JP3516352B2 - 多段処理装置 - Google Patents

多段処理装置

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JP3516352B2
JP3516352B2 JP14264894A JP14264894A JP3516352B2 JP 3516352 B2 JP3516352 B2 JP 3516352B2 JP 14264894 A JP14264894 A JP 14264894A JP 14264894 A JP14264894 A JP 14264894A JP 3516352 B2 JP3516352 B2 JP 3516352B2
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多段処理装置に関する。
具体的にいうと、少なくとも上下方向に配列された複数
段の処理室を有し、被処理物を任意の処理室に収納した
り取り出したりするための機能を備えた多段処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示パネル等の製造工
程においては、一般にインライン製造設備が用いられて
いる。例えば、半導体ウエハやガラス基板等の被処理物
の表面にレジスト膜を形成する場合には、(1)被処理物
を取り出して洗浄し、(2)洗浄した被処理物を加熱乾燥
し、(3)冷却し、(4)レジスト液の密着性を高めるための
密着増強剤を被処理物の表面に噴霧し、(5)恒温槽に入
れて一定温度に保ち、(6)レジスト液を被処理物に塗布
し、(7)塗布されたレジスト液を乾燥させて溶剤を飛ば
し、(8)冷却し、(9)露光を行い、ついで(10)現像すると
いった工程が必要となる。従来にあっては、これら一連
の処理を行なうための各装置は、クリーンルーム内にラ
イン状に、かつ平面的に設置されており、コンベアによ
って被処理物を搬送しながら順次処理を施すようになっ
ていた。
【0003】しかしながら、クリーンルーム内は各種環
境条件が厳しく管理されているため、単位面積当たりの
コストが非常にに高くつき、製造ラインないし処理ライ
ンが長くなると、クリーンルームの設備コストや維持コ
ストが非常に高価につくという問題があった。特に、タ
クトタイムの長い処理工程、例えば被処理物の乾燥工程
では、他の工程でのタクトタイムとのバランスをとり、
被処理物をスムーズに流せるようにするためには、例え
ば乾燥装置などのラインを長くしなければならず、クリ
ーンルームのコストが高くついていた。
【0004】このため、クリーンルーム内の高さ方向の
空間を利用することが考えられている。図10に示すも
のは、複数の乾燥室102を有する乾燥処理装置101
であって、縦2段に乾燥室102を有している。103
は作業用ロボットであって、水平面内で動くアーム10
4の先端に支持プレート105を有し、アーム104の
基端は伸縮可能な支柱部106によって昇降自在に支持
されている。また、作業用ロボット103はレール10
7に沿って移動可能となっている。しかして、作業用ロ
ボット103は、前段の洗浄装置での洗浄処理終了の信
号を受信すると、洗浄装置へ被処理物を受け取りに行
き、洗浄された被処理物を支持プレート105に載せて
乾燥処理装置101へ運び、空の乾燥室102内へ被処
理物を納入してセットする。その一方、乾燥処理の終了
した被処理物を支持プレート105上に載せて乾燥室1
02から取り出し、次段の冷却装置へ運ぶという動作を
繰り返す。
【0005】このような乾燥処理装置を用いれば、乾燥
室が2段に設けられているので、乾燥処理装置の長さを
1/2にすることができ、クリーンルーム内に占める占
有面積を小さくすることができる。しかしながら、乾燥
室をさらに多段にしようとすると、それに対応して作業
ロボットが最下段の乾燥室から最上段の乾燥室まで移動
しなければならないので、作業用ロボットが縦に長大な
長身形態のロボットとなり、乾燥室の多段化に対応させ
ることができなかった。このため従来にあっては、乾燥
室は縦2段が限度であって、それ以上に増やすことがで
きなかった。
【0006】また、作業用ロボットによって被処理物を
乾燥室内に出し入れさせているので、作業用ロボットの
アームにレールと直角な方向へ大きなストロークを要求
されるが、このストローク不足を解決することが困難で
あった。
【0007】また、作業用ロボットは、もともと洗浄装
置から乾燥処理装置へ被処理物を運び、乾燥処理装置か
ら冷却装置へ被処理物を運ぶためのものであったが、そ
の作業用ロボットに乾燥室への被処理物の納入、取り出
しを始め、処理中や処理済みの処理室の登録管理なども
行なわせることになり、作業用ロボットの制御が非常に
複雑となっていた。
【0008】また、従来のインライン設備では、各処理
工程間での処理順序の変更や入れ替えが行なえず、フレ
キシビリティに欠けていた。そのため、例えば乾燥処理
工程を省略するなど、処理順序等の変更が必要となった
場合には、設備そのものを設置し直す必要があった。同
様に、従来の乾燥処理装置でも、乾燥室しか備えていな
いので、処理順序の変更等に対応することができなかっ
た。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は叙上の従来例
の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、処理室の多段構成を実現し、処理ラインの完
全分散処理化を可能にし、処理手順等のフレキシビリテ
ィを向上させることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の多段処理装置
は、処理装置本体に、少なくとも上下方向に配列された
複数の処理室と、その前面の一側部に上下移動可能な昇
降移動体とを設け、前記昇降移動体に、被処理物をほぼ
水平に運んで処理室内に納入し、あるいは処理後の被処
理物を処理室からほぼ水平に取り出すための複数の水平
移動体を上下に一体に連結して設け、前記水平移動体の
動作や前記処理室における処理時間等の当該処理装置に
おける処理プロセスをプログラミング制御可能にし、前
記水平移動体と装置外搬送手段との間での被処理物の受
け渡しを一定位置で行なわせるようにしたことを特徴と
している。
【0011】削除
【0012】また、前記複数の水平移動体のうちの隣接
する水平移動体間の中心間距離は、隣接する処理室間の
中心間距離とほぼ等しくなるようにされてもよい。
【0013】また、前記処理室には、異なる処理を行な
うための処理室や同一の処理を行なうための処理室が含
まれていてもよい。
【0014】さらに、処理工程間で被処理物を移動させ
る装置外搬送手段と、多段処理装置内部で被処理物を移
動させる前記水平移動体とを、別々に制御可能にするこ
ともできる。
【0015】削除
【0016】
【作用】本発明の多段処理装置にあっては、装置外搬送
手段、例えば、作業用ロボットによって前段の処理工程
から運ばれてきた被処理物を水平移動体がその受け渡し
位置で受け取り、昇降移動体によって水平移動体を昇降
させることによって目的の処理室へ被処理物を運び、さ
らに、ほぼ水平に水平移動体が移動することによって被
処理物を処理室へ納入する。一方、水平移動体がほぼ水
平に移動して処理の終了した被処理物を処理室から取り
出し、昇降移動体によって作業用ロボットとの被処理物
の受け渡し位置まで上下に移動させられる。ここで水平
移動体から作業用ロボットへ受け渡された被処理物は作
業用ロボットによって次段の処理工程へ運ばれる。従っ
て、水平移動体の制御と作業用ロボットの制御とを完全
分散制御することができる。
【0017】また、水平移動体によって処理済みの被処
理物を処理室から取り出し、別な処理室へ運んでその処
理室へ入れ、別な処理を行なわせることもできる。すな
わち、多段処理装置内に設けられている異なる種類の処
理室で順次処理を行なわせることもできる。特に、処理
手順の変更や間引き処理等も水平移動体の制御プログラ
ムを変更するだけで容易に行なえる。
【0018】さらに、複数の水平移動体を備えているの
、異なる処理室での被処理物の出し入れを同時に行な
え、水平移動体の移動回数を低減でき、タクトタイムを
短くできる。
【0019】
【実施例】図1は本発明の一実施例による多段処理装置
Aと作業用ロボットBを示す斜視図、図2は多段処理装
置Aの概略水平断面図である。処理装置本体1には複数
段、特に3段以上の処理室2が縦に積み重ねるように設
けられており、各処理室2は前面で開口されていて前面
から被処理物3を出し入れすることができるようになっ
ている。また、処理室2内には、小さな接触面積で被処
理物3を支持するための支持ピン4が複数本立設されて
いる。処理装置本体1に設けられている複数の処理室2
はすべて同じ処理を行なうものであってもよいが、例え
ば乾燥処理、冷却及び密着増強剤噴霧というように異な
る処理を行なう処理室2が設けられていてもよい。さら
には、同種と異種の処理室2とが混在していてもよい。
図1では、各処理室2は処理装置本体1に一体に組み込
まれているが、組み替え自在なコンポーネント型の処理
室2を積み重ねて固定するようにしてもよい。
【0020】また、処理装置本体1内の処理室2の左右
両側の空間には、それぞれリフター(昇降移動体)5の
後半部が納められており、リフター5の後半部はガイド
レール部6によって昇降自在に保持されている。リフタ
ー5は処理装置本体1内に設けられたリフター駆動機
構、例えばスプロケット7間に掛け回されたチェーン8
とモータ9とからなるリフター駆動機構により左右一緒
に昇降させられるようになっている。リフター5の前半
部は、処理装置本体1に開口された上下に長い開口部1
0から処理装置本体1の前面に張り出している。各リフ
ター5の対向内側面には、スペーサ11を介してスライ
ダー駆動機構12が設けられており、スライダー駆動機
構12によってスライダー(水平移動体)71が支持さ
れている。また、スライダー71の内側面には、被処理
物3を保持するための溝部13が設けられている。しか
して、リフター5を昇降させることによって、スライダ
ー71が少なくとも最上段の処理室2の高さから最下段
の処理室2の高さ及び被処理物3の受け渡し位置pの高
さに昇降できるようになっている。また、スライダー7
1を任意の処理室2の高さに移動させた状態では、スラ
イダー71は処理室2の前方に位置しており、スライダ
ー駆動機構12を駆動してスライダー71を水平に移動
させると、スライダー71は前面から処理室2内に入り
込む。
【0021】図3及び図4は同上のスライダー駆動機構
12を詳細に示す一部破断した斜視図及び断面図であ
る。スライダー駆動機構12は、固定フレーム51、中
間フレーム61及びスライダー71からなり、前後両方
向へ中間フレーム61及びスライダー71が伸びるよう
に構成されている。
【0022】固定フレーム51は、断面略E形をしたア
ルミニウム押出し成形品のE形フレーム材52を主体と
して構成されており、E形フレーム材52の内側側面に
全長にわたって突出している上フランジ部53の下面、
中間フランジ部54の側面および下フランジ部55の上
面にはそれぞれ複数個のカムフォロア(ローラ)56,
57,58が回転自在に枢支されている。
【0023】中間フレーム61は異形引抜成形品の異形
フレーム材62を主体として構成されており、左右両側
面の中央部に全長にわたって水平突出部64が突出し、
その上下にL形をした溝形突出部63,65が突出して
いる。この中間フレーム61の一方側面に突出している
溝形突出部63の上面の溝部63a及び溝形突出部65
の下面の溝部65a内には、固定フレーム51のカムフ
ォロア56,58を嵌め込まれており、これによって中
間フレーム61と固定フレーム51とが分離しないよう
に一体に結合されている。また、水平突出部64が固定
フレーム51のカムフォロア57の上に載置されてお
り、中間フレーム61の重量はカムフォロア57によっ
て支持されている。従って、カムフォロア56,57,
58が転動することによって中間フレーム61がスムー
ズにスライドできる。
【0024】スライダー71は固定フレーム51とほぼ
面対称な構造を有しており、断面略E形をしたアルミニ
ウム押出し成形品のE形フレーム材72を主体として構
成されている。E形フレーム材72の内側側面に突出し
ている上フランジ部73の下面、中間フランジ部74の
側面および下フランジ部75の上面にはそれぞれカムフ
ォロア(ローラ)76,77,78が回転自在に枢支さ
れている。しかして、カムフォロア76,78は中間フ
レーム61の他方側面に突出している溝形突出部63の
上面の溝部63a及び溝形突出部65の下面の溝部65
a内に嵌め込まれており、これによって中間フレーム6
1とスライダー71とが分離しないように一体に結合さ
れている。また、カムフォロア77が溝形突出部65の
上面に載置されており、スライダー71の重量は溝形突
出部65によって支持されている。したがって、カムフ
ォロア76,77,78が転動することによってスライ
ダー71がスムーズにスライドできる。
【0025】こうして、スライダー駆動機構12におい
ては、中間フレーム61が固定フレーム51にスライド
自在に支持され、スライダー71が中間フレーム61に
スライド自在に支持されており、スライダー71が固定
フレーム51を中心として両方向へ伸びるようになって
いる。しかも、固定フレーム51のカムフォロア56,
58及びスライダー71のカムフォロア76,78の直
径は中間フレーム61の溝形突出部63及び溝形突出部
65の内寸とほぼ等しくなっている(つまり、カムフォ
ロア56,58,76,78が溝形突出部63,65内
でがたつかず、しかも、溝形突出部63,65内で硬嵌
め状態とならないようにしている)ので、中間フレーム
61及びスライダー71が横方向に振れるのを防止でき
る。また、固定フレーム51のカムフォロア57及びス
ライダー71のカムフォロア77の直径も中間フレーム
61の水平突出部64と溝形突出部65の間の高さにほ
ぼ等しくなっている(つまり、カムフォロア57,77
が水平突出部64内でがたつかず、しかも、水平突出部
64内で硬嵌め状態とならないようにしている)ので、
中間フレーム61及びスライダー71が縦方向に振れる
のを防止できる。
【0026】つぎに、スライダー駆動機構12の動きに
ついて説明する。固定フレーム51はモータブロック9
1に固定されている。モータブロック91は駆動モータ
92、減速機93、前面板94及び駆動ピニオン機構9
5からなり、固定フレーム51の中央部は前面板94に
固定されている。駆動ピニオン機構95は3枚のピニオ
ン95a,95b,95cからなり、中央の原動ピニオ
ン95aは減速機93の出力軸93aに直結されてお
り、2枚の従動ピニオン95b,95cは前面板94に
回転自在に枢支され、原動ピニオン95aの両側で原動
ピニオン95aと噛み合っている。また、中間フレーム
61の下面には、全長にわたってラック96が設けられ
ており、両側の従動ピニオン95b,95cが当該ラッ
ク96と噛み合っている。従って、駆動モータ92によ
って原動ピニオン95aが駆動されると、従動ピニオン
95b,95cと中間フレーム61のラック96との噛
み合いによって中間フレーム61が駆動され、中間フレ
ーム61が突出させられる。このとき、図5に示すよう
に、ラック96が駆動ピニオン95c(あるいは、95
b)との噛み合いが外れる直前まで中間フレーム61を
突出させることができるので、3枚のピニオン95a,
95b,95cからなる駆動ピニオン機構95によれ
ば、1枚のピニオン(例えば、原動ピニオン95a)の
みで構成している場合に比べ、中間フレーム61の突出
距離を原動及び従動ピニオン95a,95b間の水平距
離分L1だけ延長させることができる。また、駆動ピニ
オン95aの回転方向によって中間フレーム61の突出
方向を変えることができる。
【0027】また、固定フレーム51及びスライダー7
1の内側側面には、各中間フランジ部54,74の上方
に全長にわたってそれぞれラック59,79が設けられ
ている。一方、中間フレーム61の中央部において水平
突出部64上面と上側の溝形突出部63下面との間には
開口97が設けられており、この開口97内において水
平突出部64の上面には倍ストローク伝達ピニオン機構
98が配設されている。この倍ストローク伝達ピニオン
機構98は、両端の噛合ピニオン99a,99bと一列
に配列された複数枚の伝達ピニオン80a,80b,8
0cとから構成されており、1方の噛合ピニオン99a
の回転が伝達ピニオン80a,80b,80cを介して
他方の噛合ピニオン99bに伝達される。また、一方の
噛合ピニオン99aは固定フレーム51のラック59と
噛み合っており(収縮時には、スライダー71のラック
79とも噛み合っている。)、他方の噛合ピニオン99
bはスライダー71のラック79と噛み合っている(収
縮時には、固定フレーム51のラック59とも噛み合っ
ている。)。従って、駆動ピニオン機構95によって中
間フレーム61がスライドさせられると、ラック59と
噛合ピニオン99aとの噛み合いによって噛合ピニオン
99aが回転し、この回転が伝達ピニオン80a,80
b,80cを通して他方の噛合ピニオン99bに伝わ
り、噛合ピニオン99bが回転する。この結果、噛合ピ
ニオン99bの回転によってラック79が送られるの
で、スライダー71が駆動され、スライダー71が突出
させられる。よって、駆動ピニオン機構95によって中
間フレーム61が突出させられると、倍ストローク伝達
ピニオン機構98によってスライダー71がさらに中間
フレーム61から突出させられ、中間フレーム61が引
っ込むとスライダー71も同時に引っ込む。しかも、ス
ライダー71の突出時には、図6に示すように、スライ
ダー71のラック79が噛合ピニオン99b(又は、9
9a)との噛み合いが外れる直前までスライダー71を
突出させることができるので、倍ストローク伝達ピニオ
ン機構98を用いることにより、1枚のピニオン(例え
ば、噛合ピニオン99a)でスライダー71に動力を伝
達させる場合に比べ、スライダー71の突出距離を噛合
ピニオン99a,99b間の距離分L2だけ延長させる
ことができる。また、中間フレーム61の突出方向に応
じてスライダー71も両方向にスライドするようになっ
ている。
【0028】なお、駆動ピニオン機構95の従動ピニオ
ン95c(95b)の中心から固定フレーム51のラッ
ク59の端までの水平距離と、中間フレーム61のラッ
ク96の端から倍ストローク伝達機構98の噛合ピニオ
ン99a(99b)の中心までの水平距離とは、ほぼ等
しくなっている。また、固定フレーム51、中間フレー
ム61及びスライダー71の長さは互いに等しくなって
いる。
【0029】また、図1に示す作業用ロボットBは、前
段の処理装置(図示せず)で受け取った被処理物3を多
段処理装置Aの受け渡し位置pへ運び、また多段処理装
置Aの受け渡し位置pで受け取った被処理物3を次段の
処理装置(図示せず)へ運ぶものであって、水平面内で
動くアーム14の先端部に被処理物3を載せるための支
持プレート15が設けられている。また、作業用ロボッ
トBはレール16に沿って移動できるようになってい
る。
【0030】つぎに、上記多段処理装置Aの動作を図7
(a)〜(e)に従って説明する。スライダー71は被
処理物3の受け渡し位置pに待機しており、図7(a)
(b)に示すように作業用ロボットBによって前段の処
理装置から搬送されてきた被処理物3はスライダー71
の溝部13内に挿入され、スライダー71へ移載され
る。あるいは、スライダー71は前方へも移動できるの
で、スライダー71によって被処理物3を迎えに行くよ
うにしてもよい。こうしてスライダー71に被処理物3
が載置されると、図7(c)に示すようにリフター5に
よってスライダー71が目的とする処理室2の高さまで
上昇させられ、その高さでスライダー駆動機構12によ
ってスライダー71が処理室2内に挿入され、図7
(d)のように被処理物3は支持ピン4の上に運び込ま
れる。ついで、リフター5が少し降下することによって
被処理物3がスライダー71から支持ピン4の上に載置
される。被処理物3が支持ピン4の上に載ると、スライ
ダー71は処理室2から元の位置に戻り、リフター5は
再び元の受け渡し位置pに戻って待機する。
【0031】被処理物3の処理が終了すると、上記の順
序と逆の順序に従って処理室2内の被処理物3がスライ
ダー71によって取り出され、受け渡し位置pへ運ばれ
る。受け渡し位置pでは、スライダー71から作業用ロ
ボットBへ被処理物3が移載され、作業用ロボットBに
よって次段の処理装置へ搬送される。
【0032】あるいは、多段処理装置Aに異なる種類の
処理室2が設けられている場合には、処理の終了した被
処理物3はスライダー71によって当該処理室2から取
り出され、次の処理を行なう処理室2へ運ばれ、その処
理室2内に納入されて処理を施される。これにより、被
処理物3は多段処理装置A内で順次複数の処理を施され
ることになる。
【0033】多段処理装置Aはプログラム制御可能とな
っており、これらリフター5及びスライダー71によっ
て被処理物3を処理する順序や処理時間等は、予め多段
処理装置Aにプログラムされている。従って、多段処理
装置A内における処理順序の変更や処理の間引き(例え
ば、冷却処理を省略する場合など)をする場合などに
は、多段処理装置Aのプログラムを変更するだけで対応
することができる。また、多段処理装置Aにおける処理
順序等の制御は、作業用ロボットBとは独立しているの
で、多段処理装置Aと作業用ロボットBを完全分散制御
化することができ、作業用ロボットBの制御を簡単にす
ることができる。
【0034】また、多段処理装置A内での被処理物3の
操作はリフター5及びスライダー71によって行なわれ
るので、処理室2の段数が作業用ロボットBの制約によ
って制限されることがなく、処理室2を多段化すること
ができる。従って、クリーンルームの高さ方向の空間の
利用効率を高めることができ、クリーンルームにおける
占有面積を小さくすることができる。
【0035】図8は本発明の別な実施例における多段処
理装置Cを示す一部破断した概略平面図である。この多
段処理装置Cにおいては、複数段の処理室2を有する処
理装置本体1の前面両側部に昇降ユニット17を設けて
いる。昇降ユニット17内には、リフター5及びリフタ
ー駆動機構が納められており、スライダー駆動機構12
及びスライダー71はリフター5から処理室2の前面側
へ張り出すように設けられている。この実施例では、リ
フター5及びリフター駆動機構を処理装置本体1内に設
けず、別体としているので、リフター駆動機構等の点検
修理等が容易に行なえる。また、多段処理装置に後付け
とすることもできる。さらには、処理室2を横方向にも
複数列に設け、昇降ユニット17を横方向にも移動可能
にするといったことも考えられる。
【0036】なお、図8の実施例では、処理装置本体の
前面に昇降ユニットを設けたが、スライダーが処理室の
前方に位置するようにしてあれば、処理装置本体の側面
に昇降ユニットを取り付けてあっても差し支えない。
【0037】図9は本発明のさらに別な実施例の一部を
示す正面図である。図9では一方のリフター5及びスラ
イダー71だけを示しているが、他方のスライダー71
も対称な形態を有している。この実施例では、リフター
5の側面に上下2段にスライダー駆動機構12及びスラ
イダー71を設けてあり、しかも上下のスライダー71
の中心間距離は処理室2の中心間距離とほぼ等しくなっ
ている。しかして、この実施例では、上下のスライダー
71にそれぞれ被処理物3を載せて運ぶことができ、同
時に2枚の被処理物3を処理室に出し入れすることがで
きる。あるいは、一方のスライダー71の上の被処理物
3を処理室2に納入しながら、同時に他方のスライダー
71によって処理済みの被処理物3を処理室2から取り
出すことができる。従って、この実施例では、スライダ
ー71の移動回数を減らすことができ、タクトタイムを
短くすることができる。
【0038】なお、上記各実施例では、左右一対のスラ
イダーを有しており、左右から被処理物を保持するよう
にしていたが、スライダーは1本だけであっても差し支
えない。例えば、作業ロボットの支持プレートと同様な
形状の支持部を有するスライダーで被処理物の中央部下
面を支持するようにしてもよい。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、処理装置本体に設けら
れた昇降移動可能な水平移動体によって被処理物を所定
の処理室へ運ぶことができるので、従来のように処理室
を多段に構成しても作業用ロボット(装置外搬送手段)
が長大化したり、負担が大きくなったりすることがなく
なる。従って、処理室を多段に構成することが可能とな
り、クリーンルーム等の高さ方向の空間を活用し、処理
ラインを短くすることができる。この結果、クリーンル
ーム等のコストを大幅に低減することができる。
【0040】また、従来例のように作業用ロボットのス
トローク不足の問題も無くなる。さらに処理工程間で被
処理物を移動させる作業用ロボットと多段処理装置内部
で被処理物を移動させる水平移動体とを別々に制御する
ことが可能となり、完全分散処理制御を実現することが
でき、特に作業用ロボットの制御を簡単にすることがで
きる。
【0041】さらに、作業用ロボットと水平移動体との
間での被処理物の受け渡しを一定位置で行なわせるよう
しているので、作業用ロボットの制御をより簡単にす
ることができる。
【0042】また、異なる処理を行なうための処理室が
多段に設けられている場合には、水平移動体の制御手順
のプログラムを変更するだけで処理手順の変更や間引き
処理も容易に行なえる。
【0043】さらに、複数の水平移動体を上下に一体に
連結して備えているので、異なる処理室での被処理物の
出し入れを略同時に行なえ、水平移動体の移動回数を低
減でき、タクトタイムを短くできる。殊に、複数の水平
移動体を、隣接する水平移動体間の中心間距離が隣接す
る処理室間の中心間距離とほぼ等しくなるようにして上
下に備えているので、隣接する異なる処理室での被処理
物の出し入れを昇降調節なしに同時に行なえ、水平移動
体の移動回数をさらに低減でき、タクトタイムをさらに
短くできる。加えて、処理装置本体の前面の一側部に昇
降移動体が設けられ、該昇降移動体に複数の水平移動体
が上下に一体に連結して設けられているので、処理装置
本体の前面の両側部に昇降移動体が設けられる場合に比
較して、昇降・水平移動体構造がきわめて簡単化される
とともに、省スペースとなり、昇降移動体が設けられな
い他側部側に開放される空間をメンテナンス用等に使用
して、空間使用効率をさらに向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による多段処理装置を示す斜
視図である。
【図2】同上の概略平断面図である。
【図3】同上のスライダー駆動機構の構造を示す斜視図
である。
【図4】同上のスライダー駆動機構の横断面図である。
【図5】同上のスライダー駆動機構の駆動ピニオン機構
の動作を説明する図である。
【図6】同上のスライダー駆動機構の倍ストローク伝達
ピニオン機構の動作を説明する図である。
【図7】(a)(b)(c)(d)(e)は同上の多段
処理装置の動作説明図である。
【図8】本発明の別な実施例による多段処理装置を示す
一部破断した概略平面図である。
【図9】本発明のさらに別な実施例の一部を示す概略正
面図である。
【図10】従来例による多段処理装置を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
A 多段処理装置 B 作業用ロボット 1 処理装置本体 2 処理室 3 被処理物 5 リフター 12 スライダー駆動機構 71 スライダー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−241840(JP,A) 特開 昭60−48802(JP,A) 特開 平4−309423(JP,A) 実開 昭60−72404(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68,21/027 B65G 1/00,1/04

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理装置本体に、少なくとも上下方向に
    配列された複数の処理室と、その前面の一側部に上下移
    動可能な昇降移動体とを設け、 前記昇降移動体に、被処理物をほぼ水平に運んで処理室
    内に納入し、あるいは処理後の被処理物を処理室からほ
    ぼ水平に取り出すための複数の水平移動体を上下に一体
    に連結して設け、 前記水平移動体の動作や前記処理室における処理時間等
    の当該処理装置における処理プロセスをプログラミング
    制御可能にし、 前記水平移動体と装置外搬送手段との間での被処理物の
    受け渡しを一定位置で行なわせるようにしたことを特徴
    とする多段処理装置。
  2. 【請求項2】 前記複数の水平移動体のうちの隣接する
    水平移動体間の中心間距離は、隣接する処理室間の中心
    間距離とほぼ等しくなるようにされたことを特徴とする
    請求項に記載の多段処理装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の処理室は、異なる処理を行な
    うための処理室を含むことを特徴とする請求項1または
    に記載の多段処理装置。
  4. 【請求項4】 前記複数の処理室は、同一の処理を行な
    うための処理室を含むことを特徴とする請求項1または
    に記載の多段処理装置。
  5. 【請求項5】 処理工程間で被処理物を移動させる前記
    装置外搬送手段と、前記多段処理装置内部で被処理物を
    移動させる前記水平移動体とを、別々に制御可能にした
    ことを特徴とする請求項1に記載の多段処理装置。
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