JP2000046768A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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- JP2000046768A JP2000046768A JP10213204A JP21320498A JP2000046768A JP 2000046768 A JP2000046768 A JP 2000046768A JP 10213204 A JP10213204 A JP 10213204A JP 21320498 A JP21320498 A JP 21320498A JP 2000046768 A JP2000046768 A JP 2000046768A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】Ｘ線マッピングにおいて、試料上の各走査位置
に含まれる元素の同定を正確に行い、その同定元素の濃
度を正確に得る。 【解決手段】ＭＣＡ５は、電子ビームが試料１上の走査
領域のどの位置に照射されているかを認識し、その走査
位置におけるスペクトルを検知する。そして、ＭＣＡ５
は、このとき検知したスペクトルを、スペクトルマッピ
ングメモリ１０の当該走査位置に対応するアドレスに書
き込む。処理装置７は、ＭＣＡ１０によるスペクトルマ
ッピングメモリ１０へのスペクトルの書き込みとは非同
期でスペクトルマッピングメモリ１０をアクセス可能で
あり、取り込んだスペクトルデータに対して所定の処理
を施して、試料１上の各走査位置に含まれる元素の同
定、及びその同定した元素の濃度を求め、それに基づい
て同定した元素のマッピング像を生成してモニタ８に表
示する処理を行う。
に含まれる元素の同定を正確に行い、その同定元素の濃
度を正確に得る。 【解決手段】ＭＣＡ５は、電子ビームが試料１上の走査
領域のどの位置に照射されているかを認識し、その走査
位置におけるスペクトルを検知する。そして、ＭＣＡ５
は、このとき検知したスペクトルを、スペクトルマッピ
ングメモリ１０の当該走査位置に対応するアドレスに書
き込む。処理装置７は、ＭＣＡ１０によるスペクトルマ
ッピングメモリ１０へのスペクトルの書き込みとは非同
期でスペクトルマッピングメモリ１０をアクセス可能で
あり、取り込んだスペクトルデータに対して所定の処理
を施して、試料１上の各走査位置に含まれる元素の同
定、及びその同定した元素の濃度を求め、それに基づい
て同定した元素のマッピング像を生成してモニタ８に表
示する処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線分析装置に係
り、特に、Ｘ線マッピングが可能なＸ線分析装置に関す
る。
り、特に、Ｘ線マッピングが可能なＸ線分析装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線マッピングが可能なＸ線分析
装置が知られている。ここで、Ｘ線マッピングとは、試
料の所望の領域を電子ビームで走査し、そのときに試料
から放出されるＸ線を電子ビームの走査と同期してＸ線
検出器で検出し、その検出したＸ線のエネルギー、及び
カウント数を解析して、当該走査領域の各位置に含まれ
る元素、及びその濃度を分析して、組成元素毎の濃度分
布を表すマッピング像を作成、表示する分析手法であ
り、その元素毎のマッピング像は、所定の濃度範囲毎に
所定の色が割り当てられてカラー表示としてされたり、
あるいは所定の濃度範囲毎に所定の輝度が割り当てられ
てモノクロ画像として表示されたりしている。また、マ
ッピング像をプリンタで出力することも行われている。
装置が知られている。ここで、Ｘ線マッピングとは、試
料の所望の領域を電子ビームで走査し、そのときに試料
から放出されるＸ線を電子ビームの走査と同期してＸ線
検出器で検出し、その検出したＸ線のエネルギー、及び
カウント数を解析して、当該走査領域の各位置に含まれ
る元素、及びその濃度を分析して、組成元素毎の濃度分
布を表すマッピング像を作成、表示する分析手法であ
り、その元素毎のマッピング像は、所定の濃度範囲毎に
所定の色が割り当てられてカラー表示としてされたり、
あるいは所定の濃度範囲毎に所定の輝度が割り当てられ
てモノクロ画像として表示されたりしている。また、マ
ッピング像をプリンタで出力することも行われている。
【０００３】そのようなＸ線マッピングが可能なＸ線分
析装置の概略の構成例、及び動作を図３を参照して説明
する。図３において、１は試料、２は偏向系、３はＸ線
検出器、４は信号処理部、５はマルチチャネルアナライ
ザ（以下、ＭＣＡと称す）、６は元素マッピングメモ
リ、７は処理装置、８はモニタを示す。
析装置の概略の構成例、及び動作を図３を参照して説明
する。図３において、１は試料、２は偏向系、３はＸ線
検出器、４は信号処理部、５はマルチチャネルアナライ
ザ（以下、ＭＣＡと称す）、６は元素マッピングメモ
リ、７は処理装置、８はモニタを示す。
【０００４】電子ビームは偏向系２によって、試料１上
の所定の領域を走査する。なお、偏向系２は処理装置７
によって制御されるようになされている。即ち、装置処
理７から走査信号が供給され、それによって試料１上の
所定の領域を走査するようになされている。
の所定の領域を走査する。なお、偏向系２は処理装置７
によって制御されるようになされている。即ち、装置処
理７から走査信号が供給され、それによって試料１上の
所定の領域を走査するようになされている。
【０００５】Ｘ線検出器３は、試料１の所定の領域が電
子ビームによって走査されたときに、電子ビームが照射
されている位置から放出されるＸ線を検出するものであ
る。ここではＸ線検出器３としてはエネルギー分散型Ｘ
線検出器（以下、ＥＤＳと称す）を用いるものとする。
子ビームによって走査されたときに、電子ビームが照射
されている位置から放出されるＸ線を検出するものであ
る。ここではＸ線検出器３としてはエネルギー分散型Ｘ
線検出器（以下、ＥＤＳと称す）を用いるものとする。
【０００６】信号処理部４は、ＥＤＳ３の出力信号に対
して所定の信号処理を施すものであり、最終的には信号
をＡ／Ｄ変換して、デジタルデータとしてＭＣＡ５に出
力する。なお、信号処理部４における信号処理は周知で
あるので、詳細な説明は省略する。
して所定の信号処理を施すものであり、最終的には信号
をＡ／Ｄ変換して、デジタルデータとしてＭＣＡ５に出
力する。なお、信号処理部４における信号処理は周知で
あるので、詳細な説明は省略する。
【０００７】ＭＣＡ５は、信号処理部４からのデジタル
データを取り込んで、どのチャネルにどれだけのカウン
ト数があるかを検知するもので、周知のものであるが、
このＭＣＡ５には、予めチャネルに対して元素が定めら
れている。即ち、例えば、ｉ番目のチャネルからｊ番目
のチャネルまでのチャネル範囲にカウントがあった場合
には、そのカウントはアルミニウムＡｌによるものであ
ると定められている。各元素に対してこのようなチャネ
ル範囲が定められているのである。
データを取り込んで、どのチャネルにどれだけのカウン
ト数があるかを検知するもので、周知のものであるが、
このＭＣＡ５には、予めチャネルに対して元素が定めら
れている。即ち、例えば、ｉ番目のチャネルからｊ番目
のチャネルまでのチャネル範囲にカウントがあった場合
には、そのカウントはアルミニウムＡｌによるものであ
ると定められている。各元素に対してこのようなチャネ
ル範囲が定められているのである。
【０００８】元素マッピングメモリ６は、予めオペレー
タによって指定された元素について用意されるものであ
り、試料１の走査領域に対応するサイズを有している。
そして、試料１上のある走査位置において、ある元素に
ついてカウントがあった場合には、ＭＣＡ５によって、
当該元素のマッピングメモリの当該走査位置に対応する
アドレスには、当該カウント数が書き込まれる。このこ
とについては後に詳述する。
タによって指定された元素について用意されるものであ
り、試料１の走査領域に対応するサイズを有している。
そして、試料１上のある走査位置において、ある元素に
ついてカウントがあった場合には、ＭＣＡ５によって、
当該元素のマッピングメモリの当該走査位置に対応する
アドレスには、当該カウント数が書き込まれる。このこ
とについては後に詳述する。
【０００９】処理装置７は、元素マッピングメモリ６に
書き込まれているデータを取り込み、所定のデータ処理
を行って、マッピング像を生成して、モニタ８に表示す
るものであり、この処理装置７、モニタ８は、例えばパ
ーソナルコンピュータで構成することができる。なお、
図示してはいないが、処理装置７にはキーボードやマウ
ス等の入力装置が含まれているものとする。
書き込まれているデータを取り込み、所定のデータ処理
を行って、マッピング像を生成して、モニタ８に表示す
るものであり、この処理装置７、モニタ８は、例えばパ
ーソナルコンピュータで構成することができる。なお、
図示してはいないが、処理装置７にはキーボードやマウ
ス等の入力装置が含まれているものとする。
【００１０】さて、このような構成のＸ線分析装置にお
いてＸ線マッピングを行う場合の動作について説明す
る。なお、ここでは元素マッピングメモリ６として、ア
ルミニウムＡｌ、銅Ｃｕ、鉄Ｆｅの３種類の元素のマッ
ピングメモリが用意されているものとする。
いてＸ線マッピングを行う場合の動作について説明す
る。なお、ここでは元素マッピングメモリ６として、ア
ルミニウムＡｌ、銅Ｃｕ、鉄Ｆｅの３種類の元素のマッ
ピングメモリが用意されているものとする。
【００１１】処理装置７は、試料１上の走査領域が指定
されると、当該走査領域を走査するための走査信号を生
成して偏向系２と、ＭＣＡ５に供給する。これにより電
子ビームの走査が開始され、試料１から放出されたＸ線
はＥＤＳ３により検出され、そのＥＤＳ３の出力信号は
所定の信号処理が施されてＭＣＡ５に入力される。
されると、当該走査領域を走査するための走査信号を生
成して偏向系２と、ＭＣＡ５に供給する。これにより電
子ビームの走査が開始され、試料１から放出されたＸ線
はＥＤＳ３により検出され、そのＥＤＳ３の出力信号は
所定の信号処理が施されてＭＣＡ５に入力される。
【００１２】ＭＣＡ５は、処理装置７からの走査信号に
よって、現在電子ビームが試料１上の走査領域のどの位
置に照射されているかを認識すると共に、そのときに信
号処理部４から入力されるデジタルデータに基づいて、
どのチャネルにどれだけのカウント数があるか、即ち、
どの元素のカウント数がどれだけであるかを検知する。
よって、現在電子ビームが試料１上の走査領域のどの位
置に照射されているかを認識すると共に、そのときに信
号処理部４から入力されるデジタルデータに基づいて、
どのチャネルにどれだけのカウント数があるか、即ち、
どの元素のカウント数がどれだけであるかを検知する。
【００１３】そして、ＭＣＡ５は、このとき検知した元
素のマッピングメモリの、当該走査位置に対応するアド
レスに、このとき検知したカウント数を書き込む。例え
ば、走査領域が図４の矩形で示すようであるとし、い
ま、図４のＰ1 で示す位置に電子ビームが照射されてお
り、このときＭＣＡ５は、アルミニウムＡｌに定められ
ているチャネル範囲にｍカウントあったと判断すると、
アルミニウムの元素マッピングメモリの、当該走査位置
Ｐ1 に対応するアドレスにカウント数ｍを書き込む。同
様に、図４のＰ2 で示す位置に電子ビームが照射されて
いるとき、鉄Ｆｅに定められているチャネル範囲にｎカ
ウントあり、銅Ｃｕに定められているチャネル範囲にｋ
カウントあったと判断すると、ＭＣＡ５は、鉄の元素マ
ッピングメモリの、当該走査位置Ｐ2 に対応するアドレ
スにはカウント数ｎを書き込み、銅の元素マッピングメ
モリの、当該走査位置Ｐ2 に対応するアドレスにはカウ
ント数ｋを書き込む。
素のマッピングメモリの、当該走査位置に対応するアド
レスに、このとき検知したカウント数を書き込む。例え
ば、走査領域が図４の矩形で示すようであるとし、い
ま、図４のＰ1 で示す位置に電子ビームが照射されてお
り、このときＭＣＡ５は、アルミニウムＡｌに定められ
ているチャネル範囲にｍカウントあったと判断すると、
アルミニウムの元素マッピングメモリの、当該走査位置
Ｐ1 に対応するアドレスにカウント数ｍを書き込む。同
様に、図４のＰ2 で示す位置に電子ビームが照射されて
いるとき、鉄Ｆｅに定められているチャネル範囲にｎカ
ウントあり、銅Ｃｕに定められているチャネル範囲にｋ
カウントあったと判断すると、ＭＣＡ５は、鉄の元素マ
ッピングメモリの、当該走査位置Ｐ2 に対応するアドレ
スにはカウント数ｎを書き込み、銅の元素マッピングメ
モリの、当該走査位置Ｐ2 に対応するアドレスにはカウ
ント数ｋを書き込む。
【００１４】なお、Ｘ線マッピングにおいては、Ｓ／Ｎ
の向上を目的として、走査領域の走査を何回か繰り返し
て行うのが通常であり、その場合にはカウント数を積算
していく。即ち、例えば、１回目の走査において、図４
のＰ1 で示す位置でのアルミニウムのカウント数がｍ1
であるとすると、このときにはアルミニウムの元素マッ
ピングメモリの、当該走査位置Ｐ1 に対応するアドレス
にはカウント数ｍ1 が書き込まれることになるが、２回
目の走査において、走査位置Ｐ1 でのアルミニウムのカ
ウント数がｍ2 であった場合には、ＭＣＡ５は、アルミ
ニウムの元素マッピングメモリの当該走査位置Ｐ1 に対
応するアドレスには、１回目の走査時のカウント数ｍ1
に今回の走査時のカウント数であるｍ2 を積算して書き
込むのである。
の向上を目的として、走査領域の走査を何回か繰り返し
て行うのが通常であり、その場合にはカウント数を積算
していく。即ち、例えば、１回目の走査において、図４
のＰ1 で示す位置でのアルミニウムのカウント数がｍ1
であるとすると、このときにはアルミニウムの元素マッ
ピングメモリの、当該走査位置Ｐ1 に対応するアドレス
にはカウント数ｍ1 が書き込まれることになるが、２回
目の走査において、走査位置Ｐ1 でのアルミニウムのカ
ウント数がｍ2 であった場合には、ＭＣＡ５は、アルミ
ニウムの元素マッピングメモリの当該走査位置Ｐ1 に対
応するアドレスには、１回目の走査時のカウント数ｍ1
に今回の走査時のカウント数であるｍ2 を積算して書き
込むのである。
【００１５】ＭＣＡ５は以上の処理をＸ線マッピングの
終了まで繰り返す。そして、処理装置７は、元素マッピ
ングメモリ８に書き込まれている各元素のマッピングメ
モリのデータを取り込み、所定の処理を施して元素毎の
マッピング像を生成し、モニタ８に表示する。
終了まで繰り返す。そして、処理装置７は、元素マッピ
ングメモリ８に書き込まれている各元素のマッピングメ
モリのデータを取り込み、所定の処理を施して元素毎の
マッピング像を生成し、モニタ８に表示する。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の装置、
動作によれば、Ｘ線マッピングを高速に、短時間で行う
ことができることが知られており、マッピング像によっ
て走査領域内の各元素の濃度分布の概略を知ることがで
きるが、各元素の濃度の正確な値を得ることはできない
ものであった。
動作によれば、Ｘ線マッピングを高速に、短時間で行う
ことができることが知られており、マッピング像によっ
て走査領域内の各元素の濃度分布の概略を知ることがで
きるが、各元素の濃度の正確な値を得ることはできない
ものであった。
【００１７】即ち、上述したように、ＭＣＡ５には、あ
るチャネル範囲にカウントがあった場合には、このカウ
ント数はこの元素のカウント数であるというように、チ
ャネルに対して元素が定められているのであるが、しか
し、例えばアルミニウムに定められているチャネル範囲
にカウント数があったとしても、実際には、そのチャネ
ル範囲にはアルミニウム以外の元素の線によるカウント
も入ってくることもあるのであり、このような他の元素
のカウントをもアルミニウムのカウント数としてしまう
ので、アルミニウムの正確な濃度を得ることはできない
のである。
るチャネル範囲にカウントがあった場合には、このカウ
ント数はこの元素のカウント数であるというように、チ
ャネルに対して元素が定められているのであるが、しか
し、例えばアルミニウムに定められているチャネル範囲
にカウント数があったとしても、実際には、そのチャネ
ル範囲にはアルミニウム以外の元素の線によるカウント
も入ってくることもあるのであり、このような他の元素
のカウントをもアルミニウムのカウント数としてしまう
ので、アルミニウムの正確な濃度を得ることはできない
のである。
【００１８】そこで、本発明は、試料上の各走査位置に
含まれる元素の同定を正確に行うことができ、また、そ
の同定元素の濃度を正確に得ることができるＸ線分析装
置を提供することを目的とするものである。
含まれる元素の同定を正確に行うことができ、また、そ
の同定元素の濃度を正確に得ることができるＸ線分析装
置を提供することを目的とするものである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のＸ線分析装置は、電子ビームを２次元的
に走査する走査手段と、Ｘ線検出器と、Ｘ線検出器の出
力信号に基づいて、どのチャネルにどれだけのカウント
数が入力したかを検知するマルチチャネルアナライザ
と、電子ビームを走査したときの各画素位置におけるマ
ルチチャネルアナライザの出力であるＸ線スペクトル
を、各画素位置毎に記憶するスペクトルマッピングメモ
リと、スペクトルマッピングメモリからスペクトルデー
タを取り込み、マッピング像の生成、及び表示を行う処
理手段とを少なくとも備えることを特徴とする。
めに、本発明のＸ線分析装置は、電子ビームを２次元的
に走査する走査手段と、Ｘ線検出器と、Ｘ線検出器の出
力信号に基づいて、どのチャネルにどれだけのカウント
数が入力したかを検知するマルチチャネルアナライザ
と、電子ビームを走査したときの各画素位置におけるマ
ルチチャネルアナライザの出力であるＸ線スペクトル
を、各画素位置毎に記憶するスペクトルマッピングメモ
リと、スペクトルマッピングメモリからスペクトルデー
タを取り込み、マッピング像の生成、及び表示を行う処
理手段とを少なくとも備えることを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図１は本発明に係るＸ線分析装置
の一実施形態を示す図であり、図中、１０はスペクトル
マッピングメモリを示す。なお、図３に示すものと同等
なものについては同一の符号を付す。
態について説明する。図１は本発明に係るＸ線分析装置
の一実施形態を示す図であり、図中、１０はスペクトル
マッピングメモリを示す。なお、図３に示すものと同等
なものについては同一の符号を付す。
【００２１】図１に示す構成は、ブロック構成的には、
図３に示す従来の元素マッピングメモリ６に代えて、ス
ペクトルマッピングメモリ１０を設けたものであるが、
ＭＣＡ５の動作も異なっている。
図３に示す従来の元素マッピングメモリ６に代えて、ス
ペクトルマッピングメモリ１０を設けたものであるが、
ＭＣＡ５の動作も異なっている。
【００２２】このＸ線分析装置では、ＭＣＡ５は、各走
査位置において、どのチャネルにどれだけのカウント数
があるかを検知する。これは即ち、各走査位置でのスペ
クトルを検知することを意味している。従って、従来の
ように、チャネルに対して元素が定められているような
ことはない。
査位置において、どのチャネルにどれだけのカウント数
があるかを検知する。これは即ち、各走査位置でのスペ
クトルを検知することを意味している。従って、従来の
ように、チャネルに対して元素が定められているような
ことはない。
【００２３】スペクトルマッピングメモリ１０は、試料
１の走査領域に対応するサイズを有している。そして、
後述するように、スペクトルマッピングメモリ１０の各
アドレスには、各アドレスと対応する試料１上の走査位
置で検出されたスペクトルがＭＣＡ５によって書き込ま
れる。
１の走査領域に対応するサイズを有している。そして、
後述するように、スペクトルマッピングメモリ１０の各
アドレスには、各アドレスと対応する試料１上の走査位
置で検出されたスペクトルがＭＣＡ５によって書き込ま
れる。
【００２４】以下、動作について説明する。処理装置７
は、試料１上の走査領域が指定されると、当該走査領域
を走査するための走査信号を生成して偏向系２と、ＭＣ
Ａ５に供給する。これにより電子ビームの走査が開始さ
れ、試料１から放出されたＸ線はＥＤＳ３により検出さ
れ、そのＥＤＳ３の出力信号は所定の信号処理が施され
てＭＣＡ５に入力される。
は、試料１上の走査領域が指定されると、当該走査領域
を走査するための走査信号を生成して偏向系２と、ＭＣ
Ａ５に供給する。これにより電子ビームの走査が開始さ
れ、試料１から放出されたＸ線はＥＤＳ３により検出さ
れ、そのＥＤＳ３の出力信号は所定の信号処理が施され
てＭＣＡ５に入力される。
【００２５】ＭＣＡ５は、処理装置７からの走査信号に
よって、現在電子ビームが試料１上の走査領域のどの位
置に照射されているかを認識すると共に、そのときに信
号処理部４から入力されるデジタルデータに基づいて、
当該走査位置でのスペクトルを検知する。
よって、現在電子ビームが試料１上の走査領域のどの位
置に照射されているかを認識すると共に、そのときに信
号処理部４から入力されるデジタルデータに基づいて、
当該走査位置でのスペクトルを検知する。
【００２６】そして、ＭＣＡ５は、このとき検知したス
ペクトルを、スペクトルマッピングメモリ１０の当該走
査位置に対応するアドレスに書き込む。このような動作
によって、スペクトルマッピングメモリ１０の各アドレ
スには、そのアドレスと対応する試料１の走査位置から
放出されたＸ線のスペクトルが書き込まれることにな
る。なお、走査領域の走査を何回か繰り返す場合には、
ＭＣＡ５は、各走査位置でのスペクトルを積算する。即
ち、何回目かの走査時に、ある走査位置であるスペクト
ルが得られた場合に、今回の走査時に得られたスペクト
ルを、スペクトルマッピングメモリ１０の当該走査位置
に対応するアドレスに書き込むについて、ＭＣＡ１０
は、当該アドレスにこれまで書き込まれているスペクト
ルに積算して書き込んでいくのである。ＭＣＡ５は以上
の処理をＸ線マッピングの終了まで繰り返す。
ペクトルを、スペクトルマッピングメモリ１０の当該走
査位置に対応するアドレスに書き込む。このような動作
によって、スペクトルマッピングメモリ１０の各アドレ
スには、そのアドレスと対応する試料１の走査位置から
放出されたＸ線のスペクトルが書き込まれることにな
る。なお、走査領域の走査を何回か繰り返す場合には、
ＭＣＡ５は、各走査位置でのスペクトルを積算する。即
ち、何回目かの走査時に、ある走査位置であるスペクト
ルが得られた場合に、今回の走査時に得られたスペクト
ルを、スペクトルマッピングメモリ１０の当該走査位置
に対応するアドレスに書き込むについて、ＭＣＡ１０
は、当該アドレスにこれまで書き込まれているスペクト
ルに積算して書き込んでいくのである。ＭＣＡ５は以上
の処理をＸ線マッピングの終了まで繰り返す。
【００２７】処理装置７は、ＭＣＡ１０によるスペクト
ルマッピングメモリ１０へのスペクトルの書き込みとは
非同期でスペクトルマッピングメモリ１０をアクセス可
能となされており、スペクトルマッピングメモリ１０か
らスペクトルデータを取り込み、そのスペクトルデータ
に対して所定の処理を施して、試料１上の各走査位置に
含まれる元素の同定、及びその同定した元素の濃度を求
め、それに基づいて同定した元素のマッピング像を生成
してモニタ８に表示する処理を行う。従って、処理装置
７では、スペクトルの収集が終了するまで待つことな
く、スペクトルの収集中においてもマッピング像の生成
の処理を行うことができるので、例えば、所定の時間毎
にスペクトルマッピングメモリ１０からスペクトルデー
タを取り込んでマッピング像の生成、表示を行えば、次
第にＳ／Ｎが向上し、精度が上がっていくマッピング像
を観察することができることになる。このことは明らか
である。なぜなら、今回スペクトルマッピングメモリ１
０から取り込んだスペクトルデータは、前回スペクトル
マッピングメモリ１０から取り込んだスペクトルデータ
に、更にこの間に測定されたスペクトルデータが積算さ
れたものであるからである。
ルマッピングメモリ１０へのスペクトルの書き込みとは
非同期でスペクトルマッピングメモリ１０をアクセス可
能となされており、スペクトルマッピングメモリ１０か
らスペクトルデータを取り込み、そのスペクトルデータ
に対して所定の処理を施して、試料１上の各走査位置に
含まれる元素の同定、及びその同定した元素の濃度を求
め、それに基づいて同定した元素のマッピング像を生成
してモニタ８に表示する処理を行う。従って、処理装置
７では、スペクトルの収集が終了するまで待つことな
く、スペクトルの収集中においてもマッピング像の生成
の処理を行うことができるので、例えば、所定の時間毎
にスペクトルマッピングメモリ１０からスペクトルデー
タを取り込んでマッピング像の生成、表示を行えば、次
第にＳ／Ｎが向上し、精度が上がっていくマッピング像
を観察することができることになる。このことは明らか
である。なぜなら、今回スペクトルマッピングメモリ１
０から取り込んだスペクトルデータは、前回スペクトル
マッピングメモリ１０から取り込んだスペクトルデータ
に、更にこの間に測定されたスペクトルデータが積算さ
れたものであるからである。
【００２８】以上のようであるので、このＸ線分析装置
によれば、試料１上の各走査位置に含まれる元素の同定
を正確に行うことができ、また、その同定元素の濃度を
正確に得ることができる。また、所定時間毎にスペクト
ルマッピングメモリ１０からスペクトルデータを取り込
んでマッピング像を生成し、表示するようにすれば、ス
ペクトルの収集の途中であっても概略のマッピング像を
観察することが可能となる。
によれば、試料１上の各走査位置に含まれる元素の同定
を正確に行うことができ、また、その同定元素の濃度を
正確に得ることができる。また、所定時間毎にスペクト
ルマッピングメモリ１０からスペクトルデータを取り込
んでマッピング像を生成し、表示するようにすれば、ス
ペクトルの収集の途中であっても概略のマッピング像を
観察することが可能となる。
【００２９】なお、マッピング像の表示の仕方として
は、次のような方法もある。以下に述べるマッピング像
の表示方法は、次第にマッピング像の解像度を上げてい
く方法である。
は、次のような方法もある。以下に述べるマッピング像
の表示方法は、次第にマッピング像の解像度を上げてい
く方法である。
【００３０】処理装置１０は、所定の時間毎にスペクト
ルマッピングメモリ１０からスペクトルデータを取り込
む。そして、第１回目にスペクトルデータを取り込んだ
ときには、例えば図２（ａ）に示すように走査領域を４
分割し、各分割領域毎に、それぞれの分割領域に含まれ
る走査位置での全てのスペクトルデータの平均値をと
り、その平均スペクトルに基づいて当該分割領域に含ま
れる元素の同定、及び同定元素の濃度を求め、その結果
に基づいてマッピング像を生成してモニタ８に表示す
る。このとき表示される、ある同定元素のマッピング像
は、図２（ｂ）に示すように４分割して表示されること
になる。なお、これら４つの各分割領域における当該元
素の濃度は、同じであることもあり、異なることもあ
る。
ルマッピングメモリ１０からスペクトルデータを取り込
む。そして、第１回目にスペクトルデータを取り込んだ
ときには、例えば図２（ａ）に示すように走査領域を４
分割し、各分割領域毎に、それぞれの分割領域に含まれ
る走査位置での全てのスペクトルデータの平均値をと
り、その平均スペクトルに基づいて当該分割領域に含ま
れる元素の同定、及び同定元素の濃度を求め、その結果
に基づいてマッピング像を生成してモニタ８に表示す
る。このとき表示される、ある同定元素のマッピング像
は、図２（ｂ）に示すように４分割して表示されること
になる。なお、これら４つの各分割領域における当該元
素の濃度は、同じであることもあり、異なることもあ
る。
【００３１】次に、その所定時間後、第２回目にスペク
トルデータを取り込んだときには、例えば走査領域を４
（縦）×４（横）に１６分割し、各分割領域毎に、それ
ぞれの分割領域に含まれる走査位置での全てのスペクト
ルデータの平均値をとり、その平均スペクトルに基づい
て当該分割領域に含まれる元素の同定、及び同定元素の
濃度を求め、その結果に基づいてマッピング像を生成し
てモニタ８に表示する。
トルデータを取り込んだときには、例えば走査領域を４
（縦）×４（横）に１６分割し、各分割領域毎に、それ
ぞれの分割領域に含まれる走査位置での全てのスペクト
ルデータの平均値をとり、その平均スペクトルに基づい
て当該分割領域に含まれる元素の同定、及び同定元素の
濃度を求め、その結果に基づいてマッピング像を生成し
てモニタ８に表示する。
【００３２】以下、同様にして、スペクトルデータを取
り込む度毎に分割数を増やしていく。これにより、次第
に解像度、及び精度が上がっていくマッピング像を観察
することが可能となる。
り込む度毎に分割数を増やしていく。これにより、次第
に解像度、及び精度が上がっていくマッピング像を観察
することが可能となる。
【００３３】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。
【図１】 本発明に係るＸ線分析装置の一実施形態を示
す図である。
す図である。
【図２】 マッピング像の表示方法の例を示す図であ
る。
る。
【図３】 Ｘ線マッピングが可能なＸ線分析装置の概略
の構成例を示す図である。
の構成例を示す図である。
【図４】 図３において、ＭＣＡ５による元素マッピン
グメモリ６へのカウント数の書き込みを説明するための
図である。
グメモリ６へのカウント数の書き込みを説明するための
図である。
１…試料、２…偏向系、３…Ｘ線検出器、４…信号処理
部、５…マルチチャネルアナライザ（ＭＣＡ）、６…元
素マッピングメモリ、７…処理装置、８…モニタ、１０
…スペクトルマッピングメモリ。
部、５…マルチチャネルアナライザ（ＭＣＡ）、６…元
素マッピングメモリ、７…処理装置、８…モニタ、１０
…スペクトルマッピングメモリ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA05 CA01 DA01 FA04 FA06 FA08 GA01 GA06 GA13 HA07 HA09 HA13 JA02 JA03 JA13 JA16 KA01 LA02 NA06 NA10 NA13 NA17 5C033 PP05 PP06
Claims (1)
- 【請求項１】電子ビームを２次元的に走査する走査手段
と、 Ｘ線検出器と、 Ｘ線検出器の出力信号に基づいて、どのチャネルにどれ
だけのカウント数が入力したかを検知するマルチチャネ
ルアナライザと、 電子ビームを走査したときの各画素位置におけるマルチ
チャネルアナライザの出力であるＸ線スペクトルを、各
画素位置毎に記憶するスペクトルマッピングメモリと、 スペクトルマッピングメモリからスペクトルデータを取
り込み、マッピング像の生成、及び表示を行う処理手段
とを少なくとも備えることを特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213204A JP2000046768A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213204A JP2000046768A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000046768A true JP2000046768A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16635270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10213204A Withdrawn JP2000046768A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000046768A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002365246A (ja) * | 2001-06-08 | 2002-12-18 | Seiko Instruments Inc | Ｘ線マッピング分析方法 |
| JP2009250867A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | エネルギー分散型ｘ線分光器を備えるｘ線分析装置 |
| CN102680505A (zh) * | 2011-03-09 | 2012-09-19 | 精工电子纳米科技有限公司 | X线分析装置 |
| JP2021508039A (ja) * | 2018-06-21 | 2021-02-25 | エルジー・ケム・リミテッド | 分離膜活性層の製造前に分離膜活性層を構成するアミン化合物を定量する方法、分離膜活性層中のポリアミド又は未反応のアミン化合物を定量する方法、及び分離膜活性層の製造条件の設定基準又は製造条件を設定する方法 |
| JPWO2020059439A1 (ja) * | 2018-09-19 | 2021-08-30 | 株式会社堀場製作所 | 元素検出方法、元素検出装置、及びコンピュータプログラム |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP10213204A patent/JP2000046768A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP7318852B2 (ja) | 2018-06-21 | 2023-08-01 | エルジー・ケム・リミテッド | 分離膜活性層の製造前に分離膜活性層を構成するアミン化合物を定量する方法、分離膜活性層中のポリアミド又は未反応のアミン化合物を定量する方法、及び分離膜活性層の製造条件の設定基準又は製造条件を設定する方法 |
| JPWO2020059439A1 (ja) * | 2018-09-19 | 2021-08-30 | 株式会社堀場製作所 | 元素検出方法、元素検出装置、及びコンピュータプログラム |
| JP7263379B2 (ja) | 2018-09-19 | 2023-04-24 | 株式会社堀場製作所 | 元素検出方法、元素検出装置、及びコンピュータプログラム |
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|---|---|---|---|
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