JPH01319241A - 分析スペクトルの表示方式 - Google Patents
分析スペクトルの表示方式Info
- Publication number
- JPH01319241A JPH01319241A JP63151563A JP15156388A JPH01319241A JP H01319241 A JPH01319241 A JP H01319241A JP 63151563 A JP63151563 A JP 63151563A JP 15156388 A JP15156388 A JP 15156388A JP H01319241 A JPH01319241 A JP H01319241A
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Links
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 abstract description 7
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- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複数の分析スペクトルを画面上に表示する分
析スペクトルの表示方式に関し、特に、試料に電子線を
照射することによって照射部から放射される特性Ｘ線を
検出するＸ線マイクロアナライザに適用して好適な分析
スペクトルの表示方式に関する。
析スペクトルの表示方式に関し、特に、試料に電子線を
照射することによって照射部から放射される特性Ｘ線を
検出するＸ線マイクロアナライザに適用して好適な分析
スペクトルの表示方式に関する。
Ｘ線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）は、極めて細く絞
った電子線を試料表面に照射して、その電子線照射部か
ら放射される特性Ｘ線の波長と強度をＸ線分光器で測定
し、その試料の電子線照射部に含まれている元素を定性
又は定量分析する装置である。
った電子線を試料表面に照射して、その電子線照射部か
ら放射される特性Ｘ線の波長と強度をＸ線分光器で測定
し、その試料の電子線照射部に含まれている元素を定性
又は定量分析する装置である。
このようなＥＰＭＡ等の分析装置では、コンピュータを
導入することによって、測定された複数の分析スペクト
ルをメモリに格納し、グラフィックデイスプレィに画面
を分割してこれらを同時に表示することができる。その
ため、従来のチャートレコーダでは難しい試料間の比較
が行えるようになった。すなわち、複数の分析スペクト
ルを画面上に同時並列表示し、或いは重ね表示して複数
の分析スペクトルの対比観察を行うことによって、試料
間の化学組成の比較やケミカルシフトの観察、試料間の
微妙な差の検出も容易に行えるようになった。
導入することによって、測定された複数の分析スペクト
ルをメモリに格納し、グラフィックデイスプレィに画面
を分割してこれらを同時に表示することができる。その
ため、従来のチャートレコーダでは難しい試料間の比較
が行えるようになった。すなわち、複数の分析スペクト
ルを画面上に同時並列表示し、或いは重ね表示して複数
の分析スペクトルの対比観察を行うことによって、試料
間の化学組成の比較やケミカルシフトの観察、試料間の
微妙な差の検出も容易に行えるようになった。
しかしながら、任意のピークに着目した場合、画面分割
による並列表示ではスペクトル相互間のピーク強度の差
が比較しにくく、また重ね合わせ表示でも同位置のピー
ク強度の差はわかりやすくなるが、その差が相対的にど
のような意味をもつのかを認識するのが難しいという問
題がある。従って、試料間の化学組成の比較やケミカル
シフトの観察も実際にはラフなものになってしまう。
による並列表示ではスペクトル相互間のピーク強度の差
が比較しにくく、また重ね合わせ表示でも同位置のピー
ク強度の差はわかりやすくなるが、その差が相対的にど
のような意味をもつのかを認識するのが難しいという問
題がある。従って、試料間の化学組成の比較やケミカル
シフトの観察も実際にはラフなものになってしまう。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、複数の
Ｘ線スペクトルの同時表示における試料間の比較精度を
高めることができる分析スペクトルの表示方式を提供す
ることを目的とする。
Ｘ線スペクトルの同時表示における試料間の比較精度を
高めることができる分析スペクトルの表示方式を提供す
ることを目的とする。
そのために本発明は、複数の分析スペクトルを画面上に
表示する分析スペクトルの表示方式であって、表示され
たスペクトルの特定のピークを指定することによって当
該指定されたピーク高さを同一にして各スペクトルを重
ね表示することを特徴とするものである。
表示する分析スペクトルの表示方式であって、表示され
たスペクトルの特定のピークを指定することによって当
該指定されたピーク高さを同一にして各スペクトルを重
ね表示することを特徴とするものである。
本発明の分析スペクトルの表示方式では、特定の注目ピ
ークを同じ高さに計算しなおして複数のスペクトルを画
面上に同時に表示するので、スペクトル間の比較観察を
高い精度で行うことができる。しかも、複数のスペクト
ルを重ね合わせ表示するので、対比がしやすくなる。
ークを同じ高さに計算しなおして複数のスペクトルを画
面上に同時に表示するので、スペクトル間の比較観察を
高い精度で行うことができる。しかも、複数のスペクト
ルを重ね合わせ表示するので、対比がしやすくなる。
〔実施例］
以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第１図は本発明に係るＸ線マイクロアナライザの波形表
示方式の１実施例を説明するための図、第２図は試料ご
とのＸ線スペクトルの例を示す図、第３図はＸ線強度と
画面上の表示高さとの関係を説明するための図、第４図
は本発明が適用されるＸ線マイクロアナライザのシステ
ム構成例を示す図である。
示方式の１実施例を説明するための図、第２図は試料ご
とのＸ線スペクトルの例を示す図、第３図はＸ線強度と
画面上の表示高さとの関係を説明するための図、第４図
は本発明が適用されるＸ線マイクロアナライザのシステ
ム構成例を示す図である。
まず、本発明に係るＸ線マイクロアナライザの波形表示
方式に適用されるＸ線マイクロアナライザのシステム構
成例を説明する。
方式に適用されるＸ線マイクロアナライザのシステム構
成例を説明する。
第４図において、１は電子銃、２は収束レンズ、３は対
物レンズ、４は走査コイル、５は試料、６は試料ステー
ジ、７は電子線、８は特性Ｘ線、９は分光結晶、１０は
分光器駆動モータ、１１は検出器、１２は分光器制御回
路、１３は演算制御回路、１４は測定回路、１５は記憶
装置、１６はマウス、１７は表示装置を示す。
物レンズ、４は走査コイル、５は試料、６は試料ステー
ジ、７は電子線、８は特性Ｘ線、９は分光結晶、１０は
分光器駆動モータ、１１は検出器、１２は分光器制御回
路、１３は演算制御回路、１４は測定回路、１５は記憶
装置、１６はマウス、１７は表示装置を示す。
第４図に示すＸ線マイクロアナライザのシステムでは、
電子銃１により発生した電子線７を収束レンズ２、対物
レンズ３を通して細く絞って試料５に照射し、その照射
によって電子線照射部から放射された特性Ｘ線８を検出
器１１で検出している。ここで、分光器制御回路１２は
、分光器駆動モータ１０を制御して分光結晶９を移動さ
せるものであり、分光結晶９の移動と連動して検出器１
１も移動し、移動位置に対応する波長の特性Ｘ線が検出
器１１で検出される。そして、検出された各波長の特性
Ｘ線の強度は、測定回路１４を通して記憶装置１５に記
憶され、この記憶された特性Ｘ線の強度スペクトルが表
示袋２１７に表示される。演算制御回路１３は、例えば
コンピュータで構成され、分光器制御回路１２や測定回
路１４の動作制御、記憶装置１５の記憶データの処理、
マウス１６等のポインティングデバイスの信号処理、表
示装置１７の表示画面の制御等を行うものである。
電子銃１により発生した電子線７を収束レンズ２、対物
レンズ３を通して細く絞って試料５に照射し、その照射
によって電子線照射部から放射された特性Ｘ線８を検出
器１１で検出している。ここで、分光器制御回路１２は
、分光器駆動モータ１０を制御して分光結晶９を移動さ
せるものであり、分光結晶９の移動と連動して検出器１
１も移動し、移動位置に対応する波長の特性Ｘ線が検出
器１１で検出される。そして、検出された各波長の特性
Ｘ線の強度は、測定回路１４を通して記憶装置１５に記
憶され、この記憶された特性Ｘ線の強度スペクトルが表
示袋２１７に表示される。演算制御回路１３は、例えば
コンピュータで構成され、分光器制御回路１２や測定回
路１４の動作制御、記憶装置１５の記憶データの処理、
マウス１６等のポインティングデバイスの信号処理、表
示装置１７の表示画面の制御等を行うものである。
Ｘ線のスペクトルは、第２図（ａ）やい）に示すように
試料の構成元素、化学組成、状態によって試料毎に様々
な波形を示す。このような試料Ａ、ＢのＸ線ピークＸ１
を比較する場合に、本発明のＸ線マイクロアナライザの
波形表示方式では、第２図（ａ）、（ｂ）に示すように
カーソルをピークＸ１に合わせると、同図（Ｃ）に示す
ように試料Ａ、ＢのピークＸ１の高さが揃って表示され
る。
試料の構成元素、化学組成、状態によって試料毎に様々
な波形を示す。このような試料Ａ、ＢのＸ線ピークＸ１
を比較する場合に、本発明のＸ線マイクロアナライザの
波形表示方式では、第２図（ａ）、（ｂ）に示すように
カーソルをピークＸ１に合わせると、同図（Ｃ）に示す
ように試料Ａ、ＢのピークＸ１の高さが揃って表示され
る。
次に、本発明のＸ線マイクロアナライザの波形表示方式
による具体的な処理を第１図により説明する。
による具体的な処理を第１図により説明する。
スペクトル表示では、まず、画面上に試料Ａと試料Ｂの
Ｘ線スペクトルを表示する（ステップ■、■）、このと
き、縦軸のスケールは任意であるが、横軸の波長は揃え
て表示する。
Ｘ線スペクトルを表示する（ステップ■、■）、このと
き、縦軸のスケールは任意であるが、横軸の波長は揃え
て表示する。
次に、オペレータが第２図（ａ）、（ｂ）に示すように
比較したいＸ線ピークの位置にカーソルを合わせると、
カーソル位置より重ね合わせ点を認識しその位置での各
々のＸ線強度を読み取る（ステップ■）、このＸ線強度
をＡＸＩ、ＢＸＩ、画面のフルスケールをＭ１スペクト
ルＡとスペクトルＢのそれぞれの最大強度をＡＭ、ＢＭ
とすると、スペクトルＡの画面上でのＸ線強度は、第３
図に示すように Ｍ で計算されたスケールにより表示されていることになる
。同様に、スペクトルＢの画面上でのＸ線強度も Ｍ で計算されたスケールとなる。
比較したいＸ線ピークの位置にカーソルを合わせると、
カーソル位置より重ね合わせ点を認識しその位置での各
々のＸ線強度を読み取る（ステップ■）、このＸ線強度
をＡＸＩ、ＢＸＩ、画面のフルスケールをＭ１スペクト
ルＡとスペクトルＢのそれぞれの最大強度をＡＭ、ＢＭ
とすると、スペクトルＡの画面上でのＸ線強度は、第３
図に示すように Ｍ で計算されたスケールにより表示されていることになる
。同様に、スペクトルＢの画面上でのＸ線強度も Ｍ で計算されたスケールとなる。
そこで、Ｘ線強度ＡＸＩ、ＢＸＩを最大強度として揃え
て表示するための新しいフルスケールファクタを計算す
る（ステップ■）、この計算は、スペクトルＡに対して
は（ＡＭ／ＡＸ１） 、ステップＢに対しては（ＢＭ／
ＢＸｌ）を掛けてやればよい、すなわち、 ＡＸＩ ＡＸＩ 上記式により計算されたスケールにより第２図（Ｃ）に
示すようにスペクトルＡ１スペクトルＢを表示する（ス
テップ■）。
て表示するための新しいフルスケールファクタを計算す
る（ステップ■）、この計算は、スペクトルＡに対して
は（ＡＭ／ＡＸ１） 、ステップＢに対しては（ＢＭ／
ＢＸｌ）を掛けてやればよい、すなわち、 ＡＸＩ ＡＸＩ 上記式により計算されたスケールにより第２図（Ｃ）に
示すようにスペクトルＡ１スペクトルＢを表示する（ス
テップ■）。
このように成るＸ線のピークを揃えて表示すると、成る
元素を基準としたときの他の元素の存在比の大小がわか
る。例えば第２図（Ｃ）において、ピークの高さを揃え
た元素をα、その左側の元素をβ、右側の元素をγとす
ると、 （β／α）ＡＩ。１．く（β／α） ｌ ｓａｍｐｌｅ
（γ／α） Ａ ５ａｓｐＬ。〉（γ／α）、□１．Ｌ
８であることが一目でわかる。
元素を基準としたときの他の元素の存在比の大小がわか
る。例えば第２図（Ｃ）において、ピークの高さを揃え
た元素をα、その左側の元素をβ、右側の元素をγとす
ると、 （β／α）ＡＩ。１．く（β／α） ｌ ｓａｍｐｌｅ
（γ／α） Ａ ５ａｓｐＬ。〉（γ／α）、□１．Ｌ
８であることが一目でわかる。
なお、本発明は、上記の実施例に限定されるものではな
く、種々の変形が可能である０例えば上記の実施例では
、全体のステップを見たが、一部のステップを拡大して
から重ね合わせるようにしてもよい。このようにすると
、ステップの試料による微小な差、すなわちケミカルシ
フトの観察が容易になる。第５図はスペクトルＡとスペ
クトルＢのピークが僅かにずれている例を示す図であり
、このようにピーク位置が僅かにずれていることも容易
に検出できる。また、Ｘ線マイクロアナライ・ ザの
スペクトルを例に説明したが１．他のスペクトルに通用
してもよい、さらには、指定された位置のピークをフル
スケールになるように計算したが、フルスケールの２分
の１、その他任意の高さに七 。
く、種々の変形が可能である０例えば上記の実施例では
、全体のステップを見たが、一部のステップを拡大して
から重ね合わせるようにしてもよい。このようにすると
、ステップの試料による微小な差、すなわちケミカルシ
フトの観察が容易になる。第５図はスペクトルＡとスペ
クトルＢのピークが僅かにずれている例を示す図であり
、このようにピーク位置が僅かにずれていることも容易
に検出できる。また、Ｘ線マイクロアナライ・ ザの
スペクトルを例に説明したが１．他のスペクトルに通用
してもよい、さらには、指定された位置のピークをフル
スケールになるように計算したが、フルスケールの２分
の１、その他任意の高さに七 。
定したり、また、他の特定ピークをフルスケールになる
ようにしてもよい。
ようにしてもよい。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、複数
のＸ線スペクトルの任意のピーク位置の高さを揃えて表
示するので、試料間の元素の組成比（濃度比）が−目で
わかるようになった。また、ケミカルシフトの観察も容
易に行えるようになった。さらには、似たような化学組
成の試料の場合には、ビーム電流の差を除いたスペクト
ルの比較ができ、微妙な組成の差が容易に検出できるよ
うになった。
のＸ線スペクトルの任意のピーク位置の高さを揃えて表
示するので、試料間の元素の組成比（濃度比）が−目で
わかるようになった。また、ケミカルシフトの観察も容
易に行えるようになった。さらには、似たような化学組
成の試料の場合には、ビーム電流の差を除いたスペクト
ルの比較ができ、微妙な組成の差が容易に検出できるよ
うになった。
第１図は本発明に係るＸ線マイクロアナライザの波形表
示方式の１実施例を説明するための図、第２図は試料ご
とのＸ線スペクトルの例を示す図、第３図はＸ線強度と
画面上の表示高さとの関係を説明するための図、第４図
は本発明が適用されるＸ線マイクロアナライザのシステ
ム構成例を示す図、第５図はスペクトルＡとスペクトル
Ｂのピークが僅かにずれている例を示す図である。 １・・・電子銃、２・・・収束レンズ、３・・・対物レ
ンズ、４・・・走査コイル、５・・・試料、６・・・試
料ステージ、７・・・電子線、８・・・特性Ｘ線、９・
・・分光結晶、１０・・・分光器駆動モータ、１１・・
・検出器、１２・・・分光器制御回路、１３・・・演算
制御回路、１４・・・測定回路、１５・・・記憶装置、
１６・・・マウス、１７・・・表示装置。 出 願 人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 阿 部 龍 吉（外４名）第１図 第３図 第２図 Ｘ＋ Ｈ更憂 ス（−ツル・
示方式の１実施例を説明するための図、第２図は試料ご
とのＸ線スペクトルの例を示す図、第３図はＸ線強度と
画面上の表示高さとの関係を説明するための図、第４図
は本発明が適用されるＸ線マイクロアナライザのシステ
ム構成例を示す図、第５図はスペクトルＡとスペクトル
Ｂのピークが僅かにずれている例を示す図である。 １・・・電子銃、２・・・収束レンズ、３・・・対物レ
ンズ、４・・・走査コイル、５・・・試料、６・・・試
料ステージ、７・・・電子線、８・・・特性Ｘ線、９・
・・分光結晶、１０・・・分光器駆動モータ、１１・・
・検出器、１２・・・分光器制御回路、１３・・・演算
制御回路、１４・・・測定回路、１５・・・記憶装置、
１６・・・マウス、１７・・・表示装置。 出 願 人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 阿 部 龍 吉（外４名）第１図 第３図 第２図 Ｘ＋ Ｈ更憂 ス（−ツル・
Claims (1)
- （１）複数の分析スペクトルを画面上に表示する分析ス
ペクトルの表示方式であって、表示されたスペクトルの
特定のピークを指定することによって当該指定されたピ
ーク高さを同一にして各スペクトルを重ね表示すること
を特徴とする分析スペクトルの表示方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63151563A JPH01319241A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 分析スペクトルの表示方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63151563A JPH01319241A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 分析スペクトルの表示方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01319241A true JPH01319241A (ja) | 1989-12-25 |
Family
ID=15521267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63151563A Pending JPH01319241A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 分析スペクトルの表示方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01319241A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102359109A (zh) * | 2011-08-08 | 2012-02-22 | 长沙天为工程机械制造有限公司 | 可用于狭小工地和超短边桩距离施工的静力压桩机 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251754A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Shimadzu Corp | 定性分析装置 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP63151563A patent/JPH01319241A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251754A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Shimadzu Corp | 定性分析装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102359109A (zh) * | 2011-08-08 | 2012-02-22 | 长沙天为工程机械制造有限公司 | 可用于狭小工地和超短边桩距离施工的静力压桩机 |
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