JPWO2020059439A1 - 元素検出方法、元素検出装置、及びコンピュータプログラム - Google Patents
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Abstract
試料のごく一部に含まれている元素についても容易に検出することができる元素検出方法、元素検出装置、及びコンピュータプログラムを提供する。
放射線による試料の走査を行い、走査が行われた試料上の走査領域から発生した放射線を検出し、走査領域に含まれる複数の点の夫々から発生した放射線のスペクトルを生成し、試料に含まれる元素の検出を行う元素検出方法において、複数の点の夫々にスペクトルを関連付けたスペクトル分布を生成し、走査領域の広さ以下の広さを有する1以上の数の小領域を走査領域から抽出する抽出処理と、各小領域に含まれる複数の点に関連付けられた複数のスペクトルを合成した合成スペクトルを生成する合成処理と、各小領域について生成した合成スペクトルに基づいて、試料に含まれる元素を検出する元素検出処理とを行い、各小領域の広さを変化させて、抽出処理、合成処理及び元素検出処理を繰り返す。
Description
(実施形態1)
図1は、元素検出装置10の構成を示すブロック図である。元素検出装置10は、蛍光X線分析装置である。元素検出装置10は、X線を照射する照射部21と、試料4が載置される試料台23と、X線を検出するX線検出器22とを備えている。照射部21は、例えばX線管を用いて構成されている。照射部21は、X線を放射し、放射されたX線は、試料台23に載置された試料4へ照射される。
実施形態2に係る元素検出装置10は、元素について計算した得点と比較する閾値を変更する処理を行う。元素検出装置10の構成は実施形態1と同様である。図10は、実施形態2に係る元素検出装置10が実行する処理の手順を示すフローチャートである。元素検出装置10は、X線で試料4の走査を行い(S201)、蛍光X線の検出及び蛍光X線のスペクトルの生成を順次行う。分析部1のCPU11は、以下の処理をコンピュータプログラム141に従って実行する。
実施形態3に係る元素検出装置10は、試料4の一部に含まれる物質を検出する処理を行う。元素検出装置10の構成は実施形態1と同様である。図13は、実施形態3に係る元素検出装置10が実行する処理の手順を示すフローチャートである。元素検出装置10は、実施形態1に係るS101〜S111の処理、又は実施形態2に係るS201〜S212の処理によって、試料4に含まれている元素を検出する(S31)。分析部1は、元素の検出結果に基づいて、走査領域に含まれる特徴領域を抽出する(S32)。特徴領域は、走査領域に含まれる複数の点の内、他の大部分の点と組成が異なる点からなる領域である。例えば、試料4のごく一部に含まれている元素に由来するピークの強度が所定値以上になるスペクトルが関連付けられている点が特徴点であり、複数の特徴点が集まった領域が特徴領域である。特徴領域は複数存在することがある。
10 元素検出装置
11 CPU
14 記憶部
141 コンピュータプログラム
21 照射部
22 X線検出器
23 試料台
31 制御部
32 信号処理部
33 駆動部
4 試料
Claims (8)
- 放射線による試料の走査を行い、前記走査が行われた前記試料上の走査領域から発生した放射線を検出し、前記走査領域に含まれる複数の点の夫々から発生した放射線のスペクトルを生成し、前記試料に含まれる元素の検出を行う元素検出方法において、
前記複数の点の夫々に前記スペクトルを関連付けたスペクトル分布を生成し、
前記走査領域の広さ以下の広さを有する1以上の数の小領域を前記走査領域から抽出する抽出処理と、
各小領域に含まれる複数の点に関連付けられた複数のスペクトルを合成した合成スペクトルを生成する合成処理と、
各小領域について生成した前記合成スペクトルに基づいて、前記試料に含まれる元素を検出する元素検出処理とを行い、
各小領域の広さを変化させて、前記抽出処理、前記合成処理及び前記元素検出処理を繰り返すこと
を特徴とする元素検出方法。 - 前記元素検出処理では、前記小領域の広さを変化させる前の前記元素検出処理で検出された元素は前記試料に含まれているものとして、各元素の有無を判定すること
を特徴とする請求項1に記載の元素検出方法。 - 前記元素検出処理では、
各小領域について生成した前記合成スペクトルに含まれるピークの位置に基づいて、前記試料の各小領域に対応する部分に複数の元素の夫々が含まれる確からしさを表す得点を計算し、
前記得点と所定の閾値との比較に基づいて各元素の有無を判定することにより、前記試料に含まれる元素を検出すること
を特徴とする請求項1又は2に記載の元素検出方法。 - 各小領域について前記合成スペクトルを生成するために合成されるスペクトルの数に応じて前記閾値を変更すること
を特徴とする請求項3に記載の元素検出方法。 - 前記元素検出処理では、前記得点が前記閾値を超過する元素が前記試料に含まれていると判定し、
前記合成スペクトルを生成するために合成されるスペクトルの数が小さいほど前記閾値を小さくすること
を特徴とする請求項4に記載の元素検出方法。 - 前記元素検出処理により検出した元素の夫々について元素分布を生成すること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれか一つに記載の元素検出方法。 - 放射線による試料の走査を行う走査部と、前記走査が行われた前記試料上の走査領域から発生した放射線を検出する放射線検出部と、前記走査領域に含まれる複数の点の夫々から発生した放射線のスペクトルを生成するスペクトル生成部と、前記試料に含まれる元素を検出するための処理を行う分析部とを備える元素検出装置において、
前記分析部は、
前記複数の点の夫々に前記スペクトルを関連付けたスペクトル分布を生成し、
前記走査領域の広さ以下の広さを有する1以上の数の小領域を前記走査領域から抽出する抽出処理と、
各小領域に含まれる複数の点に関連付けられた複数のスペクトルを合成した合成スペクトルを生成する合成処理と、
各小領域について生成した前記合成スペクトルに基づいて、前記試料に含まれる元素を検出する元素検出処理とを行い、
各小領域の広さを変化させて、前記抽出処理、前記合成処理及び前記元素検出処理を繰り返すこと
を特徴とする元素検出装置。 - コンピュータに、試料上の複数の点の夫々に各点から発生した放射線のスペクトルが関連付けられたスペクトル分布に基づいて、前記試料に含まれる元素の検出を行わせるコンピュータプログラムにおいて、
コンピュータに、
前記試料上の前記複数の点が含まれる領域から、該領域の広さ以下の広さを有する1以上の数の小領域を抽出する抽出ステップと、
各小領域に含まれる複数の点に関連付けられた複数のスペクトルを合成した合成スペクトルを生成する合成ステップと、
各小領域について生成した前記合成スペクトルに基づいて、前記試料に含まれる元素を検出する元素検出ステップと、
各小領域の広さを変化させて、前記抽出ステップ、前記合成ステップ及び前記元素検出ステップを繰り返すステップと
を含む処理を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
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---|---|---|---|---|
JP2000046768A (ja) * | 1998-07-28 | 2000-02-18 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
JP2000155089A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 分散性評価方法 |
JP2006119108A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fujitsu Ltd | 分析装置及び検査方法 |
JP2009250867A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線分光器を備えるx線分析装置 |
JPWO2013084905A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置 |
US20170115241A1 (en) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | Trustees Of Princeton University | Transition edge sensor for x-ray fluorescence (tes-xrf) for high resolution material identification |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000046768A (ja) * | 1998-07-28 | 2000-02-18 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
JP2000155089A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 分散性評価方法 |
JP2006119108A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fujitsu Ltd | 分析装置及び検査方法 |
JP2009250867A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線分光器を備えるx線分析装置 |
JPWO2013084905A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置 |
US20170115241A1 (en) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | Trustees Of Princeton University | Transition edge sensor for x-ray fluorescence (tes-xrf) for high resolution material identification |
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