JPH0132746Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0132746Y2 JPH0132746Y2 JP1981126892U JP12689281U JPH0132746Y2 JP H0132746 Y2 JPH0132746 Y2 JP H0132746Y2 JP 1981126892 U JP1981126892 U JP 1981126892U JP 12689281 U JP12689281 U JP 12689281U JP H0132746 Y2 JPH0132746 Y2 JP H0132746Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- piezoelectric thin
- layer
- film layer
- insulating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981126892U JPS5832665U (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 圧電薄膜形電気−機械的変位変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981126892U JPS5832665U (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 圧電薄膜形電気−機械的変位変換素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5832665U JPS5832665U (ja) | 1983-03-03 |
JPH0132746Y2 true JPH0132746Y2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1989-10-05 |
Family
ID=29920653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981126892U Granted JPS5832665U (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 圧電薄膜形電気−機械的変位変換素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5832665U (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5909858B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2016-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電型発電機及びセンサーノード |
-
1981
- 1981-08-26 JP JP1981126892U patent/JPS5832665U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5832665U (ja) | 1983-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20100019623A1 (en) | Micro-electromechanical devices and methods of fabricating thereof | |
JPH06503423A (ja) | 力を検出しまたは力を印加するマイクロ素子とその製造法 | |
WO2019102951A1 (ja) | 圧電デバイス及び圧電デバイスの製造方法 | |
JP2926158B2 (ja) | 導電性マイクロブリッジの製造方法 | |
JPH0132746Y2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH02150754A (ja) | 感応素子の製造方法 | |
JPWO2003012853A1 (ja) | 基板およびその製造方法、並びに薄膜構造体 | |
JPH01246850A (ja) | 半導体基板及びその製法 | |
JPS6123503B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH0447980B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP2874463B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2000091663A (ja) | シリコンマイクロデバイス加工方法 | |
JPH0213833B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP2773190B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH07286897A (ja) | 焦電型赤外線素子およびその製造方法 | |
KR100197377B1 (ko) | 광로조절 장치의 제조방법 | |
JPS5837159U (ja) | 圧電薄膜形電気−機械的変位変換素子 | |
KR100197396B1 (ko) | 광로 조절 장치의 제조방법 | |
KR100207407B1 (ko) | 광로 조절 장치의 제조방법 | |
JPH06160194A (ja) | 焦電型赤外線センサ | |
JP3235596B2 (ja) | 強誘電体素子及び半導体装置 | |
JPH09205216A (ja) | 微細加工方法 | |
JPH11191505A (ja) | 発熱型薄膜素子を備えたセンサ及びその製造方法 | |
JPH0443435B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH10111311A (ja) | 半導体加速度センサ、および、その製造方法 |