JPH0193305A - 電鋳加工によって製作される成形型の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は表面部に皮革模様等の微細な凹凸部が形成され
た成形品を成形するための電鋳加工によって製作される
成形型の製造方法に関する。

（従来の技術） 従来、表面部に皮革模様等の微細な凹凸部が形成された
成形品を製作する場合に、成形品と同一の形状の木型を
製作してその木型の表面部に天然の皮革或いは皮革模様
のビニールレザーを貼り付けて原型を製作し１、この原
型から該原型と逆の凹凸形状の模型型を製作し、模型型
から該模型型と逆の凹凸形状の母型を製作し、この母型
の表面部に電鋳加工によって金属を析出させてキャビテ
ィを製作し、そのキャビティを用いてプラスチック成形
品を製作し、成形品の表面部に原型と同じ微細な凹凸形
状が得られるようにしている。近時、意匠上の要求から
、成形品の微細な凹凸部の内、凸部或いは四部の一方を
選択的に光沢を持たせたるようにしたり逆に非光沢にし
たり或いは微細な凹凸部の一部分のみを光沢を持たせる
ようにすることが要望されている。

（発明が解決しようとする問題点） 成形品の表面部に形成される凹凸部が皮革模様である時
に、原型に張付ける天然の皮革或いはビニールレザーを
意匠、Ｌ′、の要求に合致するものを用いればよいので
あるが、天然の皮革は全て光沢がないものであり、また
、型押し等で製作されるビニールレザーはその微細な凹
部及び凸部の表面状態がいずれも均一の面粗度であり、
従って、従来の方法で製作しても微細な凹凸部の特定の
部分を光沢にしたり或いは非光沢にするという要求を満
たすことは困難であった。

従って、本発明の目的は、表面部に微細な凹凸部を存す
る成形品において、凸部或いは凹部の特定の部分を光沢
面或いは非光沢面に任意に形成し得る電鋳加工によって
製作される成形型の製造方法を提供するにある。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明の第１の方法は、成形品と等しい外形形状でその
表面部に皮革模様等の微細な凹凸部が形成された原型を
製作する工程と、この原型から該原型と逆の凹凸形状の
模型型を製作する工程と、この模型型に基いてこの模型
型と逆の凹凸形状で前記原型と等しい形状の母型を製作
する工程と、この母型の外表面に所定厚さの電鋳金属層
を析出させた後に該母型から離型することにより成形品
と逆の凹凸形状のキャビティを製作する工程とからなる
ものにおいて、前記模型型或いは母型の表面部に研磨加
工或いは粗面加工を行うことにより成形品の微細な凹凸
部の特定の部分が光沢面或いは非光沢面となるようにし
たことを特徴とするものである。

本発明の第２の方法は、第１の方法において模型或いは
母型の表面部に研磨加工或いは粗面加工を行うことが困
難或いは適当でない場合に、第１の方法で製作された模
型型からこの模型型と逆の凹凸形状で原型と等しい形状
の反転模型型を製作する工程と、この反転模型型に基い
て該反転模型型と逆の凹凸形状で模型型と等しい形状の
第２次模型型を製作する工程と、この第２次模型型に基
いて母型を製作する工程とからなるものにおいて、前記
反転模ＪＪｌ型或いは第２次模型型の表面部に研磨加工
或いは粗面加工を行うことにより成形品の微細な凹凸部
の特定の部分が光沢面或いは非光沢面となるようにした
ことを特徴とするものである。

（作用） 上記した手段によれば、原型の表面の微細な凹凸形状を
構成する部分が成形品に要求される面粗度と異なる場合
でも、原型からキャビティを製作する迄に製作される模
型型１反転模型型、第２次模型型或いは母型のいずれか
最も適当なものに対してその表面部に研磨加工或いは粗
面加工を行うことにより、成形品の微細な凹凸部の特定
の部分を要求される面粗度の光沢面或いは非光沢面にす
ることができる。

（実施例） 以下本発明の第１の実施例について第１図を参照しなが
ら説明する。第１図（ａ）に示す１は原型で、これは木
型等で成形品と同一の外形形状に形成して、その表面部
に例えば天然の皮革或いはビニールレザー等を張付けた
ものである。第１図（ｂ）に示す２は原型１と逆の凹凸
形状の模型型で、これは原型１の表面にシリコン樹脂等
を塗布して硬化させた後にその原型１から離型したもの
である。第１図（Ｃ）に示す３は模型型２と逆の凹凸形
状の母型で、これは模型型２の表面にエポキシ樹脂を塗
布して硬化させた後に模型型２から離型して得られたも
のであり、従って、この母型３の表面形状は原型１と等
しい形状となる。この母型の３の表面部に導電加工を施
して後に、その母型３を電鋳槽に浸漬して電鋳加工を施
し、その母型３の表面部に第１図（ｄ）に示すように例
えばニッケル等の電鋳金属層を所定厚さに析出させた後
にその母型３からその電鋳金属層を離型すると成形品と
逆の凹凸形状の第１図（ｅ）に示すキャビティ４が形成
される。このキャビティ４が型枠等にセットされて成形
品５の成形に用いられる。

而して、模型型２の表面は原型１の表面と逆になってい
るから、原型１の表面の微細な凹凸部のうち四部と対応
する部分が凸部となっており、凸部と対応する部分が四
部となっている。また、母型３は原型１と同じ凹凸形状
であるから、原型１の表面の微細な凹凸部のうち四部と
対応する部分は四部となっており、凸部と対応する部分
は凸部となっている。

そこで、例えば成形品５の表面の微細な凹凸部のうち凸
部と対応する部分のみを光沢面にしたい場合には、模型
型２の表面の微細な凹凸部のうち凹部をマスキングして
凸部のみに化学的なエツチング加工による粗面加工を施
す。このようにして凸部に粗面加工が施された模型型２
を用いて母型３を製作するとその母型３は表面部の微細
な凹凸部のうち凹部のみが粗面に形成される。次にこの
ようにして製作された母型３の表面の微細な凹凸部のう
ち粗面になされた凹部をマスキングして凸部のみに化学
的な研磨加工を施し、このように加工された母！４２３
によってキャビティ４を製作すると、キャビティ４はそ
の表面の微細な凹凸部のうち四部の表面が光沢面になり
、凸部は粗面（非光沢面）になる。そこで、このキャビ
ティ４で成形品５を成形すると、成形品５はキャビティ
４と逆の凹凸形状になされるから、その表面の微細な凹
凸部のうち凸部が光沢面になり、四部が非光沢面になる
。この場合の模型型２に対するエツチング加工の範囲及
び母型３に対する研磨加工の範囲は成形品５として要求
される特定の部分に限って行うようにすればよい。

また、例えば成形品５の表面の微細な凹凸部のうち四部
と対応する部分のみを光沢面にしたい場合には、模型型
２の表面の微細な凹凸部のうち四部をマスキングして凸
部のみに化学的な研磨加工を施す。このようにして凸部
に研磨加工が施された模型型２を用いて母型３を製作す
るとその母型３は表面部の微細な凹凸部のうち凹部のみ
が光沢面に形成される。次にこのようにして製作された
母型３の表面の微細な凹凸部のうち光沢面になされた凹
部をマスキングして凸部のみに化学的なエツチング加工
による粗面加工を施し、このように加工された母型３に
よってキャビティ４を製作すると、キャビティ４はその
表面の微細な凹凸部のうち凸部の表面が光沢面になり、
凹部は粗面（非光沢面）になる。そこで、このキャビテ
ィ４で成形品５を成形すると、成形品５はキャビティ４
と逆の凹凸形状になされれから、その表面の微細な凹凸
部のうち四部が光沢面になり、凸部が非光沢面になる。

上記した実施例の方法を用いることによって、従来は不
可能であったが、キャビティ４を製作する途中の工程の
模型型２或いは母型３で成形品５の表面部に形成される
微細な凹凸部と対応する凹凸部がその都度反転されるか
ら、例えば凹部では用いることができない加工法を反転
されて凸部となった時に用いることが可能となり、従っ
てこの方法を利用することによって表面部に微細な凹凸
部を有する成形品５において、凸部或いは凹部の特定の
部分を光沢面或いは非光沢面に任意に形成し得るという
効果を奏する。

第２図は本発明の第２の実施例を示すものである。この
実施例の方法は、第１の実施例で模型型２及び母Ｊ４２
３がシリコン或いはエポキシ等の樹脂であるために材料
の特性から、それに施すことができる研磨加工或いは粗
面加工の種類が限定され、そのために成形品５の表面の
光沢或いは非光沢の状態を要求される状態に充分できな
い場合等に用いるのに好適している。

この第２の実施例の方法において、原型１から模型型２
を製作する方法は第１の実施例と全く同様である。第２
図（ｃ）に示す６は反転模型型で、これは模型型２と逆
の凹凸形状で、これは例えば模型型２の表面部に導電加
工を施して後に、その模型型２を電鋳槽に浸漬して電鋳
加工を施し、その模型型２の表面部に例えば銅或いはニ
ッケルなどの電鋳金属層を所定厚さに析出させた後にそ
の模型型２からその電鋳金属層を離型させて得られたも
ので、模型型２と逆の凹凸形状で、原型１と同じ凹凸形
状に形成されている。第２図（ｄ）に示す７は第２次模
型型で、これは反転模型型６の表面部にエポキシ樹脂を
塗布して硬化させた後に離型することによって得られた
もので、反転模型型６と逆の凹凸形状で、模型型２と同
じ凹凸形状に形成されている。この反転模型型７の表面
部に再びエポキシ樹脂を塗布して硬化させた後に離型す
ることによって第１の実施例の母型３と同様の第２図（
ｅ）に示す母型８が形成される。この母型８から第１の
実施例と同様の工程でキャビティ４が形成され、このキ
ャビティ４を用いて第１の実施例と同様にして成形品５
が成形される。

この第２の実施例の方法において、例えば成形品５の表
面の微細な凹凸部のうち凸部と対応する部分のみを光沢
面にしたい場合には、まず金属で形成された反転模型型
６の表面の微細な凹凸部のうち凸部のみに機械的な研磨
加工を施して光沢面にし、このように加工された反転模
型型６を用いて第２次模型型７が形成される。すると、
形成された第２次模型型７は表面の微細な凹凸部のうち
凹部が光沢面になされている。この第２次模型型７に対
してその表面部の微細な凹凸部のうち光沢面となった凹
部をマスキングして凸部のみに化学的なエツチング加工
による粗面加工を施す。このようにして凸部に粗面加工
が施された第２次模型型７を用いて母型８を製作すると
その母型８は表面部の微細な凹凸部のうち凹部が粗面（
非光沢面）に形成され、凸部が光沢面になる。母型８の
凹凸形状と成形品５の凹凸形状は既に説明したように合
致するから、この母型８を用いてキャビティ４を製作し
、そのキャビティ４で成形品５を成形すると、成形品５
の表面の微細な凹凸部はのうち凸部が光沢面になり、凹
部が非光沢面になる。この場合の反転模型型６に対する
研磨加工の範囲及び第２次模型型７に対するエツチング
加工の範囲は成形品５として要求される特定の部分に限
って行うようにすればよい。

さて、第２次模型型７に対するエツチング加工に際して
成形品５に要求される粗面の状態がエポキシ樹脂に対す
るエツチングで得られない場合には、この第２次模型型
７を金属にすることによってその要求に見合うものとす
ることができる。即ち、凸部が研磨加工された反転模型
型６を電鋳槽に浸漬してその表面に電鋳金属層を析出さ
せ、その電鋳金属層でもって第２次模型型７を形成する
ようにすれば第２次模型型７も金属製になるがら、これ
に対して金属にしか適用できないエツチング処理が可能
になる。なお、成形品５の表面の微細な凹凸部のうち凸
部を光沢面にするが或いは四部を光沢面にするかによっ
ては反転模型型６をエポキシ樹脂で製作して、第２次模
型型７を金属製にすることも可能であり、反転模型型６
及び第２次模型型７のいずれを金属製にするが或いは双
方を金属製にするかの選択は成形品に要求される表面の
状態に合わせて適宜に選択すればよい。

この第２の実施例の方法でも従来は不可能であった成形
品の成形ができる。

（発明の効果］ 本発明は以上の説明から明らかなように、原型の表面の
微細な凹凸形状を構成する部分が成形品に要求される面
粗度と異なる場合でも、原型からキャビティを製作する
迄に製作される模型型９反転模型型或いは第２次模型型
のいずれか最も適当なものに対してその表面部に研磨加
工或いは粗面加工を行うことにより、成形品の微細な凹
凸部の特定の部分を要求される面粗度の光沢面或いは非
光沢面にすることができるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例を示す製作過程を示す図
、第２図は本発明の第２の実施例を示す製作過程を示す
図である。 図面中、１は原型、２は模型型、３は母型、４はキャビ
ティ、５は成形品、６は反転模型型、７は第２次模型型
、８は母型である。 出願人　　地上化１［工業株式会社 （ａ）（ｄ） （ｂ）　　　　　　　　　　　　　　　（ｅ）（Ｃ）　
　　　　　　　　　　　　　　　（ｆ）第１図 （ｅ） ２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、成形品と等しい外形形状でその表面部に皮革模様等
   の微細な凹凸部が形成された原型を製作する工程と、こ
   の原型から該原型と逆の凹凸形状の模型型を製作する工
   程と、この模型型に基いてこの模型型と逆の凹凸形状で
   前記原型と等しい形状の母型を製作する工程と、この母
   型の外表面に所定厚さの電鋳金属層を析出させた後に該
   母型から離型することにより成形品と逆の凹凸形状のキ
   ャビティを製作する工程とからなるものにおいて、前記
   模型型或いは母型の表面部に研磨加工或いは粗面加工を
   行うことにより成形品の微細な凹凸部の特定の部分が光
   沢面或いは非光沢面となるようにしたことを特徴とする
   電鋳加工によって製作される成形型の製造方法。 ２、成形品と等しい外形形状でその表面部に皮革模様等
   の微細な凹凸部が形成された原型を製作する工程と、こ
   の原型から該原型と逆の凹凸形状の模型型を製作する工
   程と、この模型型から該模型型と逆の凹凸形状で原型と
   等しい形状の反転模型型を製作する工程と、この反転模
   型型に基いて該反転模型型と逆の凹凸形状で前記模型型
   と等しい形状の第２次模型型を製作する工程と、この第
   ２次模型型に基いてこの第２次模型型と逆の凹凸形状で
   前記原型及び反転模型型と等しい形状の母型を製作する
   工程と、この母型の外表面に所定厚さの電鋳金属層を析
   出させた後に該母型から離型することにより成形品と逆
   の凹凸形状のキャビティを製作する工程とからなるもの
   において、前記反転模型型或いは第２次模型型の表面部
   に研磨加工或いは粗面加工を行うことにより成形品の微
   細な凹凸部の特定の部分が光沢面或いは非光沢面となる
   ようにしたことを特徴とする電鋳加工によって製作され
   る成形型の製造方法。 ３、研磨加工或いは粗面加工を行う反転模型型或いは第
   ２次模型型を金属の電鋳加工によって製作することを特
   徴とする特許請求の範囲第２項に記載の電鋳加工によっ
   て製作される成形型の製造方法。