JPH0143633Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0143633Y2 JPH0143633Y2 JP1979582U JP1979582U JPH0143633Y2 JP H0143633 Y2 JPH0143633 Y2 JP H0143633Y2 JP 1979582 U JP1979582 U JP 1979582U JP 1979582 U JP1979582 U JP 1979582U JP H0143633 Y2 JPH0143633 Y2 JP H0143633Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- salt water
- tank
- liquid
- spray
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 33
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 8
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は塩水噴霧試験装置に使用する一定濃
度、一定PHの塩水を製造調整および分配する装置
に関するものである。
度、一定PHの塩水を製造調整および分配する装置
に関するものである。
めつき、有機被覆鋼板等の耐食性判定法とし
て、もつとも代表的なものが塩水噴霧試験（JIS
Z2371）であり、塩水噴霧試験法は日本工業規格
（JIS）で規定されており、使用する塩水は塩化ナ
トリウム（NaCl）濃度：５±１％、PH6.5〜7.2と
されている。
て、もつとも代表的なものが塩水噴霧試験（JIS
Z2371）であり、塩水噴霧試験法は日本工業規格
（JIS）で規定されており、使用する塩水は塩化ナ
トリウム（NaCl）濃度：５±１％、PH6.5〜7.2と
されている。
通常塩水はNaCl濃度５±１％になるように塩
化ナトリウムを脱イオン水あるいは蒸留水などの
純水に溶解し、水酸化ナトリウム（NaOH）水
溶液を用いてPHを規定値に合せたのち塩水噴霧試
験機付属の塩水貯蔵びんに入れて使われる。周知
の如く塩水は大気中に炭酸ガスを吸収し、次第に
PHが低下する傾向にあり塩水の製造時にはPHが規
定値内にあつても使用中にPHが規定値を割ること
がしばしば起こる。例えば、第１図に脱イオン水
を使用して調整したNaCl5％の調整液Ａと噴霧液
Ｂの経時によるPH変動を示したが、このようなこ
とがあると、塩水噴霧試験のデータそのものが信
頼を失なうことになりかねない。
化ナトリウムを脱イオン水あるいは蒸留水などの
純水に溶解し、水酸化ナトリウム（NaOH）水
溶液を用いてPHを規定値に合せたのち塩水噴霧試
験機付属の塩水貯蔵びんに入れて使われる。周知
の如く塩水は大気中に炭酸ガスを吸収し、次第に
PHが低下する傾向にあり塩水の製造時にはPHが規
定値内にあつても使用中にPHが規定値を割ること
がしばしば起こる。例えば、第１図に脱イオン水
を使用して調整したNaCl5％の調整液Ａと噴霧液
Ｂの経時によるPH変動を示したが、このようなこ
とがあると、塩水噴霧試験のデータそのものが信
頼を失なうことになりかねない。
本考案はかゝる欠点を解消した塩水製造調整分
配装置を提供するものである。本装置の使用によ
り噴霧液のPHは設定値±0.1で管理することが可
能で、試験結果の信頼性、再現性が極めて向上す
るという効果が得られる。これが本考案の第１の
特徴である。また、第２の特徴として、一度に多
数個の塩水噴霧試験機を使用する場合に同一PHの
食塩水が各塩水噴霧試験機に供給されるので試験
機間のデータばらつきも少なくなることがあげら
れる。第３の特徴は、塩水は自動製造することが
できるため省力化ができ、長期間の休日が続いて
も塩水が無くなることがないことである。
配装置を提供するものである。本装置の使用によ
り噴霧液のPHは設定値±0.1で管理することが可
能で、試験結果の信頼性、再現性が極めて向上す
るという効果が得られる。これが本考案の第１の
特徴である。また、第２の特徴として、一度に多
数個の塩水噴霧試験機を使用する場合に同一PHの
食塩水が各塩水噴霧試験機に供給されるので試験
機間のデータばらつきも少なくなることがあげら
れる。第３の特徴は、塩水は自動製造することが
できるため省力化ができ、長期間の休日が続いて
も塩水が無くなることがないことである。
すなわち、本装置は、塩水貯液槽内の貯液量
を監視し、一定量以下になると、塩水の製造、
PH調整を行ない、貯液槽へ移送し、貯液槽中
のPHを常時監視し設定範囲内に調整する、操作を
自動化した装置である。そのため試験条件が一定
に維持できることと、省力化に大きな役割を果
す。
を監視し、一定量以下になると、塩水の製造、
PH調整を行ない、貯液槽へ移送し、貯液槽中
のPHを常時監視し設定範囲内に調整する、操作を
自動化した装置である。そのため試験条件が一定
に維持できることと、省力化に大きな役割を果
す。
また本装置は、第２図に示すようなPH変動を考
慮した小容量の分配槽５を設け、塩水噴霧試験内
に設置されている噴霧塔６の塩水溜の液面と分配
槽５との液面のレベルを合せ複数の試験機へ配液
が行えるよう工夫されている。
慮した小容量の分配槽５を設け、塩水噴霧試験内
に設置されている噴霧塔６の塩水溜の液面と分配
槽５との液面のレベルを合せ複数の試験機へ配液
が行えるよう工夫されている。
以下第３図に基づいて本考案の内容を詳細に説
明する。
明する。
秤量済の一定量のNaClが混合槽３内に投入さ
れると、貯水槽（図示していない）に通ずる電磁
弁S1およびNaOH水溶液添加槽１に備えつけて
ある定量ポンプP1が作動し、貯水槽から脱イオ
ン水がまたNaOH水溶液添加槽１からはNaOH
水溶液が混合槽内に一定量供給され、撹拌が行わ
れて５％NaCl水溶液が調合される。調合が終了
すると混合槽３と貯液槽４との経路の途中に設け
られた電磁弁S2が開き、調合された塩水が塩水貯
液槽４に移される。以上の動作は貯液槽４の液面
が設定されたレベルより下がるとそれを液面計
F2が感知し自動的に行われるので、長期にわた
り無人運転ができる。
れると、貯水槽（図示していない）に通ずる電磁
弁S1およびNaOH水溶液添加槽１に備えつけて
ある定量ポンプP1が作動し、貯水槽から脱イオ
ン水がまたNaOH水溶液添加槽１からはNaOH
水溶液が混合槽内に一定量供給され、撹拌が行わ
れて５％NaCl水溶液が調合される。調合が終了
すると混合槽３と貯液槽４との経路の途中に設け
られた電磁弁S2が開き、調合された塩水が塩水貯
液槽４に移される。以上の動作は貯液槽４の液面
が設定されたレベルより下がるとそれを液面計
F2が感知し自動的に行われるので、長期にわた
り無人運転ができる。
貯液槽４のPHは、PH電極PHMにより常時管理
されPHが設定下限より低下すれば、NaOH水溶
液添加槽２に備えつけてある微少量のNaOH水
溶液を供給する定量ポンプP2でNaOH水溶液が
貯液槽４に注入され設定値に補正される。そのと
き、ポンプP3，P4が作動して貯液槽内の塩水を
均一混合する。またその際には、移送ポンプP5，
P6は停止して未調整の塩水が分配槽５へ混入し
ないよう工夫されている。
されPHが設定下限より低下すれば、NaOH水溶
液添加槽２に備えつけてある微少量のNaOH水
溶液を供給する定量ポンプP2でNaOH水溶液が
貯液槽４に注入され設定値に補正される。そのと
き、ポンプP3，P4が作動して貯液槽内の塩水を
均一混合する。またその際には、移送ポンプP5，
P6は停止して未調整の塩水が分配槽５へ混入し
ないよう工夫されている。
分配槽５の水位計F3が液面を監視し、設定さ
れた液面の下限状態では安全上から２台設置され
た移送ポンプP5，P6が作動して分配槽５へPH調
整された塩水の供給が行われる。分配槽５は構内
でのPH変動を極力抑えるため、小容量のものが望
ましく0.5〜２程度が適している。もつともこ
れ以下、これ以上であつても実質的にPH変動が抑
えられれば本考案の目的、効果は達成されるので
容量は本考案の制約条件ではない。
れた液面の下限状態では安全上から２台設置され
た移送ポンプP5，P6が作動して分配槽５へPH調
整された塩水の供給が行われる。分配槽５は構内
でのPH変動を極力抑えるため、小容量のものが望
ましく0.5〜２程度が適している。もつともこ
れ以下、これ以上であつても実質的にPH変動が抑
えられれば本考案の目的、効果は達成されるので
容量は本考案の制約条件ではない。
複数個の試験機への塩水の分配は、第２図に示
すように分配槽５の液面レベルをレベル計F3で
コントロールし、分配槽５から噴霧塔６の塩水溜
へ通ずるパイプ配管を通つて塩水が噴霧塔へ供給
される。このとき各噴霧塔６ａ，６ｂ，６ｃなど
の塩水溜のレベルを合わせておくことにより各噴
霧塔とも液切れすることがなく運転される。
すように分配槽５の液面レベルをレベル計F3で
コントロールし、分配槽５から噴霧塔６の塩水溜
へ通ずるパイプ配管を通つて塩水が噴霧塔へ供給
される。このとき各噴霧塔６ａ，６ｂ，６ｃなど
の塩水溜のレベルを合わせておくことにより各噴
霧塔とも液切れすることがなく運転される。
第１図は脱イオン水使用NaCl5％の調合液と噴
霧液の経時によるPH変動値を示す図、第２図は分
配槽から塩水噴霧試験機への配液径路を示す図、
第３図は塩水製造調整装置の全工程を示すフロー
図である。 １……NaOH水溶液添加槽、２……NaOH水
溶液添加槽、３……混合槽、４……貯液槽、５…
…分配槽、６……噴霧塔、Ｍ……混合槽撹拌モー
ター。
霧液の経時によるPH変動値を示す図、第２図は分
配槽から塩水噴霧試験機への配液径路を示す図、
第３図は塩水製造調整装置の全工程を示すフロー
図である。 １……NaOH水溶液添加槽、２……NaOH水
溶液添加槽、３……混合槽、４……貯液槽、５…
…分配槽、６……噴霧塔、Ｍ……混合槽撹拌モー
ター。
Claims (1)
- 水およびNaOHの定量供給装置と撹拌装置を
備え、所定の濃度とPHに塩水を調合する混合槽
と；液面計、PHメーター、PH調整用NaOH供給
装置、撹拌装置を備え、前記混合槽に接続して供
給される塩水を設定PHおよび設定液面レベルに維
持する貯液槽と；該貯液槽と塩水噴霧試験機間の
経路途中で、該塩水噴霧試験機の噴霧塔塩水溜と
の液面レベル合せが可能な位置に配置した分配槽
とからなることを特徴とする塩水噴霧試験機用塩
水調整装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979582U JPS58123354U (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 塩水噴霧試験機用塩水調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979582U JPS58123354U (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 塩水噴霧試験機用塩水調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58123354U JPS58123354U (ja) | 1983-08-22 |
| JPH0143633Y2 true JPH0143633Y2 (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=30031983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979582U Granted JPS58123354U (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 塩水噴霧試験機用塩水調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58123354U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6233644B2 (ja) * | 2014-02-24 | 2017-11-22 | スガ試験機株式会社 | 耐候性試験機および希釈溶液供給装置 |
| KR102243058B1 (ko) * | 2019-02-28 | 2021-04-29 | 주식회사 엔엔티 | 분무액 채취량 감지기술을 적용한 정밀제어 염수분무시험기 |
-
1982
- 1982-02-17 JP JP1979582U patent/JPS58123354U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58123354U (ja) | 1983-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BRPI0615302B1 (pt) | método para automaticamente controlar uma taxa na qual uma substância química de alimentação é provida para micróbios abrigados em uma camada de filtração, e sistema de desnitrificação de águas servidas | |
| CA2135659C (en) | Test-gas generator for calibrating gas measuring devices | |
| JPH0343346B2 (ja) | ||
| JPH0143633Y2 (ja) | ||
| US3826741A (en) | Method of treating waste solution containing chromate ion or cyanide ion | |
| US5456795A (en) | Method and apparatus for regenerating etching liquid | |
| EP0144474B1 (en) | Continuous fermentation process | |
| JPS6445862A (en) | Method and apparatus for continuous liquid impregnation treatment of long material | |
| JP3518065B2 (ja) | 化成槽補水装置 | |
| RU2269151C2 (ru) | Способ компаундирования нефти | |
| JPH0340537Y2 (ja) | ||
| JPS60108Y2 (ja) | 液体混合供給装置 | |
| KR0121439Y1 (ko) | 현상액 제어장치 | |
| CN208646470U (zh) | 一种氯化铜实时监测系统 | |
| JPH0244208Y2 (ja) | ||
| CN208856975U (zh) | 用于污水处理的芬顿反应系统 | |
| JP2000177797A (ja) | 液体自動補給装置 | |
| KR940016377A (ko) | 브라운관 스크린공정용 불산 자동공급장치 | |
| JPH0417228Y2 (ja) | ||
| JPS6242734B2 (ja) | ||
| JP3008781U (ja) | 水溶性クーラントの自動補給装置 | |
| JP3016401U (ja) | 水溶性クーラントの自動補給装置 | |
| JP2533820B2 (ja) | 水道水の改良方法および装置 | |
| JPH0647568Y2 (ja) | 塗料供給装置 | |
| JPS6448132U (ja) |