JP2000046769A - 分析装置 - Google Patents
分析装置Info
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- JP2000046769A JP2000046769A JP10213206A JP21320698A JP2000046769A JP 2000046769 A JP2000046769 A JP 2000046769A JP 10213206 A JP10213206 A JP 10213206A JP 21320698 A JP21320698 A JP 21320698A JP 2000046769 A JP2000046769 A JP 2000046769A
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- analysis
- analyzer
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】現在測定中のスペクトルと、他の所望のスペク
トルを同時に３次元的に表示する。 【解決手段】制御装置６は、同時表示の設定、同時表示
する既存のスペクトルの設定がなされると、当該設定さ
れた既存のスペクトルをモニタ７に表示し、現在の測定
によって得られたスペクトルを、その既存のスペクトル
と同時に３次元的にモニタ７に表示する。シーケンス分
析の場合には、設定された各分析点でのスペクトルを同
時に３次元的にモニタ７に表示する。
トルを同時に３次元的に表示する。 【解決手段】制御装置６は、同時表示の設定、同時表示
する既存のスペクトルの設定がなされると、当該設定さ
れた既存のスペクトルをモニタ７に表示し、現在の測定
によって得られたスペクトルを、その既存のスペクトル
と同時に３次元的にモニタ７に表示する。シーケンス分
析の場合には、設定された各分析点でのスペクトルを同
時に３次元的にモニタ７に表示する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、点分析が可能な分析装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、エネルギー分散型Ｘ線検出器
（ＥＤＳ）を備えた分析装置では、試料に電子ビームを
照射したときに、試料から放射されるＸ線をＥＤＳによ
り検出し、その検出信号に基づいてスペクトルを得るこ
とが行われている。ＥＤＳを備えた分析装置に限らず、
試料から放射された放射線を検出してスペクトルを得る
分析装置は種々知られている。
（ＥＤＳ）を備えた分析装置では、試料に電子ビームを
照射したときに、試料から放射されるＸ線をＥＤＳによ
り検出し、その検出信号に基づいてスペクトルを得るこ
とが行われている。ＥＤＳを備えた分析装置に限らず、
試料から放射された放射線を検出してスペクトルを得る
分析装置は種々知られている。
【０００３】また、ＥＤＳを備えた分析装置では、シー
ケンス分析と称される分析も行われている。シーケンス
分析とは、試料上に複数の分析点を定め、それらの分析
点に、順次、電子ビームを所定時間ずつ照射し、ＥＤＳ
３により各分析点から放射されるＸ線を検出していく分
析手法であり、各分析点について一つのスペクトルが得
られる。
ケンス分析と称される分析も行われている。シーケンス
分析とは、試料上に複数の分析点を定め、それらの分析
点に、順次、電子ビームを所定時間ずつ照射し、ＥＤＳ
３により各分析点から放射されるＸ線を検出していく分
析手法であり、各分析点について一つのスペクトルが得
られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おける分析では、現在測定中のスペクトルしか表示され
ないので、当該現在測定中のスペクトルと、標準試料を
分析して得られたスペクトルや、他の分析点のスペクト
ル等、現在測定中のスペクトル以外の既存の所望のスペ
クトルとを比較しようとした場合には、現在の測定が終
了するまで待つ必要があり、効率よく分析を行うことが
できないものであった。
おける分析では、現在測定中のスペクトルしか表示され
ないので、当該現在測定中のスペクトルと、標準試料を
分析して得られたスペクトルや、他の分析点のスペクト
ル等、現在測定中のスペクトル以外の既存の所望のスペ
クトルとを比較しようとした場合には、現在の測定が終
了するまで待つ必要があり、効率よく分析を行うことが
できないものであった。
【０００５】そこで、本発明は、現在測定中のスペクト
ルだけでなく、その他の既存の所望のスペクトルをも同
時に表示することができる分析装置を提供することを目
的とするものである。
ルだけでなく、その他の既存の所望のスペクトルをも同
時に表示することができる分析装置を提供することを目
的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載の分析装置は、試料から放射される
Ｘ線等の放射線を検出してスペクトルを表示可能な分析
装置において、現在測定中のスペクトルと、その他の所
望のスペクトルとを同時に表示可能となされていること
を特徴とする。
めに、請求項１記載の分析装置は、試料から放射される
Ｘ線等の放射線を検出してスペクトルを表示可能な分析
装置において、現在測定中のスペクトルと、その他の所
望のスペクトルとを同時に表示可能となされていること
を特徴とする。
【０００７】請求項２記載の分析装置は、少なくともシ
ーケンス分析が可能な分析装置において、当該シーケン
ス分析における複数の分析点での測定スペクトルを３次
元的に同時に表示可能となされていることを特徴とす
る。
ーケンス分析が可能な分析装置において、当該シーケン
ス分析における複数の分析点での測定スペクトルを３次
元的に同時に表示可能となされていることを特徴とす
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図１は本発明に係る分析装置の一
実施形態を示す図であり、図中、１は分析装置本体、２
は２次電子検出器、３はＥＤＳ、４は試料、６は制御装
置、７はモニタ、８は入力装置、９はメモリを示す。
態について説明する。図１は本発明に係る分析装置の一
実施形態を示す図であり、図中、１は分析装置本体、２
は２次電子検出器、３はＥＤＳ、４は試料、６は制御装
置、７はモニタ、８は入力装置、９はメモリを示す。
【０００９】分析装置本体１は、走査電子顕微鏡の機能
と、ＥＤＳ３によるＸ線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体１の内部には、２
次電子検出器２、ＥＤＳ３、試料４が備えられている。
なお、分析装置本体１の内部には、電子銃、各種のレン
ズ、走査電子顕微鏡の機能を達成するための装置、Ｘ線
分析装置の機能を達成するための装置等、種々の装置が
備えられているが、本発明においては本質的な事項では
ないので、図１では省略している。
と、ＥＤＳ３によるＸ線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体１の内部には、２
次電子検出器２、ＥＤＳ３、試料４が備えられている。
なお、分析装置本体１の内部には、電子銃、各種のレン
ズ、走査電子顕微鏡の機能を達成するための装置、Ｘ線
分析装置の機能を達成するための装置等、種々の装置が
備えられているが、本発明においては本質的な事項では
ないので、図１では省略している。
【００１０】制御装置６は、ＣＰＵ及びその周辺回路で
構成されており、２次電子検出器２からの信号を取り込
んで走査電子顕微鏡像（以下、ＳＥＭ像と称す）を形成
する処理、ＥＤＳ３からの信号を取り込んでスペクトル
を生成する処理、その生成したスペクトルに基づいて定
性分析等の所定の分析を行う処理、シーケンス分析を行
うための処理等の所定の処理を行う。
構成されており、２次電子検出器２からの信号を取り込
んで走査電子顕微鏡像（以下、ＳＥＭ像と称す）を形成
する処理、ＥＤＳ３からの信号を取り込んでスペクトル
を生成する処理、その生成したスペクトルに基づいて定
性分析等の所定の分析を行う処理、シーケンス分析を行
うための処理等の所定の処理を行う。
【００１１】入力装置８はキーボード、マウスで構成さ
れている。メモリ９には、ＳＥＭ像、ＥＤＳ３から取り
込んだ信号、生成したスペクトル等が格納される。な
お、制御装置６、モニタ７及び入力装置８はパーソナル
コンピュータ、あるいはワークステーションによって構
成することができる。
れている。メモリ９には、ＳＥＭ像、ＥＤＳ３から取り
込んだ信号、生成したスペクトル等が格納される。な
お、制御装置６、モニタ７及び入力装置８はパーソナル
コンピュータ、あるいはワークステーションによって構
成することができる。
【００１２】さて、いま、オペレータが当該分析装置に
より試料のＸ線分析を行おうとし、その際に既存の所望
のスペクトルを同時に観察したいとする。このとき、オ
ペレータは、入力装置８から、これから測定するスペク
トルと既存のスペクトルとを同時に表示する、同時表示
の設定、これから測定するスペクトルと同時に観察した
い既存のスペクトルの設定、及びこれから測定を行うＸ
線分析の設定を行う。制御装置６は、これら設定された
内容を認識し、設定されたＸ線分析を行うために分析装
置本体１の種々の装置を制御すると共に、設定された既
存のスペクトルをメモリ９から読み出してモニタ７に３
次元的に表示する。
より試料のＸ線分析を行おうとし、その際に既存の所望
のスペクトルを同時に観察したいとする。このとき、オ
ペレータは、入力装置８から、これから測定するスペク
トルと既存のスペクトルとを同時に表示する、同時表示
の設定、これから測定するスペクトルと同時に観察した
い既存のスペクトルの設定、及びこれから測定を行うＸ
線分析の設定を行う。制御装置６は、これら設定された
内容を認識し、設定されたＸ線分析を行うために分析装
置本体１の種々の装置を制御すると共に、設定された既
存のスペクトルをメモリ９から読み出してモニタ７に３
次元的に表示する。
【００１３】このときの表示の例を図２に示す。図２は
２つの既存のスペクトルが設定された場合の例であり、
例えば、１番目に設定された既存のスペクトルは図のＡ
で示すように一番奥に表示され、２番目に設定された既
存のスペクトルは図のＢで示すように、その手前に表示
されている。一番手前にはこれから測定されるスペクト
ルが表示されるので、この段階ではスペクトルは表示さ
れていない。なお、図には示していないが、スペクトル
の横軸はエネルギー（ｅＶ）、縦軸はカウント数であ
る。
２つの既存のスペクトルが設定された場合の例であり、
例えば、１番目に設定された既存のスペクトルは図のＡ
で示すように一番奥に表示され、２番目に設定された既
存のスペクトルは図のＢで示すように、その手前に表示
されている。一番手前にはこれから測定されるスペクト
ルが表示されるので、この段階ではスペクトルは表示さ
れていない。なお、図には示していないが、スペクトル
の横軸はエネルギー（ｅＶ）、縦軸はカウント数であ
る。
【００１４】次に、制御装置６は、分析装置本体１に対
してＸ線分析の開始を指示する。これによってＸ線分析
が開始され、制御装置６はＥＤＳ３からの信号を取り込
み、スペクトルを生成して、そのスペクトルを、図２に
示す既存のスペクトルが表示されている画像の一番手前
の位置に重畳表示する。
してＸ線分析の開始を指示する。これによってＸ線分析
が開始され、制御装置６はＥＤＳ３からの信号を取り込
み、スペクトルを生成して、そのスペクトルを、図２に
示す既存のスペクトルが表示されている画像の一番手前
の位置に重畳表示する。
【００１５】その表示例を図３に示す。図中、Ａ，Ｂは
図２に示すものと同じであり、これらの２つの既存のス
ペクトルに加えて、今回の測定によって得られているス
ペクトルが図のＣで示すように、一番手前側に表示され
る。
図２に示すものと同じであり、これらの２つの既存のス
ペクトルに加えて、今回の測定によって得られているス
ペクトルが図のＣで示すように、一番手前側に表示され
る。
【００１６】以上のようであるので、この分析装置によ
れば、現在測定中のスペクトルと、既存の所望のスペク
トルを同時に３次元的に表示することができるので、相
互のスペクトルの比較を測定中にも容易に行うことがで
き、作業効率を向上させることができる。
れば、現在測定中のスペクトルと、既存の所望のスペク
トルを同時に３次元的に表示することができるので、相
互のスペクトルの比較を測定中にも容易に行うことがで
き、作業効率を向上させることができる。
【００１７】次に、シーケンス分析を行う場合について
説明する。シーケンス分析を行う場合には、まず分析装
置の走査電子顕微鏡の機能を用いてＳＥＭ像を得、その
ＳＥＭ像をモニタ７上で観察して複数の分析点を定め、
それらの分析点に番号を付すと共に、それらの分析点の
位置を登録する。
説明する。シーケンス分析を行う場合には、まず分析装
置の走査電子顕微鏡の機能を用いてＳＥＭ像を得、その
ＳＥＭ像をモニタ７上で観察して複数の分析点を定め、
それらの分析点に番号を付すと共に、それらの分析点の
位置を登録する。
【００１８】このようにして分析点の番号、及び位置を
登録したら、オペレータは入力装置８から、シーケンス
分析の設定、各分析点でのスペクトルの３次元同時表示
の設定を行い、シーケンス分析の開始を指示する。
登録したら、オペレータは入力装置８から、シーケンス
分析の設定、各分析点でのスペクトルの３次元同時表示
の設定を行い、シーケンス分析の開始を指示する。
【００１９】制御装置６は、これら設定された内容を認
識し、まず、１番目の分析点の位置に電子ビームを所定
時間照射させ、そのときにＥＤＳ３から出力される信号
を取り込んで１番目の分析点でのスペクトルを生成し
て、モニタ７の所定の位置に表示する。１番目の分析点
での測定が終了すると、制御装置６は次に２番目の分析
点の位置に電子ビームを所定時間照射させ、そのときに
ＥＤＳ３から出力される信号を取り込んで２番目の分析
点でのスペクトルを生成して、１番目の分析点でのスペ
クトルが表示されている画面に、同時にモニタ７の所定
の位置に表示する。以下、この動作を最後の分析点まで
行う。これによって、モニタ７には、設定された全ての
分析点でのスペクトルが同時に３次元的に表示される。
識し、まず、１番目の分析点の位置に電子ビームを所定
時間照射させ、そのときにＥＤＳ３から出力される信号
を取り込んで１番目の分析点でのスペクトルを生成し
て、モニタ７の所定の位置に表示する。１番目の分析点
での測定が終了すると、制御装置６は次に２番目の分析
点の位置に電子ビームを所定時間照射させ、そのときに
ＥＤＳ３から出力される信号を取り込んで２番目の分析
点でのスペクトルを生成して、１番目の分析点でのスペ
クトルが表示されている画面に、同時にモニタ７の所定
の位置に表示する。以下、この動作を最後の分析点まで
行う。これによって、モニタ７には、設定された全ての
分析点でのスペクトルが同時に３次元的に表示される。
【００２０】その表示例を図４に示す。図４は分析点が
５つ設定された場合の例であり、一番奥に１番目の分析
点である分析点１でのスペクトルが表示され、以下、２
番目の分析点である分析点２でのスペクトル、３番目の
分析点である分析点３でのスペクトル、４番目の分析点
である分析点４でのスペクトル、５番目の分析点である
分析点５でのスペクトルの順に手前側に表示されてい
る。
５つ設定された場合の例であり、一番奥に１番目の分析
点である分析点１でのスペクトルが表示され、以下、２
番目の分析点である分析点２でのスペクトル、３番目の
分析点である分析点３でのスペクトル、４番目の分析点
である分析点４でのスペクトル、５番目の分析点である
分析点５でのスペクトルの順に手前側に表示されてい
る。
【００２１】このように、この分析装置によれば、シー
ケンス分析を行う場合に、全ての分析点でのスペクトル
が同時に３次元的に表示されるので、各分析点での組成
等を測定中にも容易に比較することができ、作業効率を
向上させることができる。
ケンス分析を行う場合に、全ての分析点でのスペクトル
が同時に３次元的に表示されるので、各分析点での組成
等を測定中にも容易に比較することができ、作業効率を
向上させることができる。
【００２２】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能であることは当然である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能であることは当然である。
【図１】 本発明に係る分析装置の一実施形態を示す図
である。
である。
【図２】 既存のスペクトルの３次元表示の例を示す図
である。
である。
【図３】 測定中のスペクトルと、既存のスペクトルの
同時表示の例を示す図である。
同時表示の例を示す図である。
【図４】 シーケンス分析における各分析点でのスペク
トルの同時表示の例を示す図である。
トルの同時表示の例を示す図である。
１…分析装置本体、２…２次電子検出器、３…ＥＤＳ、
４…試料、６…制御装置、７…モニタ、８…入力装置、
９…メモリ。
４…試料、６…制御装置、７…モニタ、８…入力装置、
９…メモリ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 37/252 Ｈ０１Ｊ 37/252 Ａ (72)発明者 太田 康則 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 十文字 清 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA04 BA05 CA01 DA01 FA01 FA06 GA01 GA06 HA13 JA13 JA17 JA20 KA01 5C033 PP05 PP06 5C082 AA11 BA13 BA16 BA27 BB14 CA02 CA06 CA55 DA61 MM10
Claims (2)
- 【請求項１】試料から放射されるＸ線等の放射線を検出
してスペクトルを表示可能な分析装置において、現在測
定中のスペクトルと、その他の所望のスペクトルとを同
時に表示可能となされていることを特徴とする分析装
置。 - 【請求項２】少なくともシーケンス分析が可能な分析装
置において、当該シーケンス分析における複数の分析点
での測定スペクトルを３次元的に同時に表示可能となさ
れていることを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213206A JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213206A JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000046769A true JP2000046769A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16635305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10213206A Pending JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000046769A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002250706A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP2011027673A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2011038998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2013104676A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2014235415A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | 株式会社島津製作所 | 光学測定装置、並びに、測定結果表示方法及び測定結果表示プログラム |
| JP2015099102A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | セイコー・イージーアンドジー株式会社 | 放射能測定装置 |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP10213206A patent/JP2000046769A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002250706A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 分析装置 |
| JP2011027673A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2011038998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2013104676A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
| JP2014235415A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | 株式会社島津製作所 | 光学測定装置、並びに、測定結果表示方法及び測定結果表示プログラム |
| JP2015099102A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | セイコー・イージーアンドジー株式会社 | 放射能測定装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040315 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040421 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040811 |