第１縦部材及び第２縦部材と、前記第１支持部
材を前記物品を支持する支持位置とこれから退避した退
避位置との間で移動させる第１移動手段と、前記第１支
持部材を縦方向の第１上位置とこれから所定の第１距離
だけ下方の第１下位置との間で昇降させる第１昇降手段
と、前記第２支持部材を前記物品を支持する支持位置と
これから退避した退避位置との間で移動させる第２移動
手段と、前記第２支持部材を前記第１上位置から前記間
隔の範囲内で下方に離れた第２上位置と該第２上位置か
ら下方に所定の第２距離だけ離れた第２下位置との間で
昇降させる第２昇降手段と、を有することを特徴とし、
請求項２の発明は、上記に加えて、前記第１移動手段及
び前記第２移動手段は、それぞれ、前記第１縦部材及び
前記第２縦部材を前記物品の搬入方向に対して直角の方
向に移動させることを特徴とし、請求項３の発明は、上
記に加えて、前記の第１縦部材と第２縦部材と第１移動
手段と第２移動手段と第１昇降手段と第２昇降手段とは
前記熱処理装置内において第１列装置と第２列装置とし
て前記物品の搬入方向に直列に２列設けられていて、前
記第１列装置の最上段の支持面に支持された前記物品を
前記第２列装置の最上段の支持面まで搬送させて移載す
る移載手段を有することを特徴とし、請求項４の発明
は、上記に加えて、前記第１列装置の前記第１縦部材の
前記物品搬送方向下流側のものの前記最上段支持面とそ
の下の支持面との間の部分である１列目上端部は前記物
品の搬送経路内において前記物品の支持される範囲外に
位置し、前記第２列装置の前記第１縦部材の前記物品搬
送方向上流側のものの前記最上段支持面とその下の支持
面との間の部分である２列目上端部は前記物品の搬送経
路内において前記物品の支持される範囲外に位置し、前
記移載手段は、前記熱処理装置内において前記物品の搬
送経路外に立設された１組の第３縦部材であって前記物
品の搬送経路内において前記１列目及び２列目上端部よ
り手前まで突出した上端支持面を持つ上端支持部材を備
えた第３縦部材と、該第３縦部材を前記第１列装置の位
置と前記第２列装置の位置との間で移動させる第３移動
手段と、前記上端支持面が前記第１縦部材の最上段支持
面から下方で前記間隔の範囲内の第３下位置から前記第
１縦部材の最上段支持面より高い第３上位置まで昇降す
るように前記第３縦部材を昇降させる第３昇降手段と、
を有することを特徴とし、請求項５の発明は、上記に加
えて、前記物品を支持する出し入れ支持面を備え該物品
搬送方向に前記熱処理装置を貫通し前記熱処理装置の搬
送方向長さである全長より長い所定長さを持ち前記搬送
方向に移動自在に支持された１組の横部材を有し、前記
第３縦部材は前記横部材に立設され、前記第３移動手段
は該横部材を移動させ、前記第３昇降手段は前記横部材
を昇降させ、前記出し入れ支持面は所定高さにおいて前
記横部材の両端側で前記物品を支持する位置に設けられ
ていることを特徴とする。

【０００７】

【作用】請求項１の発明によれば、それぞれ１組の第１
縦部材及び第２縦部材を設けているので、それぞれの支
持面により複数の物品を交互に支持することが可能にな
る。第１縦部材及び第２縦部材は、熱処理装置内におい
て物品の搬入経路外に立設されているので、物品の搬入
の妨げにならない。これらは、それぞれ最下段から最上
段まで等間隔の支持面を持つ複数の第１支持部材及び第
２支持部材を備えているので、支持面で複数の物品を等
間隔で支持することができる。第１支持部材及び第２支
持部材を物品の支持位置と退避位置との間で移動させる
第１移動手段及び第２移動手段を設けているので、これ
らを組み合わせて作動させることにより、支持部材で物
品を支持したり、支持部材を支持位置から退避させて物
品の上下動を妨げないようにすることができる。

【０００８】第１支持部材を縦方向の第１上位置とこれ
から所定の第１距離だけ下方の第１下位置との間で昇降
させる第１昇降手段を設けているので、これを移動手段
と組み合わせて順次作動させることにより、例えば、退
避−下降−前進−上昇という動きをさせることができ
る。その結果、例えば第１距離を１／２間隔より少し大
きくして第１支持部材を昇降させるときに、その下降位
置の少し上の位置に第２支持部材に支持された物品があ
るとすれば、物品と干渉することなくこれを支持して１
／２間隔だけ上昇させるサイクルを形成させることがで
きる。又、例えば下降−退避−上昇−前進という動きを
させることにより、物品を載せた状態で下降して、例え
ば１／２間隔の位置で第２支持面に物品をあずけた後復
帰させるサイクルを形成できる。

【０００９】第１上位置から１間隔の範囲内で下方に離
れた第２上位置とここから下方に所定の第２距離だけ離
れた第２下位置との間で第２支持部材を昇降させる第２
昇降手段も設けられているので、第２支持部材にも同様
の動きをさせることができる。例えば、第２上位置を第
１上位置の１／２間隔だけ下方にすると共に第２上位置
と第２下位置との間の第２距離を１／２間隔より少し大
きくし、第２縦部材を第２下位置から第２上位置まで上
昇させて第１支持部材に支持された物品を１／２間隔上
昇させ、この物品を前記のように第１支持部材で更に１
／２間隔上昇させた後、第２支持部材を退避−下降−前
進させて元の位置に復帰させることができる。

【００１０】又、第１第２位置及び第２距離を上記と同
じにし、第２縦部材を下降−退避−上昇−前進させるこ
とにより、第１支持部材で１／２間隔下降されて載せら
れた物品を更に１／２間隔下降させて第１支持部材に載
せ、その後第２支持部材を元の位置に復帰させることが
できる。その結果、第１縦部材及び第２縦部材で１間隔
だけ物品を上昇又は下降させ、それぞれを元の位置に復
帰させることができる。この場合、所定の第１距離及び
第２距離は１間隔以内である。但し、第１縦部材及び第
２縦部材の動作を単純且つ速くするために、第１距離と
第２距離は同じで且つできるだけ短くし、１／２間隔に
近いことが望ましい。

【００１１】このようにして、２段階で物品を丁度１間
隔づつ上昇又は下降させることができる。このうち、物
品を上昇させる動きをさせるようにそれぞれの駆動手段
を操作又は制御すれば、物品を熱処理装置の下から一定
の時間間隔で順次供給して熱処理した後、上から順次搬
出することができる。物品を下降させる動きの装置にす
ると、物品を上から入れて下から出すことになる。又、
このような搬送装置を持つ熱処理装置を組み合わせて、
複数の異なった条件の熱処理をすることも可能になる。

【００１２】請求項２の発明によれば、第１移動手段及
び第２移動手段は、それぞれ第１縦部材及び第２縦部材
を物品の搬入方向に対して直角の方向に移動させるの
で、支持部材の平面上のスペースが最少になる。従っ
て、例えば支持部材を回転させて移動させるよりも、第
１縦部材と第２縦部材との配置が容易になる。

【００１３】請求項３の発明によれば、第１、第２縦部
材と第１、第２移動手段と第１、第２昇降手段とを１つ
の熱処理装置内において第１列装置と第２列装置として
物品の搬入方向に直列に２列に設けると共に、第１列装
置の最上段の支持面に支持された物品を第２列装置の最
上段の支持面上に移載させる移載手段を設けるので、例
えば、第１列装置で物品を上昇させ、第２列装置て物品
を下降させることにより、物品の搬入／搬出部を下方の
同じレベルにした複列の熱処理装置とすることができ
る。

【００１４】請求項４の発明によれば、第１列側の第１
縦部材の物品搬送方向下流側のものの最上段支持面とそ
の下の支持面との間の部分である１列目上端部を、物品
の搬送経路内において物品の支持される範囲外に位置さ
せるので、１列目上端部は物品と干渉することなく最上
段物品を支持できる共に、搬送方向に直角方向では物品
の端と１列目上端部との間に空間長さができ、この範囲
内では次段の物品が存在しない１間隔の高さの範囲内で
搬送方向に物が通過可能になる。又、第２列装置側で
も、搬入方向上流側の第１縦部材が第１列装置と同様な
２列目上端部を形成している。従って、第１列及び第２
列装置の全体において縦部材の搬送方向の最上流側のも
のと最下流側のものとの間で前記空間長さの範囲で物が
通過可能になる。

【００１５】次に、１組の第３縦部材は、熱処理装置内
において物品の搬入経路外に立設され、物品の搬入経路
内において１列目及び２列目上端部の手前まで突出した
上端支持面を持つ上端支持部材を備えているので、この
支持面は前記１列目及び２列目上端部と干渉することな
く搬送方向に移動可能である。又、この第３支持部材を
第１列装置の位置と第２列装置の位置との間で移動させ
る第３移動手段を設けているので、これにより上端支持
面を第１装置から第２装置まで移動させることができ
る。

【００１６】この上端支持面は、第３昇降手段により第
３縦部材が昇降されることにより、第３下位置から第３
上位置まで昇降されるので、第３移動手段の動作と組み
合わせることにより、上昇時には第１縦部材の最上段支
持面と次段支持面との間の位置から第１列装置の第１縦
部材の最上段支持面に支持されている物品を受け取って
上昇させた後移動させることができると共に、下降時に
はこの物品を第２列装置の第１縦部材の最上段支持面に
あずけた後復帰することができる。なお、第２縦部材の
支持部材は第１縦部材の支持部材より下方にあるので、
第１縦部材の最上段支持面は第２縦部材の最上段支持面
より上になり、物品は第１縦部材側の最上段支持面に載
っている。

【００１７】請求項５の発明によれば、上記作用に加え
て、横部材を設けて第３縦部材をこの上に立設すると共
に第３移動手段及び第３昇降手段はそれぞれ横部材を移
動及び昇降させるので、物品の搬入／搬出及び移載を同
時に行うことができる。即ち、物品を支持する出し入れ
支持面が所定高さに設けられているので、例えば第１縦
部材の最下段支持部材の第１上位置が第２縦部材の最下
段支持部材の第１位置と第２位置との間になるように
し、所定高を、第３縦部材が第３上位置になるときに前
記第１上位置より上になり第３下位置になるときに前記
第１上位置より下になるようにすることにより、出し入
れ支持面上の物品を第１列装置の第１縦部材の最下段支
持部材上に載せ、第２列装置の第１縦部材の最下段支持
部材上の物品を出し入れ支持面上に載せ、且つ、第１列
装置ではこの物品を１間隔上昇させ第２列装置では物品
を１間隔上から第１縦部材の最下段支持部材上に下降さ
せることが可能になる。この場合、第１縦部材の最下段
支持部材を上記の場合より一段上までで止め、上記の最
下段支持部材の高さの位置に昇降しない固定支持面を別
に設けるようにしてもよい。

【００１８】第３移動手段は横部材を移動させるので、
横部材は第１列装置と第２列装置との間で物品が移動す
る距離即ち搬送間隔だけ移動される。又、横部材が全長
より所定長さ長くなっていて、その両端側に物品を支持
する出し入れ支持面を備えているので、横部材が入口側
に張り出す位置では、入口側の出し入れ支持面では熱処
理装置に搬入する物品を支持させ、出口側の出し入れ支
持面では第２列装置最下段の物品を支持することができ
る。横部材がこの状態から搬送間隔だけ搬送側に送られ
ると、入口側の出し入れ支持面で支持された物品は第１
列装置の位置に移動されると共に、出口側の物品は熱処
理装置から出た位置に移動される。横部材がこの反対方
向に移動されると、元の位置に復帰する。従って、横部
材の所定長さは、このような出し入れ支持面を形成する
ことができる長さに定められる。

【００１９】この出し入れ支持面は、第３昇降手段の昇
降により、第３縦部材が第３上位置にあるときに例えば
第１縦部材の最下段支持面より上になり第３下位置にあ
るときに前記最下段支持面より下になるので、最上段の
物品の昇降の可能な範囲で前記最下段支持面上の物品を
昇降できる。従って、第３移動装置と第３昇降装置の動
作を組み合わせることにより、横部材が前位置側にある
ときに、前位置で出し入れ支持面上に物品を支持し、第
１列装置の位置で最上段の物品を上端支持面で支持し、
第２列装置の位置で最下段の物品を出し入れ支持面によ
り支持し、横部材を上昇させ搬送間隔だけ搬送させた後
下降させ、それぞれの物品を第１列装置の前記最下段支
持面及び第２列装置の上端支持面に移載すると共に、後
位置まで物品を搬出することができる。又元の位置に復
帰できる。

【００２０】

【実施例】図１乃至図４は実施例の熱処理装置の物品搬
送装置の全体構成を示し、それぞれ図１は正面図、図２
は第１列装置部分の斜視図、図３は平面図、そして図４
は側面図である。これらの図により本装置の全体構成を
説明する。

【００２１】本装置は、内部で複数の物品としての供試
品Ｗを処理する熱処理装置としてのＡ槽及びＢ槽から成
る熱処理槽１内に１タクト毎に供試品Ｗを搬入して内部
で移動させ、所定時間熱処理した後搬出する装置であ
り、第１列装置としての上流側のＡ槽機構１０及び第２
列装置としての下流側のＢ槽機構５０を備えている。両
機構は対称に形成されているので、まずＡ槽機構１０に
ついて説明する。

【００２２】Ａ槽機構１０は、Ａ槽内において供試品Ｗ
の搬入経路外に立設されたそれぞれ１組の第１縦部材と
してのＡ槽上軸１１、１２、１３、１４及び第２縦部材
としてのＡ槽下軸１５、１６、１７、１８を有する。但
し、Ａ槽機構１０のみを有する熱処理装置では、対象と
する供試品Ｗによってはそれぞれの１組において片側の
軸を１本にすることも可能である。これらの軸は、それ
ぞれ最下段から最上段まで等間隔（等ピッチ）の支持面
を持つ複数の第１支持部材及び第２支持部材としての基
板受１１ａ〜１８ａを備えている。又Ａ槽機構１０は、
第１及び第２移動手段としての幅移動機構３０、３１並
びに第１及び第２昇降手段としての上下移動機構４０、
４１（図５に例示）を内蔵したＡ槽軸駆動部２０、２１
を備えている。

【００２３】幅移動機構３０、３１は、本実施例では、
矢印Ｘで示す搬入方向に直角の方向である矢印Ｙで示す
幅方向に軸１１〜１８を移動させることにより、即ち図
３の１１、１２、１３、１４に示す位置と同図の１５、
１６、１７、１８に示す位置との間で往復移動させるこ
とにより、基板受１１ａ〜１８ａを供試品Ｗを支持する
支持位置と支持位置から退避した退避位置との間で移動
させることができる。。このように基板受を幅方向に直
線的に移動させると、その占有面積が最少になり、軸及
び基板受の配置が容易になる。但し移動手段は、基板受
１１ａ〜１８ａを９０°程度往復回転させることによ
り、支持位置と退避位置との間で移動させる機構のもの
であってもよい。

【００２４】上下移動機構４０は、上軸１１〜１４を、
縦方向の第１上位置として軸１１について図１で実線で
示す第１上昇位置と、これから１／２ピッチより少し下
方の第１下位置として同図の二点鎖線で示す第１下降位
置との間で昇降させる。上下移動機構４１は、下軸１５
〜１８を、上軸１１〜１４の上昇位置から１ピッチの範
囲内として１／２ピッチ下方の第２上位置として軸１５
について図１の二点鎖線で示す第２上昇位置と、第２下
位置としてこれから１／２ピッチより少し下方の同図の
実線で示す第２下降位置との間で昇降させる。それぞれ
の上位置と下位置との関係は図２の上軸１１及び下軸１
５にも示している。なお、以上のように上軸と下軸とを
１／２ピッチずらせて同じ距離昇降させるようにすれ
ば、両軸が同様な動きになる利点があるが、両軸間の間
隔を変えたり、例えば下軸１５を少し動かし上軸１１を
大きく動かすようにしてもよいことは勿論である。

【００２５】Ｂ槽機構５０は、Ａ槽機構１０と対称に形
成されていて、Ａ槽機構１０の最上段の支持面１１ａ−
１〜１４ａ−１に支持された供試品Ｗは、移載手段の一
部分を構成する第３縦部材としての送りやぐら６０に設
けられ上端支持面を持つ上端支持部材としての外基板受
６１〜６４により、Ｂ槽機構５０の最上段の支持面５１
ａ−１〜５４ａ−１まで搬送されてその上に移載され
る。

【００２６】以上のような装置によれば、Ａ槽機構１０
及びＢ槽機構５０の縦軸及びこれらに結合された基板受
並びにその移動及び昇降装置が全て同様な構造のものに
なるので、機構及び動作が簡素化される。

【００２７】上軸１１〜１４の最上段支持面１１ａ−１
〜１４ａ−１は下軸１５〜１８の最上段支持面１５ａ−
１等より上になっている。そして外基板受６１〜６４が
搬送方向に通過できるように、上軸１１〜１４のうち供
試品Ｗの搬送方向（Ｘ方向）の下流側のもの即ち上軸１
３、１４の最上段支持面１３ａ−１、１４ａ−１とその
下の支持面との間の部分である１列目上端部としての張
出軸１３−１、１４−１は、図３に示すように供試品Ｗ
の搬送経路内において供試品Ｗが支持される範囲外に位
置するようになっている。又、Ｂ槽機構５０の上軸５
３、５４も同様の構造にし、張出軸５３−１、５４−１
を供試品Ｗの搬送経路内において支持範囲外にしてい
る。このようにすることにより、外基板受６１〜６４
は、図３の寸法ｄで示す範囲で且つ最上段支持面から１
ピッチ下より上方の範囲を通過可能になる。このため、
送りやぐら６０は供試品Ｗの搬送経路外に立設され、外
基板受６１〜６４は搬送経路内において張出軸１３−
１、１４−１、５３−１、５４−１よりも手前まで即ち
前記寸法ｄの範囲内まで突出している。なお、本実施例
では張出軸の前後の部分を折れ曲がり形状にしている
が、外基板受及び供試品Ｗがそれぞれ搬送方向及び上下
方向に通過可能であれば、この形状は例えば曲線状など
他の形状であってもよい。

【００２８】送りやぐら６０は、移載手段の一部を構成
する第３移動手段としてのビーム送り装置７０（図６に
例示）によりＡ槽機構１０とＢ槽機構５０との間で移動
され、同様に移載手段の一部を構成する第３昇降手段と
してのビーム昇降装置８０により、外基板受６１〜６４
が最上段支持面１１ａ−１〜１４ａ−１の下方で１ピッ
チの範囲内の第３下位置（図１で二点鎖線で示す）から
最上段支持面より高い第３上位置（図１で実線で示す）
まで昇降される。この場合、本実施例では、送りやぐら
６０の移動・昇降装置は、供試品Ｗの搬入／搬出用の移
動／昇降装置と兼用されている。従って、このように移
動・昇降装置を兼用すると共に、上軸及び下軸の上端部
分を移載用の外基板受が通過可能な構造にすることによ
り、最上段での供試品のＡ槽側からＢ槽側への移載機構
が極めて簡素化される。

【００２９】供試品Ｗの搬入／搬出装置としては、供試
品Ｗを支持する出し入れ支持面としての入口側及び出口
側の可動基板受９１を備え搬送方向に熱処理槽１を貫通
して所定長さとしてその全長のほぼ１．５倍の長さを持
ち移動自在に支持された１組の横部材としてのビーム９
０が設けられている。そして送りやぐら６０はビーム９
０に立設されている。ビーム送り装置７０は、ビーム９
０を熱処理槽１の全長のほぼ１／２の長さの範囲で両側
に張り出した図１で実線で示す前位置から二点鎖線で示
す後位置までの間を往復動させる。この往復動の間隔は
Ａ槽機構１０の最上部の供試品ＷをＢ槽機構５０に搬送
する搬送間隔と同じである。又、ビーム昇降装置８０は
ビーム９０を昇降させる。その昇降範囲は、送りやぐら
６０が前記第３上位置にあるときに可動基板受９１が上
軸１１、５１等の実線で示す上昇位置における最下段基
板受の支持面１１ａ−８、５１ａ−８等より上になり前
記第３下位置にあるときにそれらより下になる範囲であ
る。この場合、本実施例では、上軸１１、５３等の最下
段支持面１１ａ−８、５１ａ−８等は、下軸の下降位置
における最下段支持面１５ａ−７の位置とこれから１／
２ピッチより僅かに上の上昇位置との間になっていて、
上軸の最下段支持面上の供試品Ｗが下軸の最下段支持面
で取り扱えるようになっている。

【００３０】なお、このような最下段支持面１１ａ−８
等は昇降又は進退する必要がないので、これらに代え
て、これらと同程度の高さ位置に、図１において二点鎖
線で示すように固定基板受９２、９３を設けることも可
能である。又、本実施例では、熱処理槽１の入口側及び
出口側にもそれぞれ固定基板受９４、９５が設けられて
いる。但し、工場設備等によってはこれらを省略し、可
動基板受９１に直接供試品Ｗを載置したりこれから取り
上げたりするようにしてもよい。又以上では、基板受の
段数を上軸では８段にし下軸では７段にしているが、こ
れを任意の複数段にできることは言うまでもない。

【００３１】図５はＡ槽軸駆動部２０、２１の一例を示
す。Ａ槽軸駆動部２０、２１は、幅移動機構３０、３１
及び上下移動機構４０、４１を備え、図５ではこれらを
共にボールねじ機構で構成した例を示す。例えば上軸１
１は、これに直角方向に固定された２本のガイドロッド
３２が可動支持板４２に固定されたガイドブッシュ３３
でガイドされることにより水平方向に案内されると共
に、モータ３４で回転されるボールねじ３５によってナ
ット３６が水平方向に送られることにより、モータ３４
の回転方向に対応して供試品Ｗの支持位置と退避位置と
の間を移動される。

【００３２】可動支持板４２は、これに固定されたガイ
ドブッシュ４３がＡ槽軸駆動部２０のケーシング２０ａ
（図２参照）に固定された２本のガイドロッド４４でガ
イドされることにより垂直方向に案内されると共に、モ
ータ４５で回転されるボールねじ４６によってナット４
７が垂直方向に送られることにより、モータ４５の回転
方向に対応して第１上昇位置と第１下降位置との間を昇
降される。従って、これに対応して上軸１１もその間で
昇降される。

【００３３】これと同じ動きをする上軸１３は、この装
置に連結して連動されるようにしてもよいし、同期した
モータで別個に駆動されてもよい。その他の軸も同様に
構成することができる。なお、図５の装置はこのような
駆動部のごく一例であり、駆動機構としては、エアーシ
リンダ、カム、リンクその他の機械要素を採択、結合し
た種々の方式のものを用いることができる。

【００３４】図６は、ビーム送り装置７０及びビーム昇
降装置８０の一例を示す。ビーム９０には、据え付け面
１００に固定されたガイドレール７１上を摺動するガイ
ドシュー７２と、エアシリンダ７３、８１が固定されて
いて、エアシリンダ７３、８１の作動により、同図
（ａ）の実線と二点鎖線で示す範囲でビーム９０が水平
方向及び垂直方向に移動する。なお、ビーム送り装置及
び昇降装置も、このような装置に代えて、ボールねじ、
カム、リンク、ラックとピニオ等を用いたものでもよい
ことは勿論である。

【００３５】上記のような諸駆動装置は、自動シーケン
ス制御、遠隔又は機側制御等、公知の操作、制御方法に
よって本装置の使用条件に対応して駆動される。

【００３６】以上のよう構成の熱処理装置の物品搬送装
置は次のように作動される。説明を簡単にするために、
初期状態としては、図１の実線で示すように、Ａ槽機構
１０では、上軸１１〜１４の基板受に最下段の１つ上の
段から最上段まで供試品Ｗが載っており、Ｂ槽機構５０
では、上軸５１〜５４の基板受に最下段から最上段の１
つ下の段まで供試品Ｗが載っいて、且つ入口側の固定基
板受９４にも外部装置から１タクトに１枚づつ載せられ
る１枚の供試品Ｗが載っているものとする。

【００３７】この状態で所定の時間が経過すると、ビー
ム９０を上昇させる。これにより、入口固定基板受９
４、Ａ槽最上段支持面１１ａ−１等及びＢ槽最下段基板
受支持面５１ａ−８等の供試品Ｗが同時に持ち上げられ
る。次にビーム９０が熱処理槽１の全長の１／２長さ分
移動させ、前記それぞれの供試品Ｗを、それぞれＡ槽最
下段支持面１１ａ−８等、Ｂ槽最上段支持面５１ａ−１
等及び出口固定基板受９５の所定の位置まで搬送する。
この間で送りやぐら６０の外基板受６１〜６４はＡ槽機
構１０及びＢ槽機構５０と干渉しない。ビーム９０はそ
れからもとのレベルまで下降してそれぞれの供試品Ｗを
それぞれの基板受に移載する。

【００３８】次にＡ槽機構１０を作動させ、全ての基板
受上の供試品Ｗを同時に１ピッチ上昇させる。これによ
り、Ａ槽機構１０は初期状態に復帰する。図７はその過
程を示す。本図では、上軸を１１、下軸を１５で代表さ
せて示している。上軸１１の上位置と下軸１５の上位置
は１／２ピッチ（ｐ／２）離れていて、それぞれの軸の
上位置と下位置は１／２ピッチより少し大きい距離ｄに
なっている。最初の状態Ｓ₀では、下軸１５は下位置に
あり、最下段支持面１１ａ−８及びその上の段の基板受
に供試品Ｗが載っている（実際には最上段の１つ下の段
まで載っている）。

【００３９】Ａ槽機構１０が作動すると、Ｓ₁からＳ₈
まで順次動作が行われる。即ち、同図（ａ）に示す如
く、下軸１５が距離ｄ上昇して最下段支持面１１ａ−８
上の供試品Ｗを含めて全ての供試品Ｗを支持して１／２
ピッチ上昇させ（Ｓ₁）、その支持により上軸１１は退
避可能になって供試品Ｗの支持位置から退避し
（Ｓ₂）、距離ｄだけ下降し（Ｓ₃）、供試品Ｗの支持
位置まで前進し（Ｓ₄）、これを支持して距離ｄだけ上
昇して供試品Ｗを１／２ピッチ上昇させ（Ｓ₅）、退避
可能になった下軸１５を退避させ（Ｓ₆）、ｄだけ下降
させ（Ｓ₇）、供試品Ｗを支持できる位置まで前進させ
（Ｓ₈）、最初のＳ₀の状態に復帰させる。同図（ｂ）
はその動作過程を示す。

【００４０】Ａ槽機構１０で供試品Ｗが最上段支持位置
まで１ピッチ上昇されると、ビーム９０を後退させて元
の位置に復帰させる。これにより、Ａ槽機構１０側は初
期状態に復帰する。

【００４１】ビーム９０を後退させると、Ｂ槽機構５０
の最上段に移載された供試品Ｗが下降できることにな
り、Ｂ槽機構５０を作動させる。それにより、Ｂ槽機構
５０のそれぞれの基板受に載せられた供試品Ｗを１ピッ
チ下降させる。その動作はＡ槽機構１０の場合と類似し
ている。

【００４２】図８はその過程を示す。上軸及び下軸は５
１及び５５で代表させ、その間が１／２ピッチ離れてい
て、それぞれの上下位置間が距離ｄになっている点はＡ
槽側と同じである。最初の状態Ｓ₀では、下軸５５は上
位置にあり、最下段支持面５１ａ−８上の供試品Ｗは出
口側に搬送されていてその上には何も載っていない。

【００４３】Ｂ槽機構５０が作動すると、上軸５１が供
試品Ｗを支持した状態で距離ｄ下降して全ての供試品Ｗ
を１／２ピッチ下にある下軸５５側に載せ（Ｓ₁）、そ
の支持により上軸５１は退避可能になり供試品Ｗの支持
位置から退避し（Ｓ₂）、上軸５１が距離ｄだけ上昇し
（Ｓ₃）、供試品Ｗの支持位置まで前進し（Ｓ₄）、下
軸５５が距離ｄだけ下降して供試品Ｗを１／２ピッチ下
降させて最下段支持面５１ａ−８及び上軸５１側の全て
の基板受に載せ（Ｓ₅）、退避可能になった下軸５５を
退避させ（Ｓ₆）、ｄだけ上昇させ（Ｓ₇）、供試品Ｗ
を支持できる位置まで前進させ（Ｓ₈）、Ｓ₀の初期状
態に復帰させる。同図（ｂ）はその動作過程を示す。な
お、以上ではＡ槽機構１０及びＢ槽機構５０の何れにお
いても軸を退避／前進させることにより基板受を退避位
置／支持位置にするような図で説明したが、軸を回転さ
せることにより基板受を退避位置又は支持位置にさせる
場合も全く同様である。又、最下段支持面１１ａ−８、
５１ａ−８等に代えて固定基板受９２、９３を設ける場
合も全く同じ動作になる。このように、上昇側と下降側
とを同じ動作軌跡にすれば、作動機構や制御が極めて簡
単になる。

【００４４】以上の動作により、全ての部分が初期状態
に復帰する。なお以上において、装置を上記のように作
動させる駆動部は、１タクト毎にタイマーを作動させて
全自動でシーケンシャルに作動させてもよいし、部分的
にシーケンス制御したり全てを機側又は遠隔で手動操作
にすることもできる。通常全自動にされるが、何れの駆
動方式にするかは工場等における使用条件等から定めら
れる。

【００４５】

【発明の効果】以上の如く本発明によれば、請求項１の
発明においては、物品を支持する２組の装置を共に昇降
可能にすることにより、それらで物品を交互に支持して
２行程で丁度１間隔づつ昇降させることができる。その
結果、物品を支持した状態における支持部分に全く余分
な動きがなくなり、熱処理装置の内部雰囲気の乱れを少
なくすることができる。又、大きな慣性力を伴う物品載
置状態での動き量及び発停回数の減少により、動作時間
が短くなると共に動力消費も低減する。更に、装置の縦
方向のスペースが最少になる。

【００４６】請求項２の発明においては、上記に加え
て、縦部材を直線的に移動させることにより支持部材を
退避／前進させるので、その平面上の占有スペースが最
少になり、支持部材を回転させて移動させるよりも縦部
材の配置が容易になる。又、縦部材の移動及び昇降が共
に同じ種類の直線運動になるので、機構が単一化される
ためその構造を簡素にすることができる。

【００４７】請求項３の発明においては、以上に加え
て、対称構造の第１列装置及び第２列装置を設け、この
間で最上段物品を移動可能にしているので、熱処理装置
における物品の入口及び出口を共に下の同一の床レベル
にすることができる。その結果、工場等における配置が
容易になる。又、下部から物品を搬入／搬出できるた
め、熱処理装置内の温度の乱れが少なくなる。

【００４８】請求項４の発明によれば、以上に加えて、
最上段の物品を第１列装置から第２列装置へ移載する移
載手段を熱処理装置内で移動及び昇降可能に形成するこ
とにより、熱処理装置の上部に最上段物品の移載装置用
の開口が不要になる。その結果、熱処理装置の上部が閉
鎖され、内部の清浄度及び断熱性が維持され、又内部の
物品が移載装置の熱変化による悪影響を受けることがな
く、熱処理装置としての性能が向上する。更に、移載手
段が昇降動作も行うので、最上段物品を移載するために
縦部材を作動させる必要がない。従って、荷重状態にあ
る縦部材の不必要に動きが防止される。

【００４９】請求項５の発明によれば、以上に加えて、
熱処理装置へ物品を搬入／搬出できる装置を設けている
ので、搬入／搬出のために別のパレット等が不要にな
り、熱処理装置内の清浄度が向上する。又、物品の搬入
／搬出と第１装置から第２装置への移載とが同時にでき
るので、１タクト進行のための行程数が少なくなり又時
間も短縮される。更に、移載手段を搬入／搬出手段と兼
用させるので、全体の装置を構成する機構及び部品数が
減少し、その簡略化と低コスト化が図られると共に、熱
処理装置の清浄度も向上することになる。又、縦部材の
移動手段及び昇降手段、横部材の昇降手段、移動手段を
全て下方に物品の通過範囲外に集中的に配置できるの
で、熱処理装置内の清浄度が一層良好に保たれると共
に、全体装置の配置が合理化される。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の熱処理装置の物品搬送装置の全体構造
を示す正面図である。

【図２】上記装置のＡ槽機構側を示す斜視図である。

【図３】上記装置の平面図である。

【図４】上記装置の側面図である。

【図５】上記装置の軸駆動部の構造例を示す説明図であ
る。

【図６】上記装置のビーム送り／昇降装置の構造例を示
し、（ａ）は正面図で（ｂ）は側面図である。

【図７】（ａ）及び（ｂ）は上記装置で供試品を１ピッ
チ上昇させる過程を示す説明図である。

【図８】（ａ）及び（ｂ）は上記装置で供試品を１ピッ
チ下降させる過程を示す説明図である。

【符号の説明】

１熱処理槽（熱処理装置）１０Ａ槽機構（第１列装置）１１〜１４上軸（第１縦部材）１１ａ〜１８ａ基板受（第１及び第２支持
部材）１１ａ−１〜１４ａ−１第１列装置最上段支持面１３−１、１４−１張出軸（１列目上端部）１５〜１８下軸（第２縦部材）３０、３１幅移動機構（第１移動手
段）４０、４１昇降機構（第１昇降手段）５０Ｂ槽機構（第２列装置）５１ａ−１〜５４ａ−１第２列装置最上段支持面５３−１、５４−１張出軸（２列目上端部）６０送りやぐら（移載手段）６１〜６４外基板受（上端支持部材）７０ビーム送り装置（第３移動
手段）８０ビーム昇降装置（第３昇降
手段）９０ビーム（横部材）９１可動基板受（出し入れ支持
面）

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】内部で複数の物品を処理する熱処理装置
内に間欠的に物品を搬入して内部で移動させて熱処理し
間欠的に搬出する熱処理装置の物品搬送装置において、前記熱処理装置内において前記物品の搬入経路外に立設
されたそれぞれ１組の第１縦部材及び第２縦部材であっ
てそれぞれ最下段から最上段まで等間隔の支持面を持つ
複数の第１支持部材及び第２支持部材を備えた第１縦部
材及び第２縦部材と、前記第１支持部材を前記物品を支
持する支持位置とこれから退避した退避位置との間で移
動させる第１移動手段と、前記第１支持部材を縦方向の
第１上位置とこれから所定の第１距離だけ下方の第１下
位置との間で昇降させる第１昇降手段と、前記第２支持
部材を前記物品を支持する支持位置とこれから退避した
退避位置との間で移動させる第２移動手段と、前記第２
支持部材を前記第１上位置から前記間隔の範囲内で下方
に離れた第２上位置と該第２上位置から下方に所定の第
２距離だけ離れた第２下位置との間で昇降させる第２昇
降手段と、を有することを特徴とする熱処理装置の物品
搬送装置。
【請求項２】前記第１移動手段及び前記第２移動手段
は、それぞれ、前記第１縦部材及び前記第２縦部材を前
記物品の搬入方向に対して直角の方向に移動させること
を特徴とする請求項１に記載の熱処理装置の物品搬送装
置。
【請求項３】前記の第１縦部材と第２縦部材と第１移
動手段と第２移動手段と第１昇降手段と第２昇降手段と
は前記熱処理装置内において第１列装置と第２列装置と
して前記物品の搬入方向に直列に２列設けられていて、
前記第１列装置の最上段の支持面に支持された前記物品
を前記第２列装置の最上段の支持面まで搬送させて移載
する移載手段を有することを特徴とする請求項１に記載
の熱処理装置の物品搬送装置。
【請求項４】前記第１列装置の前記第１縦部材の前記
物品搬送方向下流側のものの前記最上段支持面とその下
の支持面との間の部分である１列目上端部は前記物品の
搬送経路内において前記物品の支持される範囲外に位置
し、前記第２列装置の前記第１縦部材の前記物品搬送方
向上流側のものの前記最上段支持面とその下の支持面と
の間の部分である２列目上端部は前記物品の搬送経路内
において前記物品の支持される範囲外に位置し、前記移
載手段は、前記熱処理装置内において前記物品の搬送経
路外に立設された１組の第３縦部材であって前記物品の
搬送経路内において前記１列目及び２列目上端部より手
前まで突出した上端支持面を持つ上端支持部材を備えた
第３縦部材と、該第３縦部材を前記第１列装置の位置と
前記第２列装置の位置との間で移動させる第３移動手段
と、前記上端支持面が前記第１縦部材の最上段支持面か
ら下方で前記間隔の範囲内の第３下位置から前記第１縦
部材の最上段支持面より高い第３上位置まで昇降するよ
うに前記第３縦部材を昇降させる第３昇降手段と、を有
することを特徴とする請求項３に記載の熱処理装置の物
品搬送装置。
【請求項５】前記物品を支持する出し入れ支持面を備
え該物品搬送方向に前記熱処理装置を貫通し前記熱処理
装置の搬送方向長さである全長より長い所定長さを持ち
前記搬送方向に移動自在に支持された１組の横部材を有
し、前記第３縦部材は前記横部材に立設され、前記第３
移動手段は該横部材を移動させ、前記第３昇降手段は前
記横部材を昇降させ、前記出し入れ支持面は所定高さに
おいて前記横部材の両端側で前記物品を支持する位置に
設けられていることを特徴とする請求項４に記載の熱処
理装置の物品搬送装置。