JPH10142173A - 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置 - Google Patents

電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置

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JPH10142173A
JPH10142173A JP8293546A JP29354696A JPH10142173A JP H10142173 A JPH10142173 A JP H10142173A JP 8293546 A JP8293546 A JP 8293546A JP 29354696 A JP29354696 A JP 29354696A JP H10142173 A JPH10142173 A JP H10142173A
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JP
Japan
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klm
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line type
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Pending
Application number
JP8293546A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Yamada
浩之 山田
Masaki Saito
昌樹 斉藤
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G01N23/2251Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
    • G01N23/2252Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 見たい元素の特定X線を見やすく表示する。 【解決手段】 電子プローブマイクロアナライザ1等か
ら収集された分析プロファイル上に元素名とその位置の
マーカを表示する電子プローブマイクロアナライザ等の
KLMマーカ表示制御装置2において、各元素毎に各線
種と次数に対応してマーカの位置情報を有するマーカ情
報テーブル22を備え、マーカを表示するための情報と
して、マーカ指定部4により元素と線種、次数が指定さ
れた場合には、前記マーカ情報テーブル22から対応す
る元素の線種、次数の位置情報を読み出して当該位置に
マーカを表示する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子プローブマイ
クロアナライザ(EPMA)等から収集された分析プロ
ファイル上に元素名とその位置のマーカを表示する電子
プローブマイクロアナライザ等のKLMマーカ表示制御
装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】X線マ
イクロアナライザ(EPMA)は、試料表面に電子ビー
ム照射し、そこから発生する特性X線を検出して、その
試料中に含まれる元素分析を行うものである。特性X線
は、元素によってK線、L線、M線、さらにKα、K
β、……、1次線、2次線、……等多種に及び、X線マ
イクロアナライザでは、3次線程度の高次X線まで観測
される。これら観測X線のプロファイル上に現れるピー
ク波形は、ある広がりをもっているので、X線同士が重
なって観測されることも多い。元素分析では、元素を指
定して、X線マイクロアナライザにより得られる試料の
特定X線のプロファイル上にその指定した元素の各特性
X線の位置及び元素名をKLMマーカで表示することに
より、KLMマーカ近傍のピークから指定した元素が存
在するかどうかを判定している。
【0003】図5は従来のKLMマーカの表示例を示す
図である。電子プローブマイクロアナライザ(EPM
A)から収集された特性X線のプロファイルのピークを
観測して元素分析を行う場合、例えば軽元素のBeのよ
うに特性X線がK線だけというものもあるが、重元素に
なると、上記のように複数の線種、次数の特性X線が観
測され、それぞれのX線の存在と、相対的なピークの強
度から、元素分析が行われる。そのため、元素分析に際
して複数の元素を指定してそれぞれのKLMマーカをプ
ロファイル上に表示させた場合、図5に示すように各元
素の各種特性X線に対応するマーカが多数混在して表示
されるため、見たい元素のX線のマーカが識別しにくく
なり見間違ったりするという問題が生じる。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するものであって、見たい元素の特定X線を見やすく
表示するものである。
【0005】そのために本発明は、電子プローブマイク
ロアナライザ等から収集された分析プロファイル上に元
素名とその位置のマーカを表示する電子プローブマイク
ロアナライザ等のKLMマーカ表示制御装置において、
各元素毎に各線種と次数に対応してマーカの位置情報を
有するマーカ情報テーブルを備え、マーカを表示するた
めの情報として、元素と線種、次数が指定された場合に
は、前記マーカ情報テーブルから対応する元素の線種、
次数の位置情報を読み出して当該位置にマーカを表示す
ることを特徴とするものである。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。図1は本発明に係る電子プロー
ブマイクロアナライザ等のKLMマーカ表示制御装置の
実施の形態を示す図であり、1はEPMA、2は分析デ
ータ処理装置、3はディスプレイ、4はマーカ指定部、
21はプロファイル収集部、22はマーカ情報記憶部、
23はプロファイル記憶部、24はデータ処理部、25
は表示回路を示す。
【0007】図1において、EPMA1は、電子銃から
発生した電子線を収束レンズ、対物レンズを通して細く
絞って試料に照射し、その電子線照射部から放射された
特性X線を検出器で検出するX線マイクロアナライザで
ある。分析データ処理装置2は、EPMA1から検出さ
れた特性X線の信号をプロファイルデータとして取り込
み、処理するものであり、プロファイル収集部21、マ
ーカ情報記憶部22、プロファイル記憶部23、データ
処理部24及び表示回路25を備えている。プロファイ
ル収集部21は、EPMA1を制御して特性X線のプロ
ファイルデータを収集するものであり、プロファイル記
憶部23は、その収集したプロファイルデータを格納
し、マーカ情報記憶部22は、KLMマーカに関する情
報を格納するそれぞれハードディスクその他のメモリで
ある。データ処理部24は、プロファイル記憶部23に
格納されたプロファイルデータをディスプレイ3の画面
に表示するための処理を行うと共に、マーカ指定部4に
より指定されたマーカ指定情報に基づきマーカ情報記憶
部22のKLMマーカに関する情報を読み出し、さらに
指定された元素、線種、高次線による選択処理等を行う
CPUである。表示回路25は、ディスプレイ3の画面
に表示されるX線プロファイル上にKLMマーカを表示
するための制御を行うものであり、指定に応じて特定の
元素、線種、高次線を選択的に表示する。
【0008】次に、KLMマーカに関する情報とその表
示の例について具体的に説明する。図2はマーカ情報記
憶部の構成例を示す図、図3は元素の指定に基づくKL
Mマーカの表示処理の流れを説明するための図、図4は
本発明によるKLMマーカの表示例を示す図である。
【0009】マーカ情報記憶部22は、例えば図2
(A)に示すようにFeやCu等の各元素毎の特性X線
(線種、次数)とそれぞれの特性X線に対応するマーカ
の位置情報として波長、さらにはマーカ表示の高さから
なるKLMマーカに関する情報のテーブルを格納してい
る。また、図2(B)や(C)に示すように各元素に上
記KLMマーカに関する情報のメモリアドレスを持つ元
素テーブルや各特性X線の表示色等の表示属性を設定し
たテーブル等を適宜備えるようにしてもよい。特性X線
は、先に述べたようにKα1 、Kα2 、……、Kβ1
……、M、……等、線種や次数の異なるX線であり、マ
ーカ表示の高さは、基準を100として同じ元素の中の
相対強度に応じて設定されるものである。データ処理部
24は、マーカ指定情報として、マーカ指定部4により
元素、線種、次数が指定されると、この指定された元
素、線種、次数に基づいてマーカ情報記憶部22に格納
された、例えば図2に示すようなKLMマーカに関する
情報のテーブルから、対応する元素、線種、次数の波
長、高さを読み出して表示回路25に渡すことにより、
X線プロファイル上に指定された元素に係るKLMマー
カを表示する。
【0010】KLMマーカの表示処理では、図3に示す
ようにまず、EPMA1を制御して収集した特性X線の
プロファイルデータによりプロファイルを表示する(ス
テップS11)。このプロファイルを表示すると、表示
したい元素、線種、次数がマーカ指定部4により指定さ
れるので、その指定された元素、線種、次数を表示する
マーカの元素、線種、次数として設定(登録)する(ス
テップS12)。複数の元素が指定される場合には、そ
の設定処理を繰り返し実行し、指定終了の入力により設
定終了になると(ステップS13)、設定した元素、線
種、次数によりマーカ情報記憶部22からKLMマーカ
に関する情報を読み出す(ステップS14)。そして、
設定した元素、線種、次数のKLMマーカをプロファイ
ル上に表示する(ステップS15)。
【0011】例えば90の位置に或るX線の1次線が現
れるとすると、その2次線は180の位置に現れるが、
分析する範囲によっては、その範囲に2次線が現れるは
ずであると推定でき、1次線も3次線も必要でない場合
がある。このような場合においても、従来の装置では、
元素を指定することにより、その指定した元素について
のX線のマーカをすべて表示し、また、K線、L線、M
線のそれぞれの表示/非表示の設定、3次線までの設定
しか行えず、n次線までという表示しか行えなかった。
そのため、図5に示すように表示されるマーカの数が多
くなり非常に見にくくなっていた。しかし、本発明の表
示処理では、例えば図4に示すように特定の線のみに着
目して選択的にマーカを表示することができる。
【0012】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れるものではなく、種々の変形が可能である。例えば上
記実施の形態では、電子プローブマイクロアナライザに
より測定された特性X線のプロファイル上にマーカを表
示する例で説明したが、他の分析プロファイル上でマー
カを表示する場合にも同様に適用できることはいうまで
もない。また、元素、線種、次数を指定したが、元素と
線種、元素と次数というように適宜組み合わせを変えて
もよい。
【0013】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、複数の元素を指定しても、さらに線種、次数
をも指定し特定の元素の線種、次数のマーカのみを選択
的に表示できるようにしたので、各元素の特性X線が近
傍に存在して見にくいような場合にも、プロファイルを
見やすくすることができ、分析精度を向上させることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る電子プローブマイクロアナライ
ザ等のKLMマーカ表示制御装置の実施の形態を示す図
である。
【図2】 マーカ情報記憶部の構成例を示す図である。
【図3】 元素等の指定に基づくKLMマーカの表示処
理の流れを説明するための図である。
【図4】 本発明によるKLMマーカの表示例を示す図
である。
【図5】 従来のKLMマーカの表示例を示す図であ
る。
【符号の説明】
1…EPMA、2…分析データ処理装置、3…ディスプ
レイ、4…マーカ指定部、21…プロファイル収集部、
22…マーカ情報記憶部、23…プロファイル記憶部、
24…データ処理部、25…表示回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子プローブマイクロアナライザ等から
    収集された分析プロファイル上に元素名とその位置のマ
    ーカを表示する電子プローブマイクロアナライザ等のK
    LMマーカ表示制御装置において、各元素毎に各線種と
    次数に対応してマーカの位置情報を有するマーカ情報テ
    ーブルを備え、マーカを表示するための情報として、元
    素と線種、次数が指定された場合には、前記マーカ情報
    テーブルから対応する元素の線種、次数の位置情報を読
    み出して当該位置にマーカを表示することを特徴とする
    電子プローブマイクロアナライザ等のKLMマーカ表示
    制御装置。
JP8293546A 1996-11-06 1996-11-06 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置 Pending JPH10142173A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8293546A JPH10142173A (ja) 1996-11-06 1996-11-06 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置
US08/964,657 US5990480A (en) 1996-11-06 1997-11-05 KLM marker display controller for EPMA or the like

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8293546A JPH10142173A (ja) 1996-11-06 1996-11-06 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置

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JPH10142173A true JPH10142173A (ja) 1998-05-29

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ID=17796160

Family Applications (1)

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JP8293546A Pending JPH10142173A (ja) 1996-11-06 1996-11-06 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置

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JP (1) JPH10142173A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010127874A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Jeol Ltd X線分析の測定条件設定方法及びx線分析装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002329473A (ja) * 2001-02-27 2002-11-15 Jeol Ltd X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡
DE102009041993B4 (de) 2009-09-18 2020-02-13 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Beobachtungs- und Analysegerät

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3146347A (en) * 1961-08-25 1964-08-25 Lab For Electronics Inc Apparatus for analyzing material by excited x-rays
US4439680A (en) * 1980-06-26 1984-03-27 Regents Of The University Of Minnesota Color-coded mapping system and method for identifying elements in a specimen
JPS6417369A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Jeol Ltd Spectrum display unit in x-ray microanalyzer and the like
JPH0238850A (ja) * 1988-07-28 1990-02-08 Jeol Ltd X線分光器を用いた定性分析方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010127874A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Jeol Ltd X線分析の測定条件設定方法及びx線分析装置

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US5990480A (en) 1999-11-23

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Effective date: 20030924