JPH0238850A - Ｘ線分光器を用いた定性分析方法 - Google Patents
Ｘ線分光器を用いた定性分析方法Info
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- JPH0238850A JPH0238850A JP63189193A JP18919388A JPH0238850A JP H0238850 A JPH0238850 A JP H0238850A JP 63189193 A JP63189193 A JP 63189193A JP 18919388 A JP18919388 A JP 18919388A JP H0238850 A JPH0238850 A JP H0238850A
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- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 title claims description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000000724 energy-dispersive X-ray spectrum Methods 0.000 claims description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 241000270295 Serpentes Species 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000005557 antagonist Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 238000000177 wavelength dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2252—Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はエネルギー分散型のＸ線分光器（ＥＤＳ）、波
長分散型のＸ線分光器（ＷＤＳ）を使用してｙｃＲの同
定を容易に行えるようにしたＸ線分光器を用いた定性分
析方法に関する。
長分散型のＸ線分光器（ＷＤＳ）を使用してｙｃＲの同
定を容易に行えるようにしたＸ線分光器を用いた定性分
析方法に関する。
一般に、試料に対して電子ビームを照射し、その時発生
する特性Ｘ線を検出して試料中に含まれる元素分析を行
うＸ線マイクロアナライザが′ｆ［］られでいる。この
ようなＸ線マイクロアナライザによって得られる未知試
料からのＸｖＡスペクトルは、ＥＤＳから得られるＸ線
スペクトルと数基のＷＤＳを走査して得られるＸ線スペ
クトルの２種類がある。
する特性Ｘ線を検出して試料中に含まれる元素分析を行
うＸ線マイクロアナライザが′ｆ［］られでいる。この
ようなＸ線マイクロアナライザによって得られる未知試
料からのＸｖＡスペクトルは、ＥＤＳから得られるＸ線
スペクトルと数基のＷＤＳを走査して得られるＸ線スペ
クトルの２種類がある。
ＥＤＳは発生したＸ線を半導体検出器で電気信号に変え
てマルチ・チャンネル・アナライザでエネルギー単位別
に計数表示している。この已ＤＳは、全ての元素に対す
るデータが同時に得られ、−目でＸ線ピークを判定する
ことができるが、バックグランドが高く、エネルギー分
解能も低く、そのため＠量元素や軽元素の検出は難しい
という欠点がある。
てマルチ・チャンネル・アナライザでエネルギー単位別
に計数表示している。この已ＤＳは、全ての元素に対す
るデータが同時に得られ、−目でＸ線ピークを判定する
ことができるが、バックグランドが高く、エネルギー分
解能も低く、そのため＠量元素や軽元素の検出は難しい
という欠点がある。
また、Ｗ Ｄ Ｓは分光結晶を使用し、ＸｙＡ信号をシ
ングル・チャンネル・アナライザでパルス整形してデジ
タル計数回路で計数処理している。このＷＤＳは、分解
能が高く微量元素や軽元素の検出にも向いているが、１
つの分光器で１元素しか分光できず、試料に対して検出
器の位置を動かす機構が必要となり、また分光器の設置
数にはスペースの点で限りがあるため１度に数元素程度
の検出しかできないという問題がある。
ングル・チャンネル・アナライザでパルス整形してデジ
タル計数回路で計数処理している。このＷＤＳは、分解
能が高く微量元素や軽元素の検出にも向いているが、１
つの分光器で１元素しか分光できず、試料に対して検出
器の位置を動かす機構が必要となり、また分光器の設置
数にはスペースの点で限りがあるため１度に数元素程度
の検出しかできないという問題がある。
そして、これらのＸ線スペクトルのピークから未知法ｔ
４に含まれる元素を判定するのζこ、迎常は各元素の特
性Ｘ線のに、Ｌ、Ｘ線の位置を表示し、ｉ頭次元幸を変
えてその表示を繰返し、スペクトルの指定したピークに
一番近いピークをもって、その元素が存在することを確
認していた。
４に含まれる元素を判定するのζこ、迎常は各元素の特
性Ｘ線のに、Ｌ、Ｘ線の位置を表示し、ｉ頭次元幸を変
えてその表示を繰返し、スペクトルの指定したピークに
一番近いピークをもって、その元素が存在することを確
認していた。
［発明が４解決すべき課題〕
しかしながら、このような従来の分析方法では元素を順
次変えて確認を繰り返さなければならないため、元素の
同定に多大の時間を必要とするという問題があった。
次変えて確認を繰り返さなければならないため、元素の
同定に多大の時間を必要とするという問題があった。
本発明シよ上記問題点を解決するためのもので、元素の
同定を而単にかつ確実に行うことができるＸ線分光器を
用いた定性分析方法を提供することを目的とする。
同定を而単にかつ確実に行うことができるＸ線分光器を
用いた定性分析方法を提供することを目的とする。
そのために本発明のＸ線分光器を用いた定性分析方法は
、エネルギー分散型Ｘ線分光器から得られるエネルギー
分散Ｘ線スペクトルと、複数の波長分散型Ｘ線分光器を
走査して得られる波長分散Ｘ線スペクトルとを表示する
ようにした定性分析方法であって、前記両スペクトルの
一方のスペクトルの１旨定したピークに対して所定範囲
内に入る元素名、Ｘ線名等を表示すると共に、他方のス
ペクトルの対応するピーク位置と、該ピーク位置に対し
て所定範囲内に入る元素名、Ｘ線名等を表示するように
したことを１キ徴とする。
、エネルギー分散型Ｘ線分光器から得られるエネルギー
分散Ｘ線スペクトルと、複数の波長分散型Ｘ線分光器を
走査して得られる波長分散Ｘ線スペクトルとを表示する
ようにした定性分析方法であって、前記両スペクトルの
一方のスペクトルの１旨定したピークに対して所定範囲
内に入る元素名、Ｘ線名等を表示すると共に、他方のス
ペクトルの対応するピーク位置と、該ピーク位置に対し
て所定範囲内に入る元素名、Ｘ線名等を表示するように
したことを１キ徴とする。
本発明のＸ線分光器を用いた定性分析方法は、ＷＤＳ、
ＥＤＳの両スペクトルを同一画面上に表示可能にし、ど
ちらか一方のスペクトルのピークにカーソルを合わせて
指定すると、他方のスペクトルの該当するエネルギー位
置または波長位置を表示と２、同時に両スペクトルの指
定ピーク付近の該当Ｊ−る元素名、Ｘ線名を表示するこ
と６二より共通なピークが存在するか否かが容易に判別
でき、七）↑同定を簡単、かつ確実に行うことが可能と
なる。
ＥＤＳの両スペクトルを同一画面上に表示可能にし、ど
ちらか一方のスペクトルのピークにカーソルを合わせて
指定すると、他方のスペクトルの該当するエネルギー位
置または波長位置を表示と２、同時に両スペクトルの指
定ピーク付近の該当Ｊ−る元素名、Ｘ線名を表示するこ
と６二より共通なピークが存在するか否かが容易に判別
でき、七）↑同定を簡単、かつ確実に行うことが可能と
なる。
ご実脩例］
以下、実胞例を図面を参照して説明する。
：心１図は本発明の定性分析方法を実施するための装置
ｌ構成を示す図、第２１２Ｉはスペクトル表示装置のに
本例を、賀す図、第３図はＷ Ｄ Ｓ ／ Ｅ Ｄ Ｓ
同時元素同定のフローチャートを衣す図である。図中、
１：よ、電子銃、２は加速電極、３，４は集束レンズ、
５は電子ヒ゛−ム、６は分光結晶、７は検出器、８は計
１１１装置、９は試料、ｌＯ′、よステージ、！１．１
２．１３は駆動部、１４．１５．１６は制イ１装置、１
７はジヲィステンク、１８は統括制御装置、１９は記憶
装置、２０は半導体検出器、２１は多重波高分析器、２
２はスペクトル表示語：江、２３はプリンタである。
ｌ構成を示す図、第２１２Ｉはスペクトル表示装置のに
本例を、賀す図、第３図はＷ Ｄ Ｓ ／ Ｅ Ｄ Ｓ
同時元素同定のフローチャートを衣す図である。図中、
１：よ、電子銃、２は加速電極、３，４は集束レンズ、
５は電子ヒ゛−ム、６は分光結晶、７は検出器、８は計
１１１装置、９は試料、ｌＯ′、よステージ、！１．１
２．１３は駆動部、１４．１５．１６は制イ１装置、１
７はジヲィステンク、１８は統括制御装置、１９は記憶
装置、２０は半導体検出器、２１は多重波高分析器、２
２はスペクトル表示語：江、２３はプリンタである。
図において、’、ｘ−ｆ−銃ｌから発！１１された′准
子ビム５を加速、集束して試料９に照射すると、試料９
からはＸｖＡが発生する。二のＸ線を分光結晶６と検出
器７とにより、また半導体検出器２０によりそれぞれ検
出する。分光結晶６は図では１つだシナ図示しているが
、これを複数個、例えば５チヤンふル装置し、それぞれ
所定の元素に対応したＸ線を検出する。即ち、分光結晶
６を短波長側から・長波長側、あるいは長波長側から短
波長側に走査させながらＸ線を検出器７で検出して電気
信号に変換し、計測装置８でその大きさを測定してＸ葺
、喫スペクトルデータとして統括制御装置１８に取り込
む。
子ビム５を加速、集束して試料９に照射すると、試料９
からはＸｖＡが発生する。二のＸ線を分光結晶６と検出
器７とにより、また半導体検出器２０によりそれぞれ検
出する。分光結晶６は図では１つだシナ図示しているが
、これを複数個、例えば５チヤンふル装置し、それぞれ
所定の元素に対応したＸ線を検出する。即ち、分光結晶
６を短波長側から・長波長側、あるいは長波長側から短
波長側に走査させながらＸ線を検出器７で検出して電気
信号に変換し、計測装置８でその大きさを測定してＸ葺
、喫スペクトルデータとして統括制御装置１８に取り込
む。
またＥＤＳセンサである半導体検出器２０により試料９
からのＸ線を検出し、Ｘ線エネルギーに比例した電圧パ
ルスを多重波高分析器２１によりエネルギースペクトル
に変換し、統括制御装置１８！こエネルギー弁別データ
として取り込む。
からのＸ線を検出し、Ｘ線エネルギーに比例した電圧パ
ルスを多重波高分析器２１によりエネルギースペクトル
に変換し、統括制御装置１８！こエネルギー弁別データ
として取り込む。
統括制御装置１８では取り込んだデータを必要に応して
スペクトル表示装置２２にスペクトル表示し、また後述
するように記憶装置１９の波長テ−プルを参照して指定
したピーク位置に対応する元素基、Ｘ線名、また次数０
８表示する。また、ジｇ１″ステック１７により制御袋
Ｗ１４〜１６を＄１ｆＴＩＬ、Ｘ、Ｙ、Ｚ駆動部１１〜
１３によりステージ１０を移動して試１４９への電子ビ
ームの暇射位置を選択できるようにしている。また、ス
ペクトル表示装置はＷＤＳ、ＥＤＳのスペクトルをそれ
ぞれ単独あるいは同時に表示することが可能になってい
る。
スペクトル表示装置２２にスペクトル表示し、また後述
するように記憶装置１９の波長テ−プルを参照して指定
したピーク位置に対応する元素基、Ｘ線名、また次数０
８表示する。また、ジｇ１″ステック１７により制御袋
Ｗ１４〜１６を＄１ｆＴＩＬ、Ｘ、Ｙ、Ｚ駆動部１１〜
１３によりステージ１０を移動して試１４９への電子ビ
ームの暇射位置を選択できるようにしている。また、ス
ペクトル表示装置はＷＤＳ、ＥＤＳのスペクトルをそれ
ぞれ単独あるいは同時に表示することが可能になってい
る。
第２図はＷ ［） Ｓ、巳ＤＳスペクトルを同時表示し
た（列で、ＷＤＳについては１チヤンネル（ＴＡＰ拮晶
）、２チヤンイル（Ｐ巳′「結晶）についての表示がさ
れている場合を示している。そこで。
た（列で、ＷＤＳについては１チヤンネル（ＴＡＰ拮晶
）、２チヤンイル（Ｐ巳′「結晶）についての表示がさ
れている場合を示している。そこで。
第２図に示すようなＷ Ｄ ＳのＸ線スペクトル３３ａ
、、３３ｂ・・・・・・が得られたとし、例えば、第２
千・・ン不ルのスペクトル３３ｂのあるピークが何であ
るか４′Ｊ１定するために、画面上で漢方向に移動可能
なカーソル３４を動かしてピーク位置に合わせると、統
括制御装置１８はカーソル位置から波長ａ、を算出し、
可能性のある元素基とＸ線名を図のように表示する。こ
の場合、理論的に検出されると予想されるピーク位置と
比較してピークの一定範囲以内に納まる位置にあればピ
ークとして表示し、また、ＷＤＳのスペクトルの場合に
は高次回折Ｘ線も検出されるので、指定した次数の高次
回折Ｘ線でピーク位置が一定範囲以内にあるものも同定
ピークと見なして表示する。すなわち、波長λ。をカー
ソルで合わせたピーク位置（波長）とし、Ｗをλ。のｆ
ｔ［＆の幅とし、ｎを次数とし、同定される特性Ｘ線の
波長をλとすると、に。−Ｗ≦ｎλ≦λ、＋−ｗ
・・・・・・（Ｉ）の条件を満たず特性Ｘ線とそ
の時の次数ｎを波長テーブルより検索して表示する。た
だしｎ ＝１，２゜・・Ｎであり、Ｎは指定した最大次
数である。
、、３３ｂ・・・・・・が得られたとし、例えば、第２
千・・ン不ルのスペクトル３３ｂのあるピークが何であ
るか４′Ｊ１定するために、画面上で漢方向に移動可能
なカーソル３４を動かしてピーク位置に合わせると、統
括制御装置１８はカーソル位置から波長ａ、を算出し、
可能性のある元素基とＸ線名を図のように表示する。こ
の場合、理論的に検出されると予想されるピーク位置と
比較してピークの一定範囲以内に納まる位置にあればピ
ークとして表示し、また、ＷＤＳのスペクトルの場合に
は高次回折Ｘ線も検出されるので、指定した次数の高次
回折Ｘ線でピーク位置が一定範囲以内にあるものも同定
ピークと見なして表示する。すなわち、波長λ。をカー
ソルで合わせたピーク位置（波長）とし、Ｗをλ。のｆ
ｔ［＆の幅とし、ｎを次数とし、同定される特性Ｘ線の
波長をλとすると、に。−Ｗ≦ｎλ≦λ、＋−ｗ
・・・・・・（Ｉ）の条件を満たず特性Ｘ線とそ
の時の次数ｎを波長テーブルより検索して表示する。た
だしｎ ＝１，２゜・・Ｎであり、Ｎは指定した最大次
数である。
一方ＥＤＳのスペクトルの場合には高次回折Ｘ線の現象
はないので、例えば図の３１のようなスペクトルが得ら
れた場合、カーソル３２を所定ピーク位置に合わせ、そ
の時のエネルギーの値の一定範囲以内に入るＸ線名を表
示する。即ち、Ｅ０ヲカーソルで合わせたピーク位置（
エネルギー）、、！：１．−１ｌ】をＲｏの前後の工フ
ルギー幅とし、同定する特性：（線のエヱルギーを巳と
するとＩミ。−Ｕ≦！Ｅ≦Ｅ６峯Ｕ ・・
・・・・（２）の条件を満たす特性Ｘ線名を表示する。
はないので、例えば図の３１のようなスペクトルが得ら
れた場合、カーソル３２を所定ピーク位置に合わせ、そ
の時のエネルギーの値の一定範囲以内に入るＸ線名を表
示する。即ち、Ｅ０ヲカーソルで合わせたピーク位置（
エネルギー）、、！：１．−１ｌ】をＲｏの前後の工フ
ルギー幅とし、同定する特性：（線のエヱルギーを巳と
するとＩミ。−Ｕ≦！Ｅ≦Ｅ６峯Ｕ ・・
・・・・（２）の条件を満たす特性Ｘ線名を表示する。
（）を上：よ〜ＶＤＳのみまたはＥ Ｄ ＳのみのＸ線
スペクトルの同定方法であるが、ＷＤＳ複故本に已ＤＳ
のスペクトルが同一画面上に表示され、た第２図のよう
な場合に対しては、例えはＷＤＳ側にカー・ｌルを合γ
Ｄせた時、その波長λ（入）、Ｘ線の工、ｒ冒しギーＥ
（ｅＷ）との間に Ｅ＝ １２３９８／λ ・旧・・（３
）という関係があることを利用し、ＥＤＳスペクトル上
にも該当するエネルギー位置にカーソルを表示してＷ
Ｄ ＳとＥＤＳの両スペクトルに′１１シてそ十りぞれ
（１１式、（２）弐を八だす該当する元素基およびＸ線
名を表示する。また、ＷＤＳ側とは反対にＥｌ） Ｓ側
にカーソルを合わせた時は（３）の関係式から’ｖＶ
Ｄ Ｓスペクトル上にも該当する波長位置にカーソルを
表示してＥＤＳとＷＤＳの両者のスペクトルに灯して同
様な処理を行うようにする。
スペクトルの同定方法であるが、ＷＤＳ複故本に已ＤＳ
のスペクトルが同一画面上に表示され、た第２図のよう
な場合に対しては、例えはＷＤＳ側にカー・ｌルを合γ
Ｄせた時、その波長λ（入）、Ｘ線の工、ｒ冒しギーＥ
（ｅＷ）との間に Ｅ＝ １２３９８／λ ・旧・・（３
）という関係があることを利用し、ＥＤＳスペクトル上
にも該当するエネルギー位置にカーソルを表示してＷ
Ｄ ＳとＥＤＳの両スペクトルに′１１シてそ十りぞれ
（１１式、（２）弐を八だす該当する元素基およびＸ線
名を表示する。また、ＷＤＳ側とは反対にＥｌ） Ｓ側
にカーソルを合わせた時は（３）の関係式から’ｖＶ
Ｄ Ｓスペクトル上にも該当する波長位置にカーソルを
表示してＥＤＳとＷＤＳの両者のスペクトルに灯して同
様な処理を行うようにする。
このＷＤＳ／Ｅｌ）Ｓ同時元素同定の処理フローについ
て第３図により説明する まず表示画面上でカーソル位置を指定しくステップ■）
、指定されたカーソル位置がＷＤＳ側がＥ Ｉ） Ｓ側
か′ｆＪＩ断しくステ、ブ■）、ＷＤＳ側で１ｈればそ
のカーソル位置から波長λ。を算出すると共に、λ。よ
りＥｏを算出する（ステップ■、■）。またＥＤＳ側で
あればカーソル位置がらエネルギーＥ０を算出すると共
に、巳。よりλ。を（γ出する（ステップ■、■）。そ
して、算出したよ。に対して一定範囲以内こあるλを波
長テーブルより検索し、その元素基、Ｘ線名、次数を表
示する（ステップ■、■）。
て第３図により説明する まず表示画面上でカーソル位置を指定しくステップ■）
、指定されたカーソル位置がＷＤＳ側がＥ Ｉ） Ｓ側
か′ｆＪＩ断しくステ、ブ■）、ＷＤＳ側で１ｈればそ
のカーソル位置から波長λ。を算出すると共に、λ。よ
りＥｏを算出する（ステップ■、■）。またＥＤＳ側で
あればカーソル位置がらエネルギーＥ０を算出すると共
に、巳。よりλ。を（γ出する（ステップ■、■）。そ
して、算出したよ。に対して一定範囲以内こあるλを波
長テーブルより検索し、その元素基、Ｘ線名、次数を表
示する（ステップ■、■）。
次に算出したＥｏに対し一定範囲内５含に納まる巳を同
）・ηに波長テーブルより検索し、その時の元素基、Ｘ
線名を表示しくステップ■、（Ｄ）、同定処理を終了し
、次の同定処理に移る（ステップ０）。
）・ηに波長テーブルより検索し、その時の元素基、Ｘ
線名を表示しくステップ■、（Ｄ）、同定処理を終了し
、次の同定処理に移る（ステップ０）。
以上のように本発明によれば、ＷＤＳ、ＥＤＳの両スペ
クトルを同一画面上に表示可能にし、ＷＤＳまたはＥＤ
Ｓの一方にカーソルを表示、するとそれに応じてＥＤＳ
またはＷｌ）Ｓの該当するエネルギー位置または波長位
置を表示できるので、ＷＤＳとＥＤＳに共通なピークが
存在するか否かの判定が一目瞭然に判明し、また各スペ
クトルのピーク位置にカーソルを合わせてピーク同定を
行うと、ＷＤＳ、ＥＤＳの両スペクトルにおいてもピー
ク付近に該当する元素名、Ｘ線名あるいは次数が表示さ
れるため、元素同定がより而単に確実に行うことが可能
となる。
クトルを同一画面上に表示可能にし、ＷＤＳまたはＥＤ
Ｓの一方にカーソルを表示、するとそれに応じてＥＤＳ
またはＷｌ）Ｓの該当するエネルギー位置または波長位
置を表示できるので、ＷＤＳとＥＤＳに共通なピークが
存在するか否かの判定が一目瞭然に判明し、また各スペ
クトルのピーク位置にカーソルを合わせてピーク同定を
行うと、ＷＤＳ、ＥＤＳの両スペクトルにおいてもピー
ク付近に該当する元素名、Ｘ線名あるいは次数が表示さ
れるため、元素同定がより而単に確実に行うことが可能
となる。
第１図は本発明の定性分析方法を実施するための装置構
成を示す図、第２図はスペクトル表示装置の表示例を示
す図、第３図はＷＤＳ／ＥＤＳ同時元素同定のフローチ
ャートを示す図である。 １・・・電子銃、２・・・加速１掻、３４・・・収束レ
ンズ、５・・・電子ビーム、６・・・分光結晶、７・・
・検出器、８・・・計ｉ！ＩＩ！１装置、９・・・１犬
料、１０・・ステージ、１１゜１２．１３・・・駆動部
、１４，１５．１６・・・ｆｌｌ ｔｉＨ装置、１７・
・・ジ３イステンク、１８・・・統括制御装置、１９・
・・制御装置、２０・・・半導体検出器、２１・・・多
重波高分析器、２２・・・スペクトル表示装置、２３・
・・プリンタ。 出 願 人
成を示す図、第２図はスペクトル表示装置の表示例を示
す図、第３図はＷＤＳ／ＥＤＳ同時元素同定のフローチ
ャートを示す図である。 １・・・電子銃、２・・・加速１掻、３４・・・収束レ
ンズ、５・・・電子ビーム、６・・・分光結晶、７・・
・検出器、８・・・計ｉ！ＩＩ！１装置、９・・・１犬
料、１０・・ステージ、１１゜１２．１３・・・駆動部
、１４，１５．１６・・・ｆｌｌ ｔｉＨ装置、１７・
・・ジ３イステンク、１８・・・統括制御装置、１９・
・・制御装置、２０・・・半導体検出器、２１・・・多
重波高分析器、２２・・・スペクトル表示装置、２３・
・・プリンタ。 出 願 人
Claims (1)
- （１）エネルギー分散型Ｘ線分光器から得られるエネル
ギー分散Ｘ線スペクトルと、複数の波長分散型Ｘ線分光
器を走査して得られる波長分散Ｘ線スペクトルとを表示
するようにした定性分析方法であって、前記両スペクト
ルの一方のスペクトルの指定したピークに対して所定範
囲内に入る元素名、Ｘ線名等を表示すると共に、他方の
スペクトルの対応するピーク位置と、該ピーク位置に対
して所定範囲内に入る元素名、Ｘ線名等を表示するよう
にしたことを特徴とするＸ線分光器を用いた定性分析方
法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189193A JPH0238850A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | Ｘ線分光器を用いた定性分析方法 |
| FR8910151A FR2634889B1 (fr) | 1988-07-28 | 1989-07-27 | Microanalyseur a sonde electronique ayant un spectrometre a rayons x dispersif de la longueur d'onde et un spectrometre a rayons x dispersif de l'energie |
| US07/386,416 US4988872A (en) | 1988-07-28 | 1989-07-27 | Electron probe microanalyzer having wavelength-dispersive x-ray spectrometer and energy-dispersive x-ray spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189193A JPH0238850A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | Ｘ線分光器を用いた定性分析方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0238850A true JPH0238850A (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=16237073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63189193A Pending JPH0238850A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | Ｘ線分光器を用いた定性分析方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4988872A (ja) |
| JP (1) | JPH0238850A (ja) |
| FR (1) | FR2634889B1 (ja) |
Cited By (1)
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| JPH06174623A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-24 | Chichibu Cement Co Ltd | 流動体の粘度測定装置 |
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1988
- 1988-07-28 JP JP63189193A patent/JPH0238850A/ja active Pending
-
1989
- 1989-07-27 US US07/386,416 patent/US4988872A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-27 FR FR8910151A patent/FR2634889B1/fr not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2634889A1 (fr) | 1990-02-02 |
| FR2634889B1 (fr) | 1994-04-29 |
| US4988872A (en) | 1991-01-29 |
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