JPH0238850A - X線分光器を用いた定性分析方法 - Google Patents

X線分光器を用いた定性分析方法

Info

Publication number
JPH0238850A
JPH0238850A JP63189193A JP18919388A JPH0238850A JP H0238850 A JPH0238850 A JP H0238850A JP 63189193 A JP63189193 A JP 63189193A JP 18919388 A JP18919388 A JP 18919388A JP H0238850 A JPH0238850 A JP H0238850A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
spectrum
detector
wavelength
energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63189193A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshitaka Nagatsuka
長塚 義隆
Koji Yoshida
吉田 康二
Masayuki Otsuki
大槻 正行
Kazuyasu Kawabe
河辺 一保
Masaki Saito
斎藤 昌樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP63189193A priority Critical patent/JPH0238850A/ja
Priority to FR8910151A priority patent/FR2634889B1/fr
Priority to US07/386,416 priority patent/US4988872A/en
Publication of JPH0238850A publication Critical patent/JPH0238850A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G01N23/2251Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
    • G01N23/2252Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエネルギー分散型のX線分光器(EDS)、波
長分散型のX線分光器(WDS)を使用してycRの同
定を容易に行えるようにしたX線分光器を用いた定性分
析方法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、試料に対して電子ビームを照射し、その時発生
する特性X線を検出して試料中に含まれる元素分析を行
うX線マイクロアナライザが′f[]られでいる。この
ようなX線マイクロアナライザによって得られる未知試
料からのXvAスペクトルは、EDSから得られるX線
スペクトルと数基のWDSを走査して得られるX線スペ
クトルの2種類がある。
EDSは発生したX線を半導体検出器で電気信号に変え
てマルチ・チャンネル・アナライザでエネルギー単位別
に計数表示している。この已DSは、全ての元素に対す
るデータが同時に得られ、−目でX線ピークを判定する
ことができるが、バックグランドが高く、エネルギー分
解能も低く、そのため@量元素や軽元素の検出は難しい
という欠点がある。
また、W D Sは分光結晶を使用し、XyA信号をシ
ングル・チャンネル・アナライザでパルス整形してデジ
タル計数回路で計数処理している。このWDSは、分解
能が高く微量元素や軽元素の検出にも向いているが、1
つの分光器で1元素しか分光できず、試料に対して検出
器の位置を動かす機構が必要となり、また分光器の設置
数にはスペースの点で限りがあるため1度に数元素程度
の検出しかできないという問題がある。
そして、これらのX線スペクトルのピークから未知法t
4に含まれる元素を判定するのζこ、迎常は各元素の特
性X線のに、L、X線の位置を表示し、i頭次元幸を変
えてその表示を繰返し、スペクトルの指定したピークに
一番近いピークをもって、その元素が存在することを確
認していた。
[発明が4解決すべき課題〕 しかしながら、このような従来の分析方法では元素を順
次変えて確認を繰り返さなければならないため、元素の
同定に多大の時間を必要とするという問題があった。
本発明シよ上記問題点を解決するためのもので、元素の
同定を而単にかつ確実に行うことができるX線分光器を
用いた定性分析方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
そのために本発明のX線分光器を用いた定性分析方法は
、エネルギー分散型X線分光器から得られるエネルギー
分散X線スペクトルと、複数の波長分散型X線分光器を
走査して得られる波長分散X線スペクトルとを表示する
ようにした定性分析方法であって、前記両スペクトルの
一方のスペクトルの1旨定したピークに対して所定範囲
内に入る元素名、X線名等を表示すると共に、他方のス
ペクトルの対応するピーク位置と、該ピーク位置に対し
て所定範囲内に入る元素名、X線名等を表示するように
したことを1キ徴とする。
〔作用〕
本発明のX線分光器を用いた定性分析方法は、WDS、
EDSの両スペクトルを同一画面上に表示可能にし、ど
ちらか一方のスペクトルのピークにカーソルを合わせて
指定すると、他方のスペクトルの該当するエネルギー位
置または波長位置を表示と2、同時に両スペクトルの指
定ピーク付近の該当J−る元素名、X線名を表示するこ
と6二より共通なピークが存在するか否かが容易に判別
でき、七)↑同定を簡単、かつ確実に行うことが可能と
なる。
ご実脩例] 以下、実胞例を図面を参照して説明する。
:心1図は本発明の定性分析方法を実施するための装置
l構成を示す図、第212Iはスペクトル表示装置のに
本例を、賀す図、第3図はW D S / E D S
同時元素同定のフローチャートを衣す図である。図中、
1:よ、電子銃、2は加速電極、3,4は集束レンズ、
5は電子ヒ゛−ム、6は分光結晶、7は検出器、8は計
111装置、9は試料、lO′、よステージ、!1.1
2.13は駆動部、14.15.16は制イ1装置、1
7はジヲィステンク、18は統括制御装置、19は記憶
装置、20は半導体検出器、21は多重波高分析器、2
2はスペクトル表示語:江、23はプリンタである。
図において、’、x−f−銃lから発!11された′准
子ビム5を加速、集束して試料9に照射すると、試料9
からはXvAが発生する。二のX線を分光結晶6と検出
器7とにより、また半導体検出器20によりそれぞれ検
出する。分光結晶6は図では1つだシナ図示しているが
、これを複数個、例えば5チヤンふル装置し、それぞれ
所定の元素に対応したX線を検出する。即ち、分光結晶
6を短波長側から・長波長側、あるいは長波長側から短
波長側に走査させながらX線を検出器7で検出して電気
信号に変換し、計測装置8でその大きさを測定してX葺
、喫スペクトルデータとして統括制御装置18に取り込
む。
またEDSセンサである半導体検出器20により試料9
からのX線を検出し、X線エネルギーに比例した電圧パ
ルスを多重波高分析器21によりエネルギースペクトル
に変換し、統括制御装置18!こエネルギー弁別データ
として取り込む。
統括制御装置18では取り込んだデータを必要に応して
スペクトル表示装置22にスペクトル表示し、また後述
するように記憶装置19の波長テ−プルを参照して指定
したピーク位置に対応する元素基、X線名、また次数0
8表示する。また、ジg1″ステック17により制御袋
W14〜16を$1fTIL、X、Y、Z駆動部11〜
13によりステージ10を移動して試149への電子ビ
ームの暇射位置を選択できるようにしている。また、ス
ペクトル表示装置はWDS、EDSのスペクトルをそれ
ぞれ単独あるいは同時に表示することが可能になってい
る。
第2図はW [) S、巳DSスペクトルを同時表示し
た(列で、WDSについては1チヤンネル(TAP拮晶
)、2チヤンイル(P巳′「結晶)についての表示がさ
れている場合を示している。そこで。
第2図に示すようなW D SのX線スペクトル33a
、、33b・・・・・・が得られたとし、例えば、第2
千・・ン不ルのスペクトル33bのあるピークが何であ
るか4′J1定するために、画面上で漢方向に移動可能
なカーソル34を動かしてピーク位置に合わせると、統
括制御装置18はカーソル位置から波長a、を算出し、
可能性のある元素基とX線名を図のように表示する。こ
の場合、理論的に検出されると予想されるピーク位置と
比較してピークの一定範囲以内に納まる位置にあればピ
ークとして表示し、また、WDSのスペクトルの場合に
は高次回折X線も検出されるので、指定した次数の高次
回折X線でピーク位置が一定範囲以内にあるものも同定
ピークと見なして表示する。すなわち、波長λ。をカー
ソルで合わせたピーク位置(波長)とし、Wをλ。のf
t[&の幅とし、nを次数とし、同定される特性X線の
波長をλとすると、に。−W≦nλ≦λ、+−w   
   ・・・・・・(I)の条件を満たず特性X線とそ
の時の次数nを波長テーブルより検索して表示する。た
だしn =1,2゜・・Nであり、Nは指定した最大次
数である。
一方EDSのスペクトルの場合には高次回折X線の現象
はないので、例えば図の31のようなスペクトルが得ら
れた場合、カーソル32を所定ピーク位置に合わせ、そ
の時のエネルギーの値の一定範囲以内に入るX線名を表
示する。即ち、E0ヲカーソルで合わせたピーク位置(
エネルギー)、、!:1.−1l】をRoの前後の工フ
ルギー幅とし、同定する特性:(線のエヱルギーを巳と
するとIミ。−U≦!E≦E6峯U       ・・
・・・・(2)の条件を満たす特性X線名を表示する。
()を上:よ〜VDSのみまたはE D SのみのX線
スペクトルの同定方法であるが、WDS複故本に已DS
のスペクトルが同一画面上に表示され、た第2図のよう
な場合に対しては、例えはWDS側にカー・lルを合γ
Dせた時、その波長λ(入)、X線の工、r冒しギーE
(eW)との間に E= 12398/λ         ・旧・・(3
)という関係があることを利用し、EDSスペクトル上
にも該当するエネルギー位置にカーソルを表示してW 
D SとEDSの両スペクトルに′11シてそ十りぞれ
(11式、(2)弐を八だす該当する元素基およびX線
名を表示する。また、WDS側とは反対にEl) S側
にカーソルを合わせた時は(3)の関係式から’vV 
D Sスペクトル上にも該当する波長位置にカーソルを
表示してEDSとWDSの両者のスペクトルに灯して同
様な処理を行うようにする。
このWDS/El)S同時元素同定の処理フローについ
て第3図により説明する まず表示画面上でカーソル位置を指定しくステップ■)
、指定されたカーソル位置がWDS側がE I) S側
か′fJI断しくステ、ブ■)、WDS側で1hればそ
のカーソル位置から波長λ。を算出すると共に、λ。よ
りEoを算出する(ステップ■、■)。またEDS側で
あればカーソル位置がらエネルギーE0を算出すると共
に、巳。よりλ。を(γ出する(ステップ■、■)。そ
して、算出したよ。に対して一定範囲以内こあるλを波
長テーブルより検索し、その元素基、X線名、次数を表
示する(ステップ■、■)。
次に算出したEoに対し一定範囲内5含に納まる巳を同
)・ηに波長テーブルより検索し、その時の元素基、X
線名を表示しくステップ■、(D)、同定処理を終了し
、次の同定処理に移る(ステップ0)。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、WDS、EDSの両スペ
クトルを同一画面上に表示可能にし、WDSまたはED
Sの一方にカーソルを表示、するとそれに応じてEDS
またはWl)Sの該当するエネルギー位置または波長位
置を表示できるので、WDSとEDSに共通なピークが
存在するか否かの判定が一目瞭然に判明し、また各スペ
クトルのピーク位置にカーソルを合わせてピーク同定を
行うと、WDS、EDSの両スペクトルにおいてもピー
ク付近に該当する元素名、X線名あるいは次数が表示さ
れるため、元素同定がより而単に確実に行うことが可能
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の定性分析方法を実施するための装置構
成を示す図、第2図はスペクトル表示装置の表示例を示
す図、第3図はWDS/EDS同時元素同定のフローチ
ャートを示す図である。 1・・・電子銃、2・・・加速1掻、34・・・収束レ
ンズ、5・・・電子ビーム、6・・・分光結晶、7・・
・検出器、8・・・計i!II!1装置、9・・・1犬
料、10・・ステージ、11゜12.13・・・駆動部
、14,15.16・・・fll tiH装置、17・
・・ジ3イステンク、18・・・統括制御装置、19・
・・制御装置、20・・・半導体検出器、21・・・多
重波高分析器、22・・・スペクトル表示装置、23・
・・プリンタ。 出   願 人

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)エネルギー分散型X線分光器から得られるエネル
    ギー分散X線スペクトルと、複数の波長分散型X線分光
    器を走査して得られる波長分散X線スペクトルとを表示
    するようにした定性分析方法であって、前記両スペクト
    ルの一方のスペクトルの指定したピークに対して所定範
    囲内に入る元素名、X線名等を表示すると共に、他方の
    スペクトルの対応するピーク位置と、該ピーク位置に対
    して所定範囲内に入る元素名、X線名等を表示するよう
    にしたことを特徴とするX線分光器を用いた定性分析方
    法。
JP63189193A 1988-07-28 1988-07-28 X線分光器を用いた定性分析方法 Pending JPH0238850A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63189193A JPH0238850A (ja) 1988-07-28 1988-07-28 X線分光器を用いた定性分析方法
FR8910151A FR2634889B1 (fr) 1988-07-28 1989-07-27 Microanalyseur a sonde electronique ayant un spectrometre a rayons x dispersif de la longueur d'onde et un spectrometre a rayons x dispersif de l'energie
US07/386,416 US4988872A (en) 1988-07-28 1989-07-27 Electron probe microanalyzer having wavelength-dispersive x-ray spectrometer and energy-dispersive x-ray spectrometer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63189193A JPH0238850A (ja) 1988-07-28 1988-07-28 X線分光器を用いた定性分析方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0238850A true JPH0238850A (ja) 1990-02-08

Family

ID=16237073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63189193A Pending JPH0238850A (ja) 1988-07-28 1988-07-28 X線分光器を用いた定性分析方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4988872A (ja)
JP (1) JPH0238850A (ja)
FR (1) FR2634889B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06174623A (ja) * 1992-12-11 1994-06-24 Chichibu Cement Co Ltd 流動体の粘度測定装置

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5044001A (en) * 1987-12-07 1991-08-27 Nanod Ynamics, Inc. Method and apparatus for investigating materials with X-rays
DE3921040C2 (de) * 1989-06-27 1994-03-10 Balzers Hochvakuum Verfahren und Anordnung zum Steuern der Verdampfung von Material von einem Zielobjekt durch einen Strahl geladener Teilchen und Verwendung, sowie Verfahren und Meßanordnung zum selektiven Messen einer verdampften Partikelmenge zur Durchführung des Verfahrens
JP2922940B2 (ja) * 1989-11-22 1999-07-26 株式会社日立製作所 エネルギ分散形x線分析装置
US5146098A (en) * 1991-04-05 1992-09-08 Vlsi Technology, Inc. Ion beam contamination sensor
US5299138A (en) * 1991-08-09 1994-03-29 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Desk top spectrum analyzer
EP0554935A1 (en) * 1992-02-03 1993-08-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Combined X-ray spectrometer
JPH0712755A (ja) * 1993-06-23 1995-01-17 Res Dev Corp Of Japan 電子線装置の調整方法および装置
US5798525A (en) * 1996-06-26 1998-08-25 International Business Machines Corporation X-ray enhanced SEM critical dimension measurement
JPH10142173A (ja) * 1996-11-06 1998-05-29 Jeol Ltd 電子プローブマイクロアナライザ等のklmマーカ表示制御装置
JP3511826B2 (ja) * 1997-01-23 2004-03-29 株式会社島津製作所 蛍光x線分析装置
DE19737569A1 (de) * 1997-08-28 1998-02-26 Olaf Sommer Inst Fuer Festkoer Verfahren zur zerstörungsfreien Ermittlung der Tiefenverteilung von Partikeln in einer Matrix
JP3062685B2 (ja) * 1998-07-23 2000-07-12 セイコーインスツルメンツ株式会社 蛍光x線分析計
FI110820B (fi) * 1998-08-24 2003-03-31 Outokumpu Oy Menetelmä alkuainepitoisuuksien määrittämiseksi
US6452177B1 (en) * 1998-09-04 2002-09-17 California Institute Of Technology Atmospheric electron x-ray spectrometer
US6292532B1 (en) * 1998-12-28 2001-09-18 Rigaku Industrial Corporation Fluorescent X-ray analyzer useable as wavelength dispersive type and energy dispersive type
JP4874697B2 (ja) * 2006-04-14 2012-02-15 日本電子株式会社 電子プローブx線分析装置及びその動作方法
JP2008122267A (ja) * 2006-11-14 2008-05-29 Jeol Ltd 試料分析方法及び試料分析装置
US7873143B2 (en) * 2007-12-03 2011-01-18 X-Ray Optical Systems, Inc. Sliding sample cell insertion and removal apparatus for x-ray analyzer
US8155270B2 (en) * 2008-08-04 2012-04-10 Thermo Electron Scientific Instruments Llc Synergistic energy-dispersive and wavelength-dispersive X-ray spectrometry
DE102013209104A1 (de) 2013-05-16 2014-11-20 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur spektroskopischen Analyse
CN107941830A (zh) * 2017-12-27 2018-04-20 钢研纳克检测技术股份有限公司 X射线荧光光谱仪的分布分析图像采集与数据处理系统

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60257051A (ja) * 1984-06-01 1985-12-18 Hitachi Ltd エネルギ−分散型x線検出器

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3204095A (en) * 1960-12-21 1965-08-31 Hitachi Ltd Electron probe microanalyzer with means to eliminate the effect of surface irregularities
NL270945A (ja) * 1961-03-02
US3333100A (en) * 1964-07-06 1967-07-25 United States Steel Corp Coating thickness measuring apparatus wherein a scanning electron beam produces characteristic x-rays detected by plural detectors
GB1148646A (en) * 1967-02-16 1969-04-16 Cambridge Instr Co Ltd X-ray microanalysers
DE1952283C3 (de) * 1969-10-17 1974-01-03 Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen Einrichtung zur Bestimmung und Registrierung des Anteils und der Verteilung von digital anfallenden Meßwerten
JPS5514379B2 (ja) * 1973-05-30 1980-04-16
US3942005A (en) * 1974-12-12 1976-03-02 Hitachi, Ltd. Electron scanning apparatus
JPS5481075A (en) * 1977-11-24 1979-06-28 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Method of detecting article image using electron beam
US4253154A (en) * 1979-01-11 1981-02-24 North American Philips Corporation Line scan and X-ray map enhancement of SEM X-ray data
US4331872A (en) * 1979-06-29 1982-05-25 Nippon Steel Corporation Method for measurement of distribution of inclusions in a slab by electron beam irradiation
US4288692A (en) * 1979-08-06 1981-09-08 Tracor Northern, Inc. Beam current normalization in an X-ray microanalysis instrument
JPS56114269A (en) * 1980-02-15 1981-09-08 Internatl Precision Inc Scanning type electronic microscope
JPS6126846A (ja) * 1984-07-17 1986-02-06 Jeol Ltd X線マイクロアナライザによる試料の分析方法
JPH0676975B2 (ja) * 1984-09-26 1994-09-28 新技術事業団 表面原子配列構造の観察方法
US4857731A (en) * 1987-04-17 1989-08-15 Jeol Ltd. Instrument for analyzing specimen
US4777364A (en) * 1987-06-15 1988-10-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Defect detection and thickness mapping of the passivation layer(s) of integrated circuits
JPS6417369A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Jeol Ltd Spectrum display unit in x-ray microanalyzer and the like

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60257051A (ja) * 1984-06-01 1985-12-18 Hitachi Ltd エネルギ−分散型x線検出器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06174623A (ja) * 1992-12-11 1994-06-24 Chichibu Cement Co Ltd 流動体の粘度測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
FR2634889A1 (fr) 1990-02-02
FR2634889B1 (fr) 1994-04-29
US4988872A (en) 1991-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0238850A (ja) X線分光器を用いた定性分析方法
US6292532B1 (en) Fluorescent X-ray analyzer useable as wavelength dispersive type and energy dispersive type
Floyd et al. Inductively coupled plasma-atomic emission spectroscopy: a computer controlled, scanning monochromator system for the rapid sequential determination of the elements
JP4874697B2 (ja) 電子プローブx線分析装置及びその動作方法
US4037101A (en) Method and apparatus for analyzing fine grained substances
JP3928656B2 (ja) エネルギー分散型エックス線回折・分光装置
EP3521814B1 (en) Wavelength-dispersive x-ray fluorescence spectrometer and x-ray fluorescence analysing method using the same
US4885465A (en) Spectrum display device for x-ray microanalyzer or the like
US20090052620A1 (en) Apparatus and Method for X-Ray Analysis of Chemical State
CN1040251C (zh) 样品表面分析中校正本底的方法和装置
NO151764B (no) Baerbar elementanalyseenhet
CN114641687B (zh) 荧光x射线分析装置
JP2000283933A (ja) 蛍光x線分析装置
JP3572333B2 (ja) 蛍光x線分析装置
JPH0247542A (ja) X線分光器を用いた定量分析方法
JPH0238851A (ja) X線マイクロアナライザ等における定性分析方法
JP3635340B2 (ja) 蛍光x線分析装置
KR0172623B1 (ko) 오염 원소 농도 분석 방법 및 장치
JP2000199749A (ja) 蛍光x線分析装置
JP3312003B2 (ja) 蛍光x線分析装置
JPH09178680A (ja) X線マイクロアナライザ等におけるスペクトル表示装置
JPS58196446A (ja) X線マイクロアナライザ−を用いた分析方法
SU868503A1 (ru) Рентгеновский спектрометр
JP2000105207A (ja) 蛍光x線分析方法および装置
JPS63165742A (ja) 検量線作成方法